【課題】基材との密着性に優れた金属酸化膜を備えた金属酸化膜被覆部材、特に純粋な金属酸化膜に近い光学特性を有し、光学被膜として利用可能な金属酸化膜被覆部材を提供することである。
【解決手段】基材と、該基材に形成される金属酸化膜とを有する金属酸化膜被覆部材であって、前記金属酸化膜は、蒸着物質により構成され、その一部が前記基材内に浸透している。可視光領域での前記金属酸化膜の反射率は、完全に酸化された金属酸化膜における理論値との差が０．２％以内である。 （もっと読む）

【課題】観賞した人に３次元的に形成された模様を見ているかのような印象を与えることができる光透過性部材を提供する。
【解決手段】断面が多角形の柱状体であって、その側面１２，１３に模様が形成されているから、光透過性部材１０をどの方向から見ても、光透過性部材１０の側面１２，１３に形成されている模様が内部に浮いているように見える。しかも、側面１２，１３に形成されている模様が複数存在しているかのように見えるから、光透過性部材１０を見た人に対して特徴的な印象を与えることができる。同様に、端面１４に模様が形成されていれば、模様の形成されていない端面や側面から見ると、光透過性部材１０の端面に形成されている模様が内部に浮いているように見え、端面１４に形成されている模様が複数存在しているかのように見えるから、光透過性部材１０を見た人に対して特徴的な印象を与えることができる。 （もっと読む）

【課題】ＣｅＯ₂などの金属不純物がほとんど検出されず、かつ表面粗さも１ÅＲＭＳ以下であっても、理論透過率より０．５％以上も透過率が低いことがあり、問題となる。
【解決手段】光学素材の表面をＨＦする前、又はＨＦ処理後、ｌ００℃以上１０００℃以下の温度で熱処理することを特徴とする紫外用光学素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に微小な凸状の表面欠陥のないマスクブランクス用ガラス基板及びその製造方法、並びに該基板を用いたマスクブランクス、及びその製造方法、並びに、転写マスク及びその製造方法、及び半導体装置の製造方法を得ること可能にする。
【解決手段】ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】表面全体に均一な強化処理ができ、耐熱性等が向上したマルチレンズアレイの強
化処理方法を提供する。
【解決手段】マトリクス状に配列された多数の小レンズ１２ａが形成されたレンズ部１２
の面を、強化処理槽２０に収容された溶融塩溶液ＬＱの液面ＬＳに対して、略垂直に保っ
たまま浸漬する浸漬工程と、溶融塩溶液ＬＱの液中で多数の小レンズ１２ａが形成された
レンズ部１２の面を溶融塩溶液ＬＱの液面ＬＳに向ける旋回工程と、マルチレンズアレイ
１０のレンズ部１２の面を溶融塩溶液ＬＱの液面ＬＳ方向に向けた状態で、溶融塩溶液Ｌ
Ｑの液面ＬＳに沿った水平方向に揺動する揺動工程と、強化処理が施されたマルチレンズ
アレイ１０を溶融塩溶液ＬＱ中から引き上げる引き上げ工程と、マルチレンズアレイ１０
の徐冷および自然冷却を行う冷却工程により、マルチレンズアレイ１０の強化処理を行う
。 （もっと読む）

【課題】表面全体に均一な強化処理ができ、耐熱性等が向上したマルチレンズアレイの強
化処理方法を提供する。
【解決手段】マトリクス状に配列された多数の小レンズ１２ａが形成されたレンズ部１２
の面を、強化処理槽２０に収容された溶融塩溶液ＬＱの液面ＬＳに対して、略垂直に保っ
たまま浸漬する浸漬工程と、溶融塩溶液ＬＱ中でマルチレンズアレイ１０の多数の小レン
ズ１２ａが形成されたレンズ部１２の面の垂直方向を回転軸として回転する回転工程と、
強化処理が施されたマルチレンズアレイ１０を溶融塩溶液ＬＱ中から引き上げる引き上げ
工程と、マルチレンズアレイ１０の徐冷および自然冷却を行う冷却工程により、マルチレ
ンズアレイ１０の強化処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 白ヤケを除去したあと、ガラス製品の品質を高く維持することを可能とする。
【解決手段】 洗浄剤を用いて、超音波洗浄によりガラス製品の白ヤケを洗浄して、ガラス製品から白ヤケを除去する。とくに、２０〜４００ＫＨ_Zの周波数および１０〜１５０mＶの音圧の超音波洗浄によりガラス製品の白ヤケを洗浄する。 （もっと読む）

【課題】ピットやスクラッチのような凹欠点を有する基板表面を平滑化する方法の提供。
【解決手段】凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法であって、乾式成膜法を用いて前記凹欠点を有するガラス基板表面に、流動点Ｔｆが１５０℃以上前記ガラス基板の歪点Ｔｓ（℃）以下のガラス質材料からなる膜を形成する工程、および前記ガラス質材料からなる膜を前記Ｔｆ以上前記Ｔｓ以下の温度で加熱処理して、前記ガラス質材料からなる膜が欠点を埋めるように流動できるような状態とした後、前記ガラス質材料からなる膜を冷却することにより、前記凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化する方法。 （もっと読む）

【課題】偏心精度が高くかつ形状精度の高い成形用型を得る。
【解決手段】ガラス型６０の製造方法は、対向配置されたマスタ型２及びプレス型３とこれらを嵌挿するスリーブ４とで構成される型セット１の内部にガラス素材６を配置し、型セット１とガラス素材６をまとめて加熱して該ガラス素材６が加熱軟化した後に押圧して成形するものであり、スリーブ４と該スリーブ４よりも線膨張率の大きいマスタ型２とがしまり嵌めとなるように型セット１及びガラス素材６を成形温度まで加熱する工程と、プレス型３をマスタ型２に接近移動させて、加熱軟化したガラス素材６を押圧する工程と、プレス型３がガラス素材６に所定の押圧荷重を加えたまま徐冷する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズの製法において、簡便な方法でレンズの真球度を向上させる。
【解決手段】石英基板１０の表面上に多数のレジスト層Ｓをホトリソグラフィ処理により形成した後、レジスト層Ｓに加熱リフロー処理を施して各レジスト層に凸球面状パターンを付与する。エッチング室内で黒鉛電極板１２上に基板１０を載置すると共に基板１０の周囲に酸素発生材としての石英板１４ａ〜１４ｄ，１６ａ〜１６ｄを配置する。このような状態でＣＦ_４をエッチングガスとする反応性イオンエッチング処理により各レジスト層の凸球面状パターンを基板１０の表面に転写してレンズを形成する。電極板１２の露出面積をＳ１、レジストパターンの基板１０への投影面積をＳ２、基板１０を含む酸素発生部の露出面積をＳ３としたとき、面積比（Ｓ１＋Ｓ２）／Ｓ３を７〜４５の範囲内の値に設定すると、真球度の良いレンズが得られる。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法及び製造工程によって複屈折領域を有するガラス材料を製造可能な方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るガラスの製造方法においては、レーザ光をガラス材料に照射することにより、当該ガラス材料に複屈折を付与している。 （もっと読む）

【課題】反射防止機能を損なうことなく、表面の耐傷付性を向上させることができ、人の手や身体が触れたり、他の部材と接触したりするような部位にも適用することができる反射防止構造を提供する。
【解決手段】基板上に、例えばアルミナやチタニアなどの透明金属酸化物から成る花弁状膜が形成され、さらにこの花弁状膜の上に、例えばＳｉＯ_２やＭｇＦ_２、ＣａＦ_２などから選ばれた無機酸化物又は無機フッ化物、あるいはこれらの混合物を含む多孔質膜を少なくとも１層の形成する。 （もっと読む）

【課題】大きなガラスの表面の均一な塗装を実現すること
【解決手段】本発明は、一般水準で大きな表面領域を有するガラス製品の塗装方法に関する。本発明はまた、前記方法で製造され、塗装されたガラス製品に関する。塗装は、超短パルスレーザー蒸着によって行われ、パルスレーザー光は回転する該レーザー光を反射する少なくとも一つのミラーを備える光学的スキャナでスキャンされる。本発明は、産業的にも品質的にも有利な効果を有し、低い製造温度でガラス製品を塗装することを達成し、高い生産率で、高い塗装の品質及び全体的に低い製造コストを実現する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用反射型マスクなどに使用されるガラス基板のように極めて高い表面平滑性と表面精度が要求されるガラス基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】主表面が研磨されている、ＳｉＯ_２を主成分とするガラス基板であって、前記主表面の凹状欠点の深さおよび凸状欠点の高さが２ｎｍ以下であり、かつこれら凹状欠点および凸状欠点の半値幅が６０ｎｍ以下であるマスクブランクス用ガラス基板。平均一次粒子径が６０ｎｍ以下のコロイダルシリカ、酸および水を含み、ｐＨが０．５〜４の範囲になるように調整してなる研磨スラリーを用いて、ガラス基板をナップ層の圧縮率が１０％以上、圧縮弾性率が８５％以上である研磨パッドで研磨する。 （もっと読む）

【課題】速やかに成膜でき、しかも不純物が少なく、フッ素系薄膜を基材表面に安定に形成可能なフッ素系薄膜製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも１以上の加水分解性基を有するフッ素含有シラン系界面活性剤と、該界面活性剤と相互作用し得る触媒と、該界面活性剤、触媒、及び該界面活性剤と触媒との反応物を溶解しうるフッ素系溶媒との混合物を、水分の存在下に加水分解反応をさせて触媒溶液を調製する工程と、該界面活性剤と該溶媒との混合物に該触媒溶液を添加・攪拌しフッ素系薄膜形成溶液を調整する工程と、該形成溶液中に基材を浸漬する工程と浸漬した基材を乾燥し基材表面にフッ素系薄膜を形成する工程とを備えたフッ素系薄膜基材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】熱膨張率が高いガラス素材であっても、容量が小さい場合であっても、形状が一定で、ガラス容量も一定である複数のガラス素材またはガラス素材群を、高い生産効率で歩留よく製造する方法、このガラス素材または上記ガラス素材群を構成するガラス素材を用いて、ガラス光学素子を高い生産効率で製造する方法を提供する。
【解決手段】100〜300℃の平均線膨張係数αhが120×10^-7/℃ 以上である光学ガラスからなる溶融ガラスを流出パイプから順次受け型に滴下し、又は流下しつつ分離し、冷却して、複数の予備成形したガラス素球を調製し、このガラス素球を、（転移温度−80℃）〜（転移温度＋50℃）の範囲に加熱し、冷却する加熱処理を行い、加熱処理後の複数のガラス素球の表面の少なくとも一部または全部を、機械的加工により除去して精密ガラス球とする成形用ガラス素材の製造方法。上記方法により製造したガラス素材を、加熱により軟化した状態で成形型によってプレス成形する、ガラス光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 機械的強度を有し、ガラス基板の熱強化処理に伴う高温に絶えうる耐熱性を有する、耐熱性ＵＶ膜を備え、相当量のＵＶ光をブロックできるディフューザを提供すること。
【解決手段】 相当量の紫外（ＵＶ）光をブロックできるディフューザが、照明系に提供されている。本発明の所定の実施例において、ディフューザは、相当量のＵＶ光をブロックする１つ以上のＵＶ膜を支持するガラス基板を備え、もってディフューザを通過しうるＵＶ光の量を低減する。所定の実施例において、膜は、フリット母材中に無機粒子を有し、その結果、膜が可視光を拡散すると共にＵＶ光をブロックすることともなる。 （もっと読む）

【課題】所望の形状の凹部を有する凹部付き部材を提供すること、所望の形状の凹部を有する凹部付き部材を容易かつ確実に製造することができる凹部付き部材の製造方法を提供すること、前記凹部付き部材を用いて製造されるレンズ基板を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】本発明の凹部付き部材の製造方法は、多数の凹部を有する凹部付き部材の製造方法であって、基材上に、多数の開口部を有するマスクを形成するマスク形成工程と、マスクが形成された基材に対してエッチング液を用いたエッチングを施すことにより、凹部を形成するエッチング工程とを有し、凹部の形成過程において形成される中間凹部が設けられた基材に対して、振動数が１８ｋＨｚ以上の高周波振動を付与することにより、マスクのうち、中間凹部上に存在し基材に密着していない部分を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】可視部透過性に優れ、赤外線遮蔽性に優れた赤外線遮蔽フィルター、該フィルターを形成するのに好適な金属微粒子分散物を提供する。
【解決手段】金属微粒子を含む分散物の分光吸収スヘ゜クトルが、下記一般式Xを満たすことを特徴とする金属微粒子分散物である。X= Amax/Bmax ≦0.25、Amax＝450nm〜650nmの分光吸収スヘ゜クトルの最大値、Bmax＝700nm〜1200nmの分光吸収スヘ゜クトルの最大値である。この金属微粒子分散物を用いて形成された赤外線遮蔽フィルターは、可視部透明性に優れ、赤外線遮蔽性に優れる。 （もっと読む）

【課題】所望の形状の凹部を有する凹部付き部材を提供すること、所望の形状の凹部を有する凹部付き部材を容易かつ確実に製造することができる凹部付き部材の製造方法を提供すること、前記凹部付き部材を用いて製造されるレンズ基板を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】本発明の凹部付き部材の製造方法は、多数の凹部を有する凹部付き部材の製造方法であって、基材上に、多数の開口部を有するマスクを形成するマスク形成工程と、マスクが形成された基材に対してエッチング液を用いたエッチングを施すことにより、凹部を形成するエッチング工程とを有し、凹部の形成過程において形成される中間凹部が設けられた基材に対して、噴射材をジェット噴射により吹き付けることにより、マスクのうち、中間凹部上に存在し基材に密着していない部分を除去することを特徴とする。 （もっと読む）