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酸化防止剤、酸化防止剤の製造方法及び金属材の製造方法
【課題】加熱される金属素材の表面にスケールが生成されるのを従来よりも抑制できる酸化防止剤を提供する。
【解決手段】軟化点の異なる複数のガラスフリットと、600℃以下の融点を有する無機化合物とを含有する酸化防止剤。無機化合物は、主として600℃前後の低温域で軟化する。複数のガラスフリットは、主として600℃〜1300℃の温度域で軟化する。そのため、酸化防止剤は、広い温度域で金属素材表面を覆い、金属素材表面が酸化してスケールを生成するのを抑制する。
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陽極接合用ガラス
【課題】 MEMS(マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム)などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル%で0.1%〜20%のNa2O、0.1%〜50%のP2O5の各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル%で、30%〜90%のSiO2、0%〜50%のB2O3、0%〜50%のAl2O3の各成分を含有する請求項1に記載の陽極接合用ガラス。
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ディスプレイ装置
【課題】大面積で薄いカバーガラス板の自重変形を低減することができるディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル20と、該表示パネル20の前方に設置されるカバーガラス板30とを備えるディスプレイ装置10において、カバーガラス板30は、32インチ以上の対角線長さL、1.5mm以下の厚さ、および、70GPa以上のヤング率を有することを特徴とするディスプレイ装置20を提供する。
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天然大理石様結晶化ガラス、天然大理石様結晶化ガラス物品及びその製造方法
【課題】原料コストや溶融コストを低下できると共に、低温で焼成可能であり、しかも焼成後の表面精度を向上し得る天然大理石様結晶化ガラスの製造方法を創案することにより、安価な天然大理石様結晶化ガラス及び天然大理石様結晶化ガラス物品を得る。
【解決手段】本発明の天然大理石様結晶化ガラスは、組成として、SiO2を45質量%以上、CaOを7.5質量%以上、ZnOを0.05質量%以上、MgO+SrO+ZrO2を0.1質量%以上含み、主結晶としてβ−ウォラストナイト結晶が析出していることを特徴とする。
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ディスプレイ基板
【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚0.1mm以上のディスプレイ基板であって、波長400nmにおいて、基板の両表面をそれぞれ30μm除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△T400が、0.5〜5.0%の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数(νd)を有し、可視光に対する透明性が高く、且つ研磨加工やプレス成形を行い易い光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を5.0%以上40.0%以下、Nb2O5成分を10.0%以上60.0%以下含有し、100以上400以下の磨耗度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。
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ディスプレイ基板
【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長400nmにおいて、基板の両表面をそれぞれ30μm除去したとき(基板肉厚が0.1mm以上の場合)、或いはそれぞれ肉厚の1/3除去したとき(基板肉厚が0.1mm未満の場合)の透過率と、除去前の透過率との差△T400が、0.5〜5.0%の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが10nm〜30μmであり、またSiO2含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。
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光学ガラス及び光学素子
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数(νd)を有し、可視光に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラス、及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を5.0%以上40.0%以下、Nb2O5成分を10.0%以上60.0%以下含有し、分光透過率が70%を示す波長(λ70)が500nm以下であり、500℃以上1200℃以下の液相温度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。
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電界放射型装置用ガラス板
【課題】X線遮蔽能力が高く、且つ耐熱性が高い電界放射型装置用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO230〜50%、Al2O30〜10%、B2O30〜20%、MgO+CaO+SrO(MgO、CaO、及びSrOの合量)0〜25%、BaO15〜35%、ZrO2+TiO2+La2O3+Nb2O5(ZrO2、TiO2、La2O3、及びNb2O5の合量)3〜40%を含有し、歪点が650℃以上、10keVにおけるX線吸収係数が150cm−1以上であることを特徴とする電界放射型装置用ガラス板。
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低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料
【課題】
結晶Si太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】重量%でSiO2を2〜10、B2O3を18〜30、Al2O3を0〜10、ZnOを0〜25、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を20〜50、R2O(Li2O+Na2O+K2O)を10〜17含むSiO2−B2O3−ZnO−RO−R2O系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする導電性ペースト材料である。
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Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
【課題】 As2O3やSb2O3を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 As2O3、Sb2O3を実質的に含有しないLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスであって、Cl、CeO2及びSnO2の少なくとも1種を含有するとともに、S含有量がSO3換算で10ppm以下であることを特徴とする。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を40.0%未満、並びに、Ln2O3成分(式中、LnはY、La、Gd、Ce、Eu、Dy、Yb及びLuからなる群より選択される1種以上)を合計で60.0%未満含有し、1.75以上の屈折率(nd)と10以上のアッベ数(νd)を有する。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)の小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でSiO2成分を10.0〜40.0%、及び、Nb2O5成分を1.0〜50.0%含有し、15以上30以下のアッベ数(νd)を有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00480×νd+0.73500)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00250×νd+0.67750)の関係を満たす。
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フォトリフラクティブ・ガラスおよびそれから製造された光学素子
【課題】有用な光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子において、形成されたガラス材料中にCe4+を示さないアルカリアミノケイ酸塩NaF含有ガラス材料、および、アルミノケイ酸塩NaF含有ガラス材料中に形成された屈折率パターンであって、屈折率パターンが高屈折率の領域と低屈折率の領域を含み、高屈折率の領域と低屈折率の領域との間の差が633nmの波長で少なくとも4×10-5である屈折率パターン、を含む。
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光学ガラス
【課題】高屈折率かつ低分散の特性を有すると共によりプレス成形性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、SiO2 とB2 O3 とAl2 O3 とBaOとCaOとZnOとLa2 O3 とGd2 O3 とY2 O3 とを所定の割合で含む。さらに、SiO2 の含有率をA、B2 O3 の含有率をB、La2 O3 ,Gd2 O3 およびY2 O3 の合計の含有率をC、SiO2 およびB2 O3 の合計の含有率をDとしたとき、以下の条件式(1)および(2)を満足する。
0.35<A/B<0.70 ……(1)
0.80<C/D<1.0 ……(2)
これにより、高屈折率および低分散が確保されつつ、屈伏温度(およびガラス転移温度)が低下する。また、Al2 O3 を含むことにより構造の安定化が図られ、プレス成形時における曇りなどの外観不良が生じにくくなっている。
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結晶化ガラス及びその製造方法
【課題】耐酸性に優れた結晶化ガラスを創案することにより、結晶化ガラスの表面において、化学的腐食に起因した微細なクラックが発生する事態を防止すること。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスは、燃焼装置の構成部材に用いる結晶化ガラスであって、表面にKリッチ層が形成されていることを特徴とする。
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結晶性ガラス、天然大理石様結晶化ガラス及びその製造方法
【課題】As2O3、Sb2O3の含有量が少なくても、泡品位を向上し得る結晶性ガラス、天然大理石様結晶化ガラス及びその製造方法を創案すること。
【解決手段】本発明の結晶性ガラスは、熱処理により、主結晶としてβ−ウォラストナイトが析出する結晶性ガラスにおいて、結晶性ガラス中の水分量が500ppm以上であることを特徴とする。また、本発明の天然大理石様結晶化ガラスの製造方法は、ガラス原料を調合し、ガラスバッチを作製する調合工程、ガラスバッチを溶融し、結晶性ガラスを作製する溶融工程、結晶性ガラスを熱処理することにより、主結晶としてβ−ウォラストナイトを析出させて、結晶化ガラスを作製する結晶化工程を有する天然大理石様結晶化ガラスの製造方法において、結晶性ガラス中の水分量が500ppm以上になるように、調合工程及び/又は溶融工程を制御することを特徴とする。
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特殊清澄法による透明ガラスまたは透明引上げガラスの製造方法
【課題】透明引上げガラスの製造方法で特に酸化アンチモンと酸化ヒ素の重金属清澄剤を用いないで、しかもガラス溶融物をできるだけ効率的に清澄し、気泡のない、または気泡の少ない高品質ガラスを製造すること。
【解決手段】本発明は、以下のステップ、(a)ガラスバッチ溶融物を保持しての原料の溶融;(b)製出されたこのガラスバッチ溶融物の清澄;(c)製出されたこのガラスバッチ溶融物の均質化;および(d)引上げ法によるガラス製品の製造、を含む透明引上げガラスまたは透明ガラスの製造方法に関し、清澄剤としてアルカリ硫酸塩、アルカリ土類硫酸塩、硫酸亜鉛、またはそれらの混合物から選択した硫酸塩清澄剤の所定量を使用し、前記ガラスバッチ溶融物の清澄では、酸化アンチモンのみまたは他の1種類以上の清澄剤を組み合わせて含有する清澄システムを使用する清澄法よりも0℃〜100℃、望ましくは30℃〜60℃ほど高い所定の清澄温度に調整している。本発明の方法によって製出したガラスは、実際的に含有物または気泡がない青色調の高度透明ガラスで、光学的均質性が高く、分光透過率が高い。
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太陽光発電適用のためのガラスの使用
【課題】太陽光発電適用に特に好適でありかつ太陽光発電に改善された結果をもたらすガラスを提供すること。
【解決手段】本発明は、ガラスが含水量<25mmol/リットル及び特に>1mmol/リットルを有する、太陽光発電適用のためのガラスの使用に関する。好ましくは使用されるガラスは、>580℃の範囲内の変態点Tg、<1150℃の範囲内の作業温度(「VA」)及び約7〜11×10−6/Kの範囲内の熱膨張係数を示す。これらガラスは、半導体毒、例えば鉄、ヒ素及びホウ素を放出することなく、高温処理に使用することができ、かつとりわけCd−Te−太陽光発電適用もしくはCIS−太陽光発電適用ないしはCIGS−太陽光発電適用に適当である。というのも加工性/より高い温度でのより高い熱安定性に基づいた、従来使用されたソーダ石灰ガラスと異なる析出が行なわれることができ、これには大きな利点が伴うからである。
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ガラス基板
【課題】本発明の目的は、熱アシスト記録方式の記録媒体において情報のエラー発生率を低下させ、かつ磁気ヘッドの破損を抑制するガラス基板を提供することにある。
【解決手段】本発明のガラス基板は、酸化物基準の質量%表示で、SiO2:58〜68%、Al2O3:0〜5%、B2O3:0〜2%(ただしSiO2+Al2O3+B2O3=58〜68%)、Na2O:1〜6%、K2O:7〜15%(ただしNa2O+K2O=8〜21%)、MgO:2〜7%、CaO:7〜15%、BaO:0〜5%、SrO:0〜5%、ZnO:0〜5%(ただしMgO+CaO+BaO+SrO+ZnO=9〜22%)、ZrO2:6〜12%となる組成を有し、かつLi2Oを含まないことを特徴とする。
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