【課題】透過率の極小領域の近くに極大領域が存在し、その極大領域の透過率が高い光学ガラスフィルタを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量％表示で、ＳｉＯ_２を１２％〜４５％、Ｂ_２Ｏ_３を１０％〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜９．０％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの任意の組合せを総量で１％〜１０％、ＢａＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯの任意の組合せを総量で１％〜４０％、Ｙ_２Ｏ_３を０％〜２０％、ＺｒＯ_２を０％〜７．０％、及び、Ｈｏ_２Ｏ_３を１．０％〜２０．０％含有し、波長範囲２７０〜３００ｎｍに透過率の極小点を有し、この極小点より低波長側１０ｎｍの波長範囲内に、極小点の透過率の二倍以上の透過率を有する極大点を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程（１）および（２）を含むガラス板の製造方法に関する。
（１）Ａｌ_２Ｏ_３を３モル％以上含有し、Ｌｉ_２ＯおよびＮａ_２Ｏの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量Ｒ_２Ｏに対するＬｉ_２ＯまたはＮａ_２Ｏの含有量のモル比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２ＯまたはＮａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが、０．９以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
（２）工程（１）で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜０．１％未満、ＺｎＯ ３．１〜１４．５％、ＺｒＯ_２ ０〜８％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％およびＷＯ_３ ０〜１０％を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】良好な機械的特性をもつ透明中実微小球を提供すること。
【解決手段】中実微小球の全重量に対して少なくとも約７５重量％の全含有率でチタニアと、アルミナ、ジルコニアおよび／またはシリカを含有し、アルミナ、ジルコニアおよびチタニアの全含有率はシリカの含有率より大きい、透明中実微小球となす。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６６〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を７〜１７％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜７％、Ｌｉ_２Ｏを０〜９％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜３％、ＭｇＯを０〜１３％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜５％、ＺｒＯ_２を０〜５％含有し、ＳＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３およびＢ_２Ｏ_３の含有量の合計ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３が８１〜９２％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが３〜９％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計ＭｇＯ＋ＣａＯが４〜１３％、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２ＯおよびＣａＯ含有量の合計Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋ＣａＯが０〜１０％、ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２の含有量の合計ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が０〜５％である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が１．７８以上、アッベ数（ν_ｄ）が３０以下であり、部分分散比が小さい光学ガラスを提供する。
【解決手段】部分分散比（θｇ，Ｆ）が０．６２４以下の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５を含有し、質量％の比率でＮｂ_２Ｏ_５が４０％より多いことを特徴とする光学ガラス。質量％の比率でＫ_２Ｏが２％未満、ＴｉＯ_２／（ＺｒＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．３２未満、かつＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、ＺｎＯ、ＳｒＯ、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏの合計含有量が９０％より多いことを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量％表示で、ＳｉＯ_２：５０〜７０、Ａｌ_２Ｏ_３：１〜２２、ＺｒＯ_２：０〜８、Ｂ_２Ｏ_３：０〜８、Ｒ_２Ｏ：１０〜３０（ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫからなる群から選ばれる少なくとも１つ）、ＭＯ：０〜２０、（ＭはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａからなる群から選ばれる少なくとも１つ）、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はＲ_２ＯとしてＬｉ_２Ｏを少なくとも１質量％有し、Ａｌ_２Ｏ_３とＺｒＯ_２とを少なくとも合計で６質量％有し、軟化点温度が６５０℃以下であること。 （もっと読む）

【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、(ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量％で、ＳｉＯ_２４０％〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３７％〜２３％、ＴｉＯ_２１〜１５％、ＭｇＯ１％〜２０％、ＣａＯ０％〜１０％、ＳｒＯ０％〜５％、ＢａＯ０％〜５％、ＺｎＯ０％〜１５％、ＦｅＯ０％〜８％、Ｐ_２Ｏ_５０％〜７％、Ｂ_２Ｏ_３０％以上８％未満、の各成分を含有し、（ＭｇＯ+ＣａＯ+ＳｒＯ+ＢａＯ+ＺｎＯ+ＦｅＯ）／（ＳｉＯ_２+Ａｌ_２Ｏ_３）の値が０．２５以下、(ＺｎＯ＋ＦｅＯ)／ＭｇＯの値が０以上０．９以下、比重が２．６７以下であることを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と機械的強度を備える接合部を形成可能な導電性接合材を提供し、該導電性接合材によって形成された接合部を有する固体酸化物形燃料電池（ＳＯＦＣ）システムを提供する。
【解決手段】本発明によって提供されるＳＯＦＣシステム（１１０）に形成される接合部（１２０）は、以下の二つの成分：
（ａ）Ａｇ；および、
（ｂ）クリストバライト結晶、リューサイト結晶及びフォーステライト結晶のうちから選択される少なくとも１種の結晶がガラスマトリックス中に析出していることを特徴とするガラス；
が混在して形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高温粘度が低いガラス（特にガラス板）を創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明のガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜５５％（但し、５５％を含まず）、Ａｌ_２Ｏ_３ １０．０超〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、ＭｇＯ ０〜３．７％未満、ＣａＯ ２．９超〜８％、ＳｒＯ ４.０超〜１５％、ＢａＯ ２.０超〜１４％未満（但し、１４．０％を含まず）、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ４.０超〜１５％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜７％、Ｆｅ_２Ｏ_３ ０．０１〜１％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜４％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１０μｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所望の屈折率およびガラス転移点を達成しやすく、しかも高い耐候性を兼ね備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １０〜４８％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜１５％（ただし、１５％は含まない）、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２０％、Ｎａ_２Ｏ ０．１〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＣａＯ ０．１〜２５％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０．１〜２５％（ただし、２５％は含まない）、Ｌａ_２Ｏ_３ ０〜４．５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜４．９％、ＺｒＯ_２ ０〜７％およびＴｉＯ_２ ０〜５％を含有し、かつ、Ｐｂ成分、Ｐ成分およびＦ成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する強化ガラスを得ること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ８〜３０％、Ｎａ_２Ｏ ８〜２０％含有し、ガラスバッチの一部に水酸化物原料を用いて作製されてなり、且つβ−ＯＨ値が０．３〜１／ｍｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜３０％、ＺｎＯ ３．１〜２５％、ＺｒＯ_２ ０〜５．４％、Ｌａ_２Ｏ_３ ２５〜４１％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１２％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０．１〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、ＴｉＯ_２ ０〜８％およびＬｉ_２Ｏ ０．１〜５％を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、屈折率が１．８４６以上、アッベ数が３０〜４５、ガラス転移点が６５０℃以下であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用の基板ガラスとしての特性に優れており、かつ耐還元性に優れており、フロート法による成形に適した無アルカリガラス基板の提供。
【解決手段】モル％表示で実質的に、
モル％表示で実質的に、
ＳｉＯ₂ ６０〜６４％
Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１２％、
Ｂ₂Ｏ₃ ５〜１０％
ＭｇＯ １〜１８％、
ＣａＯ ０〜１８％、
ＳｒＯ ０〜１８％、
ＢａＯ ０〜２％、
ＣａＯ＋ＳｒＯ １２〜２５％、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １５．５〜３０％
よりなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ガラス粘度がｌｏｇη＝２となる温度Ｔ₂ が１５８０℃ 以下である無アルカリガラス基板。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が１００ギガビット／平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の０．０５％以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が９８Ｎ以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さＲａを３〜５００００Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有する高屈折率低分散光学ガラスの提供。
【解決手段】モル％表示で、ＳｉＯ₂ ０．１〜４０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜５０％、ＺｎＯ ０．５〜２２％、Ｌａ₂Ｏ₃ ５〜５０％、Ｇｄ₂Ｏ₃ ０．１〜２５％、Ｙ₂Ｏ₃ ０．１〜２０％、ＺｒＯ₂ ０〜２５％、ＴｉＯ₂ ０〜２５％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ０〜２０％、Ｔａ₂Ｏ₅ ０〜７％、ＷＯ₃ ０．１％を超え２０％以下、を含み、Ｂ₂Ｏ₃の含有量に対するＳｉＯ₂の含有量の質量比ＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃が１以下であり、屈折率ｎｄが１．８６〜１．９５、アッベ数νｄが（２．３６−ｎｄ）／０．０１４以上、３８未満、かつガラス転移温度が６４０℃以上であることを特徴とする光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、鉛を含まず、低いガラス転移点（Ｔｇ）で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくいテルライト系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】
Ｂ_２Ｏ_３、ＴｅＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、アルカリ金属成分の含有量を適宜調整することにより、低いガラス転移点（Ｔｇ）で、ガラスを粉体状態又はペーストとして扱っても被覆作業後に結晶化しにくい特性を兼ね備えたガラス組成物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 （もっと読む）

【課題】溶融塩の交換の頻度を減らすことができる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】溶融塩にモル％で、ＳｉＯ_２を６１〜７７％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜１８％、ＭｇＯを３〜１５％、ＣａＯを０〜５％、ＺｒＯ_２を０〜４％、Ｎａ_２Ｏを８〜１８％、Ｋ_２Ｏを０〜６％含有し、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３が６５〜８５％、ＭｇＯ＋ＣａＯが３〜１５％、かつ、下記式により算出されるＲが０．６６以上であるガラスを浸漬して化学強化ガラスとするイオン交換処理を繰り返す化学強化ガラスの製造方法。Ｒ＝０．０２９×ＳｉＯ_２＋０．０２１×Ａｌ_２Ｏ_３＋０．０１６×ＭｇＯ−０．００４×ＣａＯ＋０．０１６×ＺｒＯ_２＋０．０２９×Ｎａ_２Ｏ＋０×Ｋ_２Ｏ−２．００２。 （もっと読む）