【課題】表示品位の高い液晶カラーフィルタを印刷法にて製造する為の凹版を、感光性材料を用いて、技術的に容易に且つ安価に提供する。
【解決手段】（１）ガラスペーストをベース基板３１に均一に塗布する工程、（２）ガラスペーストを高温で焼成し、低融点ガラス層３２を形成する工程、（３）該低融点ガラス層３２の表面にフォトリソ工程にてエッチングマスク３４を形成する工程、（４）該低融点ガラス層３２をエッチング加工して所望のパターン形状３３の開口を形成する工程、（５）前記エッチングマスク３４を剥離する工程、上記工程により処理することを特徴とする凹版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】強酸および強アルカリの溶媒を使用しないで、複数の煩雑な手順を踏むことなく、ガラス基板上に多層に形成された金属及び／又は樹脂系の材料からなる薄膜を短時間で効率よく除去し、再生可能なガラス基板にするための薄膜除去方法を提供する。
【解決方法】基板表面に積層して形成された複数層からなる薄膜を除去するに際し、この薄膜が形成された基板表面を研磨剤により物理的に研削し、該基板表面に形成された薄膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】表示品位の高い液晶カラーフィルターの印刷に使用する硝子凹版において、硝子のエッチングのマスク材に使用する金属膜の制御により、高精細のかつ印刷性の高い版深をもつ刷版を、技術的に容易に且つ安価に提供すること。
【解決手段】反転印刷用の凹版であって、この凹版に十分な印刷性を与える為に、硝子基板をウェットエッチングして形成する凹版において、マスキング層を制御することで硝子凹版の欠陥の発生を抑制する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、微細で均一な深溝を形成する無機材料の加工方法及び加工装置を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）パルスレーザー光をパルス毎の照射範囲の一部が重なりあうように照射することで無機材料基板に連続する亀裂を生じさせるとともに該亀裂の周辺部に変質領域を形成させる工程、及び（Ｂ）該変質領域をエッチング処理する工程を含む無機材料の加工方法である。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の表面にレーザ光を照射させ、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成するマーキング工程を備えるマスクブランク用ガラス基板の製造方法において、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れに伴う諸問題を解消する。
【解決手段】 前記マーキング工程おけるレーザ照射中に、レーザ照射光周辺の雰囲気を介してレーザ照射部及びその周辺部に供給される物質であって、かつ、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れを生じさせる原因物質を、レーザ照射部及びその周辺部から排除した状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】 被転写体へのパターン転写に影響の大きな主表面近傍の内部欠陥を含む、ガラス基板の全ての領域の内部欠陥を良好に検出できること。
【解決手段】 合成石英ガラス基板４の端面２に対し離間して設置され、導入面２８が平坦で鏡面研磨され、屈折率が上記ガラス基板と略同一である透光性を有する光導入補助部材２５と、上記ガラス基板の端面２と光導入補助部材との間に介在され、屈折率が上記ガラス基板と略同一な超純水２６と、光導入補助部材の導入面から、この光導入補助部材及び超純水を介し上記ガラス基板内へ、波長が２００ｎｍ以下の短波長光を導入するレーザー照射装置２１と、この短波長光により上記ガラス基板の内部欠陥１６が発する、上記短波長光よりも長い波長の光１５、１７を受光するＣＣＤカメラ２３と、このＣＣＤカメラが受光した光の光量に基づき、上記ガラス基板の内部欠陥を検出するコンピューター２７とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】感光性フォトレジスト及び感光性化合物の露光後の現像に於いて、加工中の現像液の浸透をおさえ、より細かいパターン形成を可能とする。
【解決手段】ノズル内に高圧現像液及び高圧エアーを導入しノズルから高圧エアーにより現像液を微粒子化した高圧エアーと現像液の混合流体を吹き付けることにより、現像液の浸透をおさえ細かいパターンの内側まで現像液にて未露光の感光性レジスト及び感光性化合物を取り除き、微細パターンの形成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 所望の形状で、かつ、各凹部間で形状のばらつきが小さい凹部を有する凹部付き基板を提供すること、そのような凹部付き基板を効率良く製造することが可能な凹部付き基板の製造方法を提供すること、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】 平面視した際の幅が４０μｍ以上の多数の凹部を有する凹部付き基板の製造方法であって、ガラス基板上に、マスク形成用膜を形成する工程と、マスク形成用膜に初期孔を形成し、マスクを形成するマスク形成工程と、オーバーフローによってエッチング液を循環させて、マスクが形成されたガラス基板にエッチング液を供給し、エッチングを施すエッチング工程とを有し、エッチング液の循環速度が、５〜２８ｃｍ／ｍｉｎであることを特徴とする。マスクの平均厚さは、５〜５００ｎｍである。 （もっと読む）

脆性材料の移動リボンの安定化が、リボンの高品質区域における非劣化接触またはリボンの非高品質区域における劣化接触により提供される。非劣化接触は、高品質区域に施された除去可能なコーティングを含むことができ、それによって、その下にあるリボンが保護される。非劣化接触は、弾性ブラシまたはローラにより提供することができる。劣化接触は、下流の刻線形成または亀裂伝搬と同時に行われるリボンとの断続的接触またはリボンへの補強材の適用を含むことができる。
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【課題】 曲面上にも高精度に製造可能で反射防止効果が良好で均一な反射防止構造体を備えるレンズ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 反射を抑制すべき光が入射する表面に、反射防止構造体を備える部材であって、反射防止構造体は、多角形を底面とするアスペクト比が１以上の錐形状を構造単位とし、各構造単位が、反射を抑制すべき光の波長以下のピッチで、底面同士が互いの辺を共有することなく互いの頂点を共有するようにアレイ状に配列されている。この部材は、Ｘ線に感光する材料からなる基板、もしくは表面にＸ線に感光するＸ線レジストからなる層が形成された基板のいずれかを準備する準備工程と、基板に、Ｘ線マスクを介してＸ線を露光して、Ｘ線マスクのパターンに応じたＸ線強度分布を形成する露光工程と、露光された基板を、現像して反射防止構造体を形成する現像工程とを含む製造方法により製造される。 （もっと読む）

【課題】 平面型表示パネルに使われるガラス基板をエッチング加工する際、エッチング液からガラス基板上の透明電極や、配向膜等を保護できる保護テープおよびエッチング加工方法を提供する。
【解決手段】 冷却することで粘着力が低下する側鎖結晶性ポリマーを主成分とする粘着剤１を基材フィルム２の片面に設けた保護テープ１００を得る。そして、この保護テープ１００をガラス基板３表面に貼り付けエッチング加工することで、エッチング加工時は、前記粘着剤１がガラス基板３上の透明電極４や配向膜５等を保護する。エッチング加工後は、粘着剤１を冷却することで容易に保護テープ１００をガラス基板３から剥離でき、ガラス基板３やガラス基板３上の透明電極４や配向膜５等を破損する恐れがない。 （もっと読む）

【課題】 ガラスに微小な孔や溝を容易かつ安価に形成できる加工方法を提供する。
【解決手段】 （ｉ）波長λのレーザパルス１２をレンズで集光してガラス（ガラス板１２）に照射することによって、ガラスのうちレーザパルス１２が照射された部分に変質部１３を形成する工程と、（ii）ガラスに対するエッチングレートよりも変質部１３に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて変質部１３をエッチングする工程とを含む。レーザパルス１２のパルス幅が１ｎｓ〜２００ｎｓの範囲にあり、波長λが５３５ｎｍ以下であり、波長λにおけるガラスの吸収係数が１００ｃｍ^-1以下であり、レンズの焦点距離Ｌ（ｍｍ）を、レンズに入射する際のレーザパルスのビーム径Ｄ（ｍｍ）で除した値が７以上である。 （もっと読む）

【課題】 マスキングを行うことなくガラス表面をエッチングし、ガラス表面に溝を形成する方法及びこの方法を使用した光導波路の製造方法の提供。
【解決手段】 ガラス表面下にレーザーを集光して、ガラス変質部分を形成する。その後、ガラスの表面をエッチングしてすることによって、ガラス表面下の変質部分が溝となる。この溝に光伝搬路となるコアを充填し、コア露出面をクラッドで積層することで光導波路が製造される。 （もっと読む）

【課題】
フッ酸をエッチング液とする化学（湿式）エッチングでガラス表面に溝を形成すると、溝の断面形状は曲面からなる半円形状になり、底面がフラットな形状を有する溝を形成することができなかった。
【解決手段】
第１のガラス板と第２のガラス板を融着により接合し、フッ酸による湿式エッチングにより溝を形成する溝付きガラス基板の製造方法であって、第２のガラス板の第１のガラス板との接合面およびその近傍の酸に対する可溶性を、第１のガラス板の酸に対する可溶性より小さくし、第１のガラス板表面から第２のガラス板の接合面に至るまでフッ酸のエッチングにより溝を形成する。第１のガラス板と第２のガラス板は組成を異なるようにしてもよく、第１のガラス板と第２のガラス板を同一組成とし、第２のガラス板の接合面となるガラス表面及びその近傍に圧縮応力層（比容が内部より小さい層）を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】 光学素子の表面に微細構造からなる反射防止構造を低コスト、短時間で形成する光学素子の表面加工方法を提供する。
【解決手段】 光学素子の表面に入射する又は透過する光の反射防止構造を形成する光学素子の表面加工方法において、光学素子１の表面にＡｌ膜２を形成する工程と、Ａｌ膜２を陽極酸化して複数の孔３ａの形成されたＡｌ陽極酸化膜３を形成する工程と、Ａｌ陽極酸化膜３上にＣｒ膜４を形成する工程と、Ｃｒ膜４をマスクとして光学素子１の表面をエッチングして、Ａｌ陽極酸化膜３に形成された複数の孔３ａに対応して光学素子１の表面に円筒状の孔１ｂを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 パルスレーザによる微小構造の加工において、微小構造に生じたテーパーの発生を抑えて、深さ方向についてよりストレートな微小構造を形成すること。
【解決手段】 シリカガラス１にパルスレーザ３の集光照射を行ってパルスレーザ３の焦点３ｃ近傍の該シリカガラス１を改質させ、該パルスレーザ３または該シリカガラス１を走査させながら改質させて該シリカガラス１の表面を１ヶ所以上含んだレーザ改質領域４を形成し、該レーザ改質領域４をエッチングにより除去して該被加工物に微小構造を形成する方法において、該エッチングの工程で水酸化カリウム水溶液をエッチャントとして用いることを特徴とするシリカガラスへの微小構造の形成方法。 （もっと読む）

本発明は、エッチングレートの相違を利用して凹凸を形成する方法を改善し、この方法における基板に対する制限を緩和する。本発明の方法では、基板上に形成した薄膜の表面の所定領域に圧力を加える工程と、上記所定領域の少なくとも一部と上記所定領域を除く上記表面の残部の少なくとも一部とを含む領域をエッチングする工程とを含む方法により、凹凸のある表面を形成する。薄膜におけるエッチングレートの相違を利用するため、基板材料の選択自由度は高くなる。
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ガラス板（２）の少なくとも一方の表面（３７，３８）上のコーティング（１１，１２）の部分領域の除去は、プラズマノズル（５，６）から出るプラズマ光線（１４，１５）によって行なわれる。プラズマノズル（５，６）はプラズマユニットの一部であり、このような２つのプラズマユニットが設けられている。両プラズマノズル（５，６）は、相互に整向されており、１つのノズル対を構成する。ガラス板（２）は両ノズル（５，６）間で加工される。両ノズル（５，６）には、ガラス板（２）の表面（３７，３８）に対する正しい間隔でノズル（５，６）を位置決めする間隔センサ（２３，２４）が配設されている。
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【課題】 所望の形状の凸部を有する凸部付き部材の製造に好適に用いることができる凹部付き部材を提供すること、所望の形状の凸部を有する凸部付き部材を容易かつ確実に製造することができる凸部付き部材の製造方法を提供すること、前記凸部付き部材を提供すること、また、前記凸部付き部材を備えた透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】 本発明の凹部付き部材（マイクロレンズ基板製造用凹部付き部材）６は、多数の第１の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１と第２の凹部６２とを有している。第２の凹部６２は、第１の凹部６１が形成されている第１の領域６７よりも外側であって、マイクロレンズ基板１の非有効レンズ領域に対応する領域（第２の領域６８）に、第１の領域６７における第１の凹部６１の密度よりも低い密度で設けられている。また、第１の凹部６１は、縦幅が横幅よりも大きい扁平形状を有している。 （もっと読む）

【目的】
多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する。
【構成】
ガラス基板の一方の側から、所定の細い孔径を有する孔を所定深さまで形成し、次に、前記ガラス基板の他方の側から、前記細い孔径を有する孔の中心軸と同様の中心軸を有する所定の太い孔径を有する孔を、前記細い孔径を有する孔の底部まで形成して貫通させて、多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する （もっと読む）