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Fターム[4G062FC03]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Zr (5,173) | 1−10 (1,158)

Fターム[4G062FC03]に分類される特許

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【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2およびP25の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0.1〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2およびP25の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0〜0.1質量%であるガラス組成を有し、かつ該内層の特定アルカリ成分の合計量と該表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、B成分及びF成分を含有し、アッベ数(νd)をx軸とし、屈折率(nd)をy軸としたxy直交座標において、A(50,1.70)、B(60,1.60)、C(63,1.60)、D(63,1.70)の4点にて囲まれる範囲のアッベ数及び屈折率を有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で(θg,F)≧−0.00170×ν+0.6375の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2を40〜70質量%含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が10〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2を40〜70質量%含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が1〜9.9質量%であるガラス組成を有し、内層の特定アルカリ成分の合計量と表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機発光素子やITOの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル%で、SiO+Al+B 20〜70%、SiO 20〜70%、B 0〜30%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜50%、BaO+La+Nb+ZrO+TiO 0〜30%を含有し、モル比B/SiOが0〜1、モル比SiO/(MgO+CaO+SrO+BaO+La+Nb)が0.1〜6、モル比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+CaO+SrO+BaO+La+Nb+Gd)が0.1〜0.99であると共に、屈折率が1.55〜2.3であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO 46〜60%、Al 0〜6%、B 13〜30%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、ZnO 0〜20%、LiO 9〜25%、NaO 0〜15%、KO 0〜7%、TiO 0〜8%含有し、LiO/(LiO+NaO+KO)がモル比で0.48〜1.00の範囲にあることを特徴とすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 たわみ試験においてクラックの発生が無く機械的信頼性に優れたガラスセラミック配線基板を提供する。
【解決手段】 ガラスセラミックスからなる絶縁層が複数積層された絶縁基体1と、該絶縁基体1の表面に形成された表面配線層2とを具備するガラスセラミック配線基板であって、前記絶縁基体1がセラミックフィラーとしてアルミナ粒子を含有するとともに、少なくともアルミナ(Al)、ケイ素(Si)およびカルシウム(Ca)を元素として含むガラス相とから構成されており、前記表面配線層1が銀を主成分とし、ロジウム(Rh)および酸化銅を含有するとともに、前記絶縁基体1の表面にアノーサイト相を主結晶相とするセラミック層7を有し、抗折強度が190MPa以上である。 (もっと読む)


【課題】回路層上に半導体素子をはんだ材を介して、容易に、かつ、確実に接合することが可能なパワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層11の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層12が配設され、この回路層12上にはんだ層2を介して半導体素子3が配設されるパワーモジュール用基板10であって、回路層12の一方の面には、ZnO含有の無鉛ガラスを含有するAgペーストの焼成体からなるAg焼成層30が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiOを62.5〜69%、Alを9〜15.5%、LiOを8〜16%、NaOを0〜8%、KOを0〜7%、ZrOを0〜3.5%含有し、SiO−Alが53.3%以上、LiO+NaO+KOが17〜24%、上記6成分の含有量の合計が97%以上である基板用ガラス。 (もっと読む)


【課題】例えばフロート成形により作製された場合であっても、白濁が生じにくく透明感の高いLiO−Al−SiO系結晶性ガラス、および当該LiO−Al−SiO系結晶性ガラスを結晶化させてなるLiO−Al−SiO系結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として質量%で、SiO 55〜75%、Al 19〜24%、LiO 3〜4%、TiO 1.5〜2.8%、TiO+ZrO 3.8〜4.8%、SnO 0.1〜0.5%を含有し、かつ、4≦LiO+0.741MgO+0.367ZnO≦4.5の関係を満たすことを特徴とするLiO−Al−SiO系結晶性ガラス。 (もっと読む)


【課題】高記録密度化に対応した情報記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】mol%表示にて、SiO2とAl2O3を合計で70〜85%(ただし、SiO2の含有量が50%以上)、Al2O3の含有量が3%以上、Li2O、Na2OおよびK2Oを合計で10%以上、CaOとMgOを合計で1〜6%(ただし、CaOの含有量がMgOの含有量よりも多い)、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2を合計で0%を超えて4%以下含み、SiO2、Al2O3、ZrO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3、Y2O3およびTiO2の合計含有量に対するLi2O、Na2OおよびK2Oの合計含有量のmol比が0.28以下、である、情報記録媒体用基板に供するためのガラスとする。 (もっと読む)


【課題】優れた耐熱性および優れたイオン交換能を有し、イオン交換による化学強化処理によって高い強度を付与できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量%で示して、SiO 53〜62%、Al 11〜17%、LiO 0〜5%、NaO 10〜15%、KO 3〜9%、MgO 0〜4%、CaO 0〜4%、SrO 0〜6%、BaO 0〜5%、ZrO 1〜4%、TiO 2〜6%、を含むガラス組成物とする。 (もっと読む)


【課題】光反射材料、特に、白色LED用リフレクターとして有用な、可視光全域で高反射率を有し、且つ耐熱性、耐湿性に優れた光反射層を形成できる新規な材料を提供する。
【解決手段】アルミナ、ジルコニア及びマグネシアからなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、並びに低融点ガラス粉末を含有することを特徴とする、白色セラミックカラー組成物。 (もっと読む)


【課題】低分散でありながら屈折率が高く、優れたガラス安定性を有し、着色の少ない光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、カチオン%表示で、Si4+0〜30%、B3+10〜55%、Li+、Na+およびK+を合計で5%未満、Mg2+、Ca2+およびSr2+を合計で5%未満、Ba2+0〜8%、Zn2+0.1〜15%、La3+10〜50%、Gd3+0〜20%、Y3+0〜15%、Yb3+0〜10%、Zr4+0〜20%、Ti4+0.1〜22%、Nb5+0〜20%、Ta5+0〜8%、W6+0〜5%、Ge4+0〜8%、Bi3+0〜10%、Al3+0〜10%、B3+の含有量に対するSi4+の含有量のカチオン比Si4+/B3+が1.0未満、酸化物に換算してNb25とTa25の合計含有量が14質量%未満、屈折率ndが1.966〜2.2、アッベ数νdが25〜45であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】使用環境の温度変化による結像特性影響を受けにくい、屈折率(nd)が1.75以上、かつ、アッベ数(νd)が35以上である、高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】SiO、B、Laを必須成分として含有させ、かつ構成成分の比率を調整することにより、−30〜+70℃の平均線膨張係数αと波長546.1nmにおける光弾性定数βの乗算α×βが130×10−12℃×nm×cm−1×Pa−1以下を実現する光学ガラスを得る。 (もっと読む)


【課題】より低いアッベ数(ν)及びより高い屈折率(n)を有しながらも、耐失透性や可視光に対する透明性の高い光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP成分を5.0%以上40.0%以下、Nb成分を30.0%以上70.0%以下含有し、1.80以上の屈折率(nd)を有する。また、精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】ガラスを原料として、可視光応答性と優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、Bi成分を5〜95%の範囲内で含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、Bi結晶、BiWO結晶、Bi結晶、Bi12結晶、BiMoO結晶、BiMo結晶、BiMo12結晶、BiTi結晶、BiTi11結晶、BiTi12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO結晶、BiFe結晶、BiVO結晶、LiBiO結晶、及びこれらの固溶体からなる群より選択される1種以上を含有していてもよい。 (もっと読む)


【課題】無鉛であることに加え、軟化点が低く、色堅牢性が高いガラスから構成されるカラーマーキングを付したガラスアンプルを提供すること。
【解決手段】頭部の、カットキズ近傍にカラーマーキングを付したガラスアンプルであって、カラーマーキングは、Al23を0.5〜30重量%、ZnOを3〜25重量%、SiO2を20〜40重量%、B23を3〜15重量%、Na2Oを1〜5重量%、Li2Oを0.5〜5重量%、BaOを3〜10重量%、Bi23を10〜25重量%、Co23を3〜23重量%、TiO2を0.1〜5重量%、K2Oを0〜3重量%、CaOを0〜3重量%、ZrO2を0〜3重量%で、Cr23を0〜3重量%、Fe23を0〜3重量%、MnOを0〜3重量%、La23を0〜3重量%、SrOを0〜3重量%、SnO2を0〜3重量%、MgOを0〜3重量%の割合で含有する無鉛ガラス組成物を含むことを特徴とするカラーマーキング付きアンプル。 (もっと読む)


【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量%で、SiO45〜75%、Al5〜25%、LiO+NaO+KO8〜30%、NaO8〜20%、KO0〜10%含有し、β−OH値が0.01〜0.5/mmであることを特徴とする。ガラス中のβ−OH値を制御するために、使用する原料の含水量を選択する等の処理を行う。 (もっと読む)


【課題】Pb、Ge、Ga等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Sn、Cuの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の熱膨張係数を実現でき、可視光の透過率が高い封止用ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル%表示で、3%〜70%のB、4%〜45%のZnO、0%〜30%のRO(但し、RはLi、Na、K、Csから選ばれる一種以上)の各成分を含有し、酸化物基準のモル%で表されたRO/Bの比の値が0.01以上1以下であり、ZnOとRO成分の合計量が10%以上70%以下であることを特徴とするガラス。 (もっと読む)


【課題】 As、Sbを含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なLiO−Al−SiO系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてLiO−Al−SiO系結晶化ガラスを製造するLiO−Al−SiO系結晶化ガラスの製造方法において、得られる結晶化ガラス中のCl含有量が50ppm以上となるようにガラス原料にCl化合物を添加することを特徴とする。 (もっと読む)


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