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Fターム[4G059AB07]の内容

ガラスの表面処理 (18,270) | プロセスの特徴 (2,241) | 選択された表面部分の処理 (470) | 処理部分の一部をあとから除去するもの (71)

Fターム[4G059AB07]に分類される特許

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表面上の不透明クロム被膜が乾式エッチングされて開口部を形成した基板において、開口部内のクロムは検出可能限界未満である。基板上に不透明クロム被膜を形成する方法は、不透明クロム被膜の最初の厚さ部分を、イオン・アシストを伴わずにまたは検出不能のイオン・アシストを伴って基板上に堆積させ、不透明クロム被膜の残りの部分は、イオン・アシストを伴って、または伴わずに形成する。一つの実施例においては、光透過性を有する基板と、基板上に開口部を画成する不透明クロム被膜とを有する、開口部を備えた光学素子に関する。3層のクロム/酸化クロム/クロム被膜を含む、種々の材料からなる3層または4層の不透明被膜が開示されている。
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【課題】板ガラス基体をできるだけ高いエッチング速度で、構造の深さが大きく、構造の寸法がより小さい高品質構造に微細構造化する方法を提供する。
【解決手段】a)板ガラス基体の基体面に、構造化されたマスク層を少なくとも一層被覆する工程と、b)化学エッチングガスを希ガス少なくとも1種と、希ガス少なくとも1種に対する化学エッチングの混合比を2:1〜6:1として混合して、エッチングガス混合物を生成する工程と、c)化学反応性イオンエッチング処理を、上記構造化マスク層少なくとも一層を被覆した基体面がエッチングガス混合物に曝されるようにして行う工程と含んで成り、イオンエッチング処理で生じるスパッターエッチングの割合が、エッチングガス混合物に希ガス少なくとも1種が存在することで著しく増大するが、エッチングガス混合物の大半が化学エッチングガスから成るようにした方法。 (もっと読む)


【課題】 危険性の高い薬品を用いずに簡便かつ精密にガラスエッチングを行う。
【解決手段】 ガラス基材1の表面2にニッケル層3をパターン形成したのち、得られたニッケル層3付きガラス基材を加熱して、前記ニッケル層3に付着したガラス基材1の表面部分とともにニッケル層3を自然剥離させる。これにより、ガラス基材1の表面2にパターン状の凹部11が形成される。 (もっと読む)


本発明は、最初に、フォトレジストの電子バンドギャップより大きいエネルギーで露光されると相変化を示す無機フォトレジストを提供するフォトニック結晶の製造方法に関する。このフォトレジストを、エネルギーがフォトレジストの電子バンドギャップ未満であるが焦点における強度がそこで非線形作用を生ずる大きさのレーザービームで露光させることにより、このフォトレジスト内で相変化が生ずる。次いで、この露光されたフォトレジストを、好ましくはこのフォトレジストの1相を溶解させるエッチング溶液に曝し、最後にこれから現像されたフォトレジストをフォトニック結晶の形で取り出す。本発明にかかる方法により製造された無機フォトニック結晶は、完全光学装置、回路及び光学通信又はコンピュータシステムに好適である。
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本願は、ガラスパネル製造方法に関し、当該方法では、複数の別個の被印刷領域および/または複数の別個の非印刷領域へパネルを細分する印刷パターンの形態で複数の層を、ガラスパネルに部分的に印刷し、前記複数の層は、実質的に正確な位置合わせがされるガラスパネル製造方法に関する。実質的に正確な位置合わせは、1つの印刷パターンで複数の層を重ねてガラスシートへ塗布することによって行い、セラミックインクを含む複数の層の1つは、ガラスフリットを含んでいる。ガラスシートとそれに塗布される複数の層とを、熱処理工程にかけて、それによって、印刷パターン内において、ガラスフリットをガラスシートに融合させ、少なくとも1つのインク層を結合させる。印刷パターン外のどんなインクも、熱処理工程中に燃焼除去および/または気化させるか、かつ/あるいは後の仕上げ工程により除去して、印刷パターン内において実質的に正確な位置合わせがされた所望の層を残す。
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基材を最終製品に組み付ける工程で機能性皮膜の劣化や、他の部材への機能性皮膜の転写を防ぎ、かつ耐久性に優れた機能性皮膜を基材表面に形成できる方法が提供される。基材表面に予め下地膜を形成しておき、この下地膜付き基材を最終製品に組み付けた後に、下地膜上に機能性コーティング剤を塗布することにより機能性皮膜を形成する。下地膜は、例えば表面が平滑な又は凹凸形状を有するシリカ系皮膜であり、凹凸形状はシリカ微粒子を含有させることで付与できる。機能性皮膜は、例えば防曇性又は撥水性、超撥水性を呈する有機物機能性皮膜である。基材は、透明ガラス板又は透明樹脂板などである。
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フラットパネルディスプレイ(LDC、ELD、プラズマディスプレイ、LED、OLED)、タッチパネル、光学フィルター、太陽電池および他の用途における透明な電極を製造するのに適した2層型透明導体スキームが提示される。上層は典型的にインジウム・スズ酸化物からなり、より薄い下層はAlでドープされた酸化亜鉛(AZO)、または酸化ガリウムでドープされたZnO(GZO)、またはAlおよびGaの両方でドープされたZnO(AGZO)からなる。下層は上層よりも顕著に高い湿式化学エッチング速度を有し、これにより上部のITO層のより迅速でより均一なエッチングを可能にし、そうしてITO「アイランド」の形成を防止する。 (もっと読む)


一様かつ微細な径の貫通孔を有するガラス部品を得る。 感光性ガラス100の貫通孔を形成する部分に集光光束21を照射して潜像を形成し、この感光性ガラスを熱処理して潜像が形成された部分を結晶化させ、この結晶化した部分を溶解除去することにより貫通孔を形成することによって、貫通孔の直径が該貫通孔の部位によらず略一定で、該貫通孔の長さ(L)と該貫通孔の直径(d)との比率(L/d)が15以上であり、かつ該直径(d)が30μm以下である貫通孔を有するガラス部品を得る。 (もっと読む)


感光牲ガラス基板に多数個の一様かつ微細な径の貫通孔を形成する。 基板状の感光性ガラス1に紫外光4を照射して潜像2を形成し、熱処理を行なうことにより潜像部分を結晶化させ、結晶化した部分をエッチング除去して貫通孔5を形成し、次いで、感光性ガラス1の表裏面をAA’及びBB’まで除去することによって貫通孔の孔径の長さ方向における均一性を許容範囲にする。
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本発明は、ガラスシート等の硬質基板(6)に適用されている機能性プラスチックフィルム(特に、保護フィルム等)を切断する方法に関する。本発明は、該機能性フィルムの厚みのみ切断して下にある基板を無傷で残すように選択した特性及びパラメータを有する超音波切断装置を用いて切断することを特徴とする。
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本発明によれば、基板(4)のコーティングした面に向けられたプラズマの助けによって、コーティング、特に金属含有コーティングを備える基板(4)の一部の範囲、特に周辺ゾーン(11)で層を除去する。プラズマヘッド(10)を基板(4)に対してしかるべく位置合わせすること、及び/または対応する必要な数のプラズマヘッド(10)を動作させて、1列の互いに隣接して配置したいくつかのプラズマヘッド(10)または修正可能な断面を有する1つのプラズマヘッドから、望ましい層除去幅でプラズマを基板に向けることによって、層を除去するゾーン(11)の幅を調整すればよい。層の厚さ全体にわたるコーティングを部分的にだけ除去することも可能である。
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