【課題】フラットパネルディスプレイの製造工程において破損が生じるのを防ぐことができるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】板厚方向に対向する第１及び第２の主面を有し、且つ、第２の主面のみに滑剤が付着したフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記滑剤は、フラットパネルディスプレイの製造工程において前記フラットパネルディスプレイ用ガラス基板が搬送されるときに、前記第２の主面と、前記フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を搬送する搬送部材との間に介在するように設けられる。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れた偏光素子を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の偏光素子の製造方法は、ガラス基板上に金属の被膜を形成する工程と、被膜を部分的に除去するとともに金属をハロゲン化することでガラス基板上に金属のハロゲン化物からなる島状膜を形成する工程と、ガラス基板を加熱延伸することで島状膜を伸長させ、金属ハロゲン化物の針状粒子を形成する工程と、針状粒子の金属ハロゲン化物を還元することで金属からなる針状金属粒子を形成する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れた偏光素子を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の偏光素子の製造方法は、ガラス基板上に、金属ハロゲン化物の島状膜を形成する工程と、前記ガラス基板を加熱延伸することで前記島状膜を伸長させ、前記金属ハロゲン化物の針状粒子を形成する工程と、前記針状粒子の前記金属ハロゲン化物を還元することで金属からなる針状金属粒子を形成する工程と、を有し、前記金属ハロゲン化物は反応性物理蒸着法により前記ガラス基板上に堆積されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 一般的な基材であるガラスに成膜され、且つ良好なパターン形状と優れた発光特性の両方を兼ね備えた薄膜蛍光体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材と結晶性の薄膜蛍光体からなり、前記薄膜蛍光体は、前記基材上に成膜されて薄膜蛍光体層が形成されており、前記薄膜蛍光体層にパターンが形成されており、前記結晶がナノ構造であることを特徴とするパターン形成された薄膜蛍光体とする。 （もっと読む）

【課題】 面から深さ方向に遠くなるほど空孔率が小さくなっている多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ホウケイ酸塩ガラスを主成分とする母材ガラスに、銀イオンとカリウムイオンとリチウムイオンのうちから選ばれた１種類以上のイオン種を接触させて加熱して、表面から深さ方向に遠くなるほど前記イオン種の濃度が減少しているイオン濃度分布を有するガラス体を形成する工程と、前記ガラス体を加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、前記相分離ガラスをエッチングして、表面から深さ方向に遠くなるほど空孔率が小さくなっている多孔質ガラスを形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】マザー基板の透明導電膜が形成されている側の主面に、透明導電膜にキズをつけることなくスクライブラインを形成でき、部材の汚染を抑制できる、透明導電膜を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、光学ガラス基板であるマザー基板１の一主面を少なくとも２つの領域１ａ、１ｂに分割する未塗布部１ｃが形成されるように、マザー基板１の一主面上に導電性無機粒子、樹脂、及び溶剤を含むコーティング組成物を塗布し、乾燥させることにより、マザー基板１の一主面上に透明導電膜３を形成する工程と、未塗布部１ｃにスクライブライン１ｄを形成する工程と、スクライブライン１ｄに沿ってマザー基板１を切断し、一主面に透明導電膜３を有するガラス基板４を得る工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属のガラス基板の表面への拡散を確実に防止することができるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスクを提供すること。
【解決手段】マスクブランクス１０は、アルカリ金属を含有するガラス基板１、このガラス基板の表面上に形成された拡散防止層２、拡散防止層２上に形成された遮光層３、遮光層３上に形成された反射防止層４を備える。ガラス基板の表面が研磨され、その表面粗さＲａが２ｎｍ以下とされた。表面粗さＲａが２ｎｍ以下であっても、拡散防止層２が設けられることにより、ガラス基板１からアルカリ金属が他の層へ拡散することを抑制し、マウスニップ欠陥の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は日射エネルギーの遮蔽と電磁波透過性を有する車両用窓ガラスを製造する方法を得ることを目的とした。
【解決手段】真空成膜法を用いて赤外線反射膜を形成する車両用窓ガラスの製造方法であって、マスキング材を用いて形成した電磁波を透過する電磁波透過窓を有する赤外線反射膜の膜端部をエッチングにより除去する工程を有することを特徴とし、特に上記エッチング手段として砥石又はレーザーを使用することを特徴とする車両用窓ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は車両用窓ガラスの好適な熱線反射膜の除去方法を得ることを目的とした。
【解決手段】真空成膜法を用いて熱線反射膜が形成された車両用窓ガラスの製造方法において、基材上の成膜面に剥離材を塗布する工程、該剥離材が塗布された基材上に熱線反射膜を形成する工程、該熱線反射膜形成後に該剥離材を除去する工程、を有することを特徴とし、前記剥離材が水溶性高分子化合物であることを特徴とする車両用窓ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 合成石英からなるフォトマス用のガラス基板や該ガラス基板を用いたフォトマスクにおいて、ガラス基板の周辺部にひび、欠けの欠陥部が生じた場合に、該欠陥部を修正でき、且つ、フォトマスクの仕様であるフラットネスを確保できる方法を提供する。
【解決手段】 順に、（ａ）ガラス基板の前記欠陥部にガラス基板とは別の合成石英を溶融して欠陥部を埋める溶接をし、且つ、溶接部が盛り上がるようにする処理を行う、補修処理と、（ｂ）ガラス基板の前記補修処理における処理領域を、部分的に加熱によりアニールして、該処理領域の残存応力をとるアニール処理と、（ｃ）前記補修処理において盛り上がった溶接部を削って外形を整える整形研磨処理と、（ｄ）端面、表裏の各面に対して、それぞれ、各面の未修正部に合わせて研磨を行う、研磨処理とを、有する。 （もっと読む）

【課題】フロート法で製作されたＰＤＰ用のガラス基板などのように、微少な表面研磨が要求されるガラス物品の研磨量を高精度に測定する。
【解決手段】ガラス基板１の表面の一部を保護膜で保護した状態で、研磨パッド６によりガラス基板１の表面を研磨した後、研磨後にガラス基板１の表面に残存する保護膜２を除去し、保護膜２が除去されたガラス基板１の未研磨面１ｂと、保護膜２が形成されていなかったガラス基板１の研磨面１ａとの段差Ｄから研磨量を測定する。 （もっと読む）

【課題】凹凸形状を再現性よく形成することが容易なガラスの製造方法等を提供する。
【解決手段】浸透性基材４０の表面に非浸透性突起５０を設けたマスク６０を、突起５０がガラス１０の表面１０ａに接触するように配置した状態で、浸透性基材４０を介してガラス１０の表面１０ａにエッチング液を供給するエッチング工程を備える、表面に凹凸が形成されたガラスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】滑水性に優れる滑水性皮膜及び前記滑水性皮膜を備えてなる表面滑水性部材を提供する。
【解決手段】撥水性を有する撥水性領域３と親水性を有する親水性領域４とが露出形成され、水滴が前記撥水性領域３と前記親水性領域４との両方に接触するように、平面から見て前記撥水性領域３と前記親水性領域４との少なくとも一方の領域が分断されて成り、前記撥水性領域３と前記親水性領域４とが露出形成された面の水の接触角が１０°〜５０°であることを特徴とする滑水性皮膜１。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネル等のフラットパネルディスプレイのガラス基板上に精度よく、かつ熱プロセスおよび応力に対しての耐性の高いアライメントマークを簡単に形成する。
【解決手段】ガラス基板に刻印する方法であって、ガラス基板の所定位置に、可視光吸収体を含む膜を形成する膜形成ステップと、所定位置にレーザ光を照射してガラス基板に刻印する刻印ステップと、膜にレーザ光を照射して膜の少なくとも一部を除去する照射ステップとを有し、刻印ステップのレーザ光の波長は、ガラス基板の光の吸収率が塗布膜の光の吸収率より低い波長であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被加工物の内部に形成される改質領域の断面形状をより均一にすること。
【解決手段】レーザ光１４が入射される被加工物１の上面１ａに対してレーザ光１４の光軸を傾けるようにした。それゆえ、改質領域１９の長手方向を、被加工物の上面１ａと垂直なｚ軸方向に対して傾けることができる。そして、改質領域１９のｚ軸方向の長さを短くすることができる。そのため、例えば、被加工物１の内部に、ｚ軸方向に沿って並ぶ複数の改質領域１９からなる第１改質領域列と、ｘ軸方向に沿って並ぶ複数の改質領域１９からなる第２改質領域列とを形成した場合、第１改質領域列のｘ軸方向の幅と第２改質領域列のｚ軸方向の幅との差を低減できる。したがって、被加工物１の内部に形成される、複数の改質領域１９からなる改質領域列の断面形状をより均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】低コストでガラス基板上にアライメントマークを形成する方法の提供。
【解決手段】ガラス基板上にポジレジストを塗布した後、該ポジレジストをフォトリソグラフィプロセスにより所定のマーク形状に加工し、その後、該ポジレジストの感光性を低下させる目的でポストベークを行うことを特徴とするガラス基板上にアライメントマークを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】熱線遮断性が高く、電波及び可視光を透過することができる熱線反射膜、並びに熱線反射構造体及び熱線反射構造体の製造方法の提供。
【解決手段】一の表面に、該表面を基準として複数の凹部が配列されたことによって形成された凹凸部と、該凹凸部表面に導電層とを有する熱線反射膜であって、前記凹部の深さが１μｍ未満であり、前記導電層の厚みが１μｍ以下であり、前記凹凸部が傾斜側壁を有し、前記凹部の傾斜側壁を水平面に垂直投影した投影面積Ａと、前記凹部全体を水平面に垂直投影した投影面積Ｂとが、次式、（Ａ／Ｂ）×１００≧２０％を満たす熱線反射膜である。 （もっと読む）

【課題】一方の主面上に薄い膜が形成されているレンズの他方の主面上に薄い膜を形成する場合に、一方の主面上に形成されている膜の特性が損なわれることを回避する。
【解決手段】最初に、レンズの一方の主面（すでに薄い膜が形成されている主面）上に、疎水的および／または疎油的な膜を形成する。そして、レンズの他方の主面に対して、高エネルギーおよび／または反応性の化学種による処理を行い、その後またはそれと同時に、他方の主面上に無機または有機の膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された薄膜面への損傷の心配がなく、基板の搬送においても支障なく行えるレーザスクライブ加工装置及びその加工方法を提供する。
【解決手段】下向きの状態にある基板の薄膜形成面へエアーを吹き付けてその基板を浮上させるエアー浮上ユニットからなるステージと、このステージと前記基板の薄膜形成面とが非接触の状態で基板の片側縁端部を保持する保持手段を備え、片側縁端部が保持された状態で前記基板の薄膜がレーザスクライブ加工され、前記保持手段によって基板が搬送される構成になっている。 （もっと読む）

実質的に正確なレジストレーションでセラミックインクの層を含む印刷パターンを使用して基材、例えば、ガラスを部分的に画像化する方法が提供される。この方法は、印刷パターンを画定するマスクインク層および印刷パターンの外側の領域と印刷パターン内の領域との間の熱融合工程におけるセラミックインク媒体の差動熱排除に依存する。この結果、顔料およびガラスフリットは、印刷パターン内では基材に接着される耐久性のある画像材料を、印刷パターンの外側では耐久性のない材料を形成し、印刷パターンの外側で除去することにより、印刷パターン内のセラミックインクの所望の層を実質的に正確なレジストレーションで残すことが可能になる。 （もっと読む）