図１に示すＡ点（ｎ_ｄ＝１．８３５、ν_ｄ＝４６．５）、Ｂ点（ｎ_ｄ＝１．９０、ν_ｄ＝４０．０）、Ｃ点（ｎ_ｄ＝１．９０、ν_ｄ＝３５．０）およびＤ点（ｎ_ｄ＝１．８３５、ν_ｄ＝３８．０）をＡ点、Ｂ点、Ｃ点、Ｄ点、Ａ点の順序で結ぶ直線である境界線で囲まれる範囲内（ただし境界線上を含む）の屈折率（ｎ_ｄ）およびアッベ数（ν_ｄ）を有し、転移温度（Ｔｇ）が低く、精密プレス成形に適した光学ガラスであって、前記範囲内（ただし境界線上を含む）の屈折率（ｎ_ｄ）およびアッベ数（ν_ｄ）を有し、組成がＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ｌａ_２Ｏ_３−Ｇｄ_２Ｏ_３−Ｌｉ_２Ｏ−Ｆ系であり、鉛、カドミウム、トリウム、Ｙ_２Ｏ_３、Ｐ_２Ｏ_５およびＴｅＯ_２を含まず、転移温度（Ｔｇ）が５５０〜６５０℃の範囲である光学ガラス。
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【課題】 モリブデン部品を有し且つ６５０℃より高いバルブ温度を有するランプバルブ用として使用される材料に要求される諸特性を有するアルカリ土類金属含有アルミノケイ酸塩ガラスを提供する。
【解決手段】 アルミノケイ酸塩ガラスは、酸化物基準の質量％表示で以下の組成：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３ １５〜１７．５％、ＭｇＯ ０．１〜＜１％、ＣａＯ ５．５〜１４％、ＳｒＯ ０〜８％、ＢａＯ ６〜１７％、ＺｒＯ_２ ０〜１％、ＣｅＯ_２ ０〜０．３％、ＴｉＯ_２ ０〜５％、ＭｏＯ_３ ０〜２％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜４％、但し、ΣＲＯ（アルカリ土類金属酸化物） １１．６〜２９％を有する。 （もっと読む）

【課題】 抵抗体のための焼成工程を追加することなく、抵抗体をガラスセラミック配線基板と同時焼成したとしても、抵抗体が導体及びガラスセラミック配線基板の表面に強固に接合された高寸法精度のガラスセラミック配線基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 ガラスセラミックスから成る絶縁基体の表面に配線導体と配線導体に接続された抵抗体とが形成されたガラスセラミックス配線基板において、抵抗体は１５乃至６５質量％のガラスと３５乃至８５質量％の酸化錫とからなり、酸化錫の平均粒径が０．９乃至１．４μｍである。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（νｄ）が５０〜５９であって、プレス成形型と反応しにくい性質、低温軟化性、優れたガラス安定性、高屈折率特性を有し、精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】モル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２の合計含有量（Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が４５〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３含有量に対するＳｉＯ_２含有量のモル比率（ＳｉＯ_２／Ｂ_２Ｏ_３）が０．１〜０．５であり、Ｌａ_２Ｏ_３ ５〜１５％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０．１〜８％、Ｙ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ３〜１８％、ＺｎＯ ０．１〜１５％、ＣａＯ ２〜２０％、ＢａＯ ０〜５％ＳｒＯ ０〜５％、ＭｇＯ ０〜５％、およびＺｒＯ_２ ０〜５％を含み、かつ式（１） νｄ≧３０８．５−１５０×ｎｄ（ただし、５０≦νｄ≦５９） …（１）の関係を満たす屈折率（ｎｄ）及びアッベ数（νｄ）を有する光学ガラスである。 （もっと読む）

本発明はディスプレイの分野に関係する。
本発明の対象の一つは電界放出ディスプレイ用の基材を製造するためのガラス組成であり、これは光源Ｄ_６５の下での全体的な透過率ＴＬ_{（Ｄ６５）}を有し、２．８ｍｍのガラス厚の場合に測定すると、この値が４５〜８０％で変化し、そして好ましくは７２％又はそれより小さく、かつこのガラス組成は以下の色座標によって定義される青−灰色着色を有する：
ａ＊＝−４〜＋１、好ましくは−２〜０；及び
ｂ＊＝−６〜＋３、好ましくは−２〜０。
得られた基材は都合よく１０Ｃｄ／ｍ^２未満の反射輝度（Ｒ）を有する。 （もっと読む）

【課題】 表面の研磨を容易に行うことができ、またＵやＴｈを含む研磨剤が表面に付着することに起因するカバーガラスのα線放出量の増大を防ぐことが可能な半導体パッケージ用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 大板ガラスの表面を研磨加工した後、その周縁部を除去すると共に、内側部分を細断加工することによって、α線放出量が０．０１ｃ／ｃｍ²・ｈｒ以下のガラス小片を作製する。 （もっと読む）

実質的に透明なガラスセラミック、およびアルミノガレート尖晶石結晶相を示し、かつＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｋ₂Ｏ−Ｇａ₂Ｏ₃−Ｎａ₂Ｏ系内に入り、特に、酸化物基準の重量パーセントで表して、２５〜５０％のＳｉＯ₂、０〜２６％のＡｌ₂Ｏ₃、１５〜４５％のＺｎＯ、０〜２５％のＫ₂Ｏ、０〜１０％のＮａ₂Ｏ、０〜３２％のＧａ₂Ｏ₃から実質的になり、Ｋ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＞１０％、かつＡｌ₂Ｏ₃＋Ｇａ₂Ｏ₃＞１０％であるガラスセラミック組成を有するガラスセラミックであって、その微小構造が、少なくとも１５重量％の六方晶ＺｎＯ結晶を有してなる結晶相を示すものであるガラスセラミックを製造する方法が開示されている。開示された別の態様は、光ファイバ、利得またはレーザ媒体、増幅成分、および可飽和吸収体からなる群より選択される光学素子であって、該素子が、前記と同じ組成の透明ガラスセラミックを有してなり、少なくとも約１５重量％の結晶度の六方晶ＺｎＯ結晶を含有する光学素子である。
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【課題】浮上量が１０ｎｍ以下の低浮上量で磁気ヘッドを浮上飛行させる磁気ディスクを製造する場合に特に有益な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、該ガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フッ素含有量が５重量％以下である希土類酸化物を主成分とする研磨剤をガラス基板に供給し、研磨布とガラス基板とを相対的に移動させてガラス基板の表面を鏡面研磨した後に、このガラス基板をアスコルビン酸及びフッ素イオンと、３重量％以上の硫酸を含有する洗浄液に接触させて、前記研磨剤を溶解除去する。洗浄液に含有されるアスコルビン酸の濃度は０．１重量％以上とし、フッ素イオンの含有量は１ｐｐｍ以上４０ｐｐｍ以下とする。得られた磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を成膜して磁気ディスクを製造する。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が６３〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜５、Ｎａ_２Ｏが２〜７、Ｋ_２Ｏが１４〜１７、ＭｇＯが１０〜１８、ＣａＯが０〜７、ＳｒＯが０〜３、ＢａＯが０〜３、ＺｒＯ_２が０．５〜７からなり、かつ歪点が５７０℃以上であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。３０℃〜３００℃における平均線熱膨張係数が（８６〜９０）×１０^−７／℃、破壊靭性Ｋ_ＩＣが０．７ＭＰａ・ｍ^１／２以上で、密度が２．６ｇ／ｃｍ^３未満である特徴も有す。 （もっと読む）

本発明は、固体セラミック部品と、少なくとも1つの他の固体部品とを接合する際に有用なガラスセラミック材料およびその製造方法である。この材料は、M1-M2-M3-M4を配合したもので、M1は、BaO、SrO、CaO、MgO、またはそれらの組み合わせであり、M2は、Al₂O₃であり、配合物中に2〜15 mol%の量で存在し、M3は、50 mol%以下のB₂O₃を有するSiO₂であり、かつLa₂O₃、Y₂O₃、Nd₂O₃、もしくはその組み合わせからなる群より選択される金属酸化物、または0.1〜7.5 mol%のK₂Oである。La₂O₃、Y₂O₃、Nd₂O₃またはそれらの組み合わせの群からの金属酸化物の場合には、組成物は、0.1〜3 mol%のCuOをさらに含有することが好ましい。全ての場合において、結晶相のガラスセラミック材料は、25℃〜1000℃で測定した時に、熱膨張係数が12 x 10^-6℃^-1である固体電解質の熱膨張係数と実質的に一致し、この熱膨張係数は、熱サイクルを繰り返しても低下しない。本発明に従って、M1-Al₂O₃-M3-M4系の一連のガラスセラミックを、筒状および平面状両方の固体酸化物燃料電池、酸素電気分解装置、および合成ガス、汎用化学製品および他の製品を製造するための膜反応装置を接合またはシールする際に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】高屈折率低分散性を有し、さらに高い転移温度（Ｔｇ）を有し、精密プレス成形に使用するガラスプリフオーム材、及び精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．９以上、アッベ数（νｄ）が２５以上を有し、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３及びＧｅＯ_２からなる群より選択される１種又は２種以上、並びにＬａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｌｉ_２Ｏ及びＺｎＯを含有する光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、熱膨張係数が小さい基板を用いても割れやリークが発生しにくいとともに、パネル内部のガスの排気から希ガスを導入密封するに至る工程で軟化変形せず、短時間で熔断・封止しやすいディスプレイ用排気管ガラスおよびそのガラスを用いて作製したディスプレイ用排気管を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用排気管ガラスは、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系ガラスであって、含有するホウ素をＢ₂Ｏ₃として換算し、含有するＲ（ＲはＬｉ、ＮａおよびＫから選ばれる１種以上）をＲ₂Ｏとして換算した時の質量比（Ｂ₂Ｏ₃／Ｒ₂Ｏ）が０．８８〜４．０であることを特徴とし、本発明のディスプレイ用排気管は、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系ガラスであって、含有するホウ素をＢ₂Ｏ₃として換算し、含有するＲ（ＲはＬｉ、ＮａおよびＫから選ばれる１種以上）をＲ₂Ｏとして換算した時の質量比（Ｂ₂Ｏ₃／Ｒ₂Ｏ）が０．８８〜４．０であるガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】緻密で、素体との接着強度が高く、且つ、耐めっき液性が極めて優れ、薄膜化にも対応可能な端子電極を形成することのできる導体ペースト、並びに、この導体ペーストに好適に用いられるガラス粉末を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｒ_２Ｏ（Ｒはアルカリ金属）及びＲ’Ｏ（Ｒ’はアルカリ土類金属）、又はこれらの成分に更にＢ_２Ｏ_３を含有するガラス粉末であって、該ガラス粉末中における前記各成分の重量％による含有率が下記式（１）を満たすと共に、該ガラス粉末の軟化点Ｔｓ〔℃〕及びガラス転移点Ｔｇ〔℃〕が、１３０≦（Ｔｓ−Ｔｇ）≦２８０を満たすことを特徴とするガラス粉末、酸化物換算で下記の組成からなる成分を含有し、下記式（１）を満たすことを特徴とするガラス粉末、及び該ガラス粉末用いた導体ペースト。
（Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３）／ＳｉＯ_２≦０．９５ ・・・・・ （１） （もっと読む）

【課題】耐電圧が高く、しかも透明性に優れた誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレーパネルの誘電体形成用ガラス粉末を提供する。
【解決手段】５０％粒子径Ｄ₅₀が２．８μｍ以下であるプラズマディスプレーパネルの誘電体形成用ガラス粉末であって、重量百分率でガラス粉末６０〜８０％、セラミック粉末０〜１０％、熱可塑性樹脂５〜３０％、可塑剤０〜１０％で構成される誘電体形成用グリーンシートの構成成分として使用されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 樹脂劣化に影響を及ぼす有害紫外線の遮蔽性に優れており、蛍光ランプ用途として十分な耐紫外線ソラリゼーション性を持ちながら、蛍光ランプ製造工程に於ける管成形及び２次加工の熱履歴での耐失透性に優れたガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２
５５〜７８％、 Ａｌ_２Ｏ_３ １〜１０％、 Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２５％、 Ｌｉ_２Ｏ+Ｎａ_２Ｏ+Ｋ_２Ｏ
５〜１５％、 ＣａＯ+ＭｇＯ+ＢａＯ+ＳｒＯ+ＺｎＯ ０〜５％、 ＺｒＯ_２ ０.０１〜３％、 Ｆｅ_２Ｏ_３
０〜０．０５％、 Ｖ_２Ｏ_５
０．０５〜２．０％、ＣｅＯ_２ ０．０５〜２．０％、Ｖ_２Ｏ_５+ＣｅＯ_２ ０．１〜３．０、ＴｉＯ_２ ０〜２．０、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜５．０、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜５．０、ＴｉＯ_２+Ｎｂ_２Ｏ_５+Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜５．０％を含有し、実質的にＳｂ_２Ｏ_３、Ａｓ_２Ｏ_３、ＰｂＯを含まず、０〜３００℃の温度範囲における平均線膨張係数が３６〜５７×１０^−７／℃であることを特徴とする。
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【課題】 生産性が高く、光伝播損失の増大およびファイバ強度の低下の要因となるプリフォーム中の欠点の発生を抑制することができる光ファイバ製造の方法。
【解決手段】 Ｂｉ_２Ｏ_３を３０〜８０ｍｏｌ％含有する光ファイバを、下記工程（ａ）〜（ｅ）を経て得られるコア・クラッド構造のプリフォームを線引きして製造する。（ａ）表面を酸洗浄したコア用ガラスロッドを第１のクラッド用ガラス管に挿入。（ｂ）前記コア用ガラスロッドと前記第１のクラッド用ガラス管との隙間を減圧しながら加熱延伸してコア・クラッド構造の第１のプリフォームを作製。（ｃ）前記第１のプリフォームの表面を酸洗浄して第２のクラッド用ガラス管に挿入。（ｄ）表面を酸洗浄した前記第１のプリフォームと前記第２のクラッド用ガラス管との隙間を減圧しながら加熱延伸してコア・クラッド構造を有する第２のプリフォームを作製。（ｅ）前記第２のプリフォームの表面を酸洗浄する。 （もっと読む）

【課題】高プロトン導電性を維持しつつ、且つ、水分雰囲気に対する耐久性を高めるのに有利な高プロトン導電性ガラス、これを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ土類金属の酸化物、Ｐ₂Ｏ₅系を主要成分とすると共にプロトン導電性をもつ高プロトン導電性ガラスであって、Ａｌ及びシリカのうちの少なくとも１種を外付け添加割合で０．０２〜８モル％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】白色フリットの熱膨張率を素地ガラスのそれと実質的に一致させ、色筋部分と素地ガラスの界面にほとんど残留応力を生じさせない。
【解決手段】素地ガラスよりも熱膨張率の小さな白色フリットと大きな白色フリットの２種類の白色フリットを製造し、この２種類の白色フリットを素地ガラスの熱膨張率に適合させるように混合して素地ガラスに混入することにより、熱膨張率を素地ガラスにほぼ完全に一致させることができ、色筋部分と素地ガラスの界面にほとんど残留応力が生じない。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）のコントラストの向上が可能となり得るプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆されているプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法であって、ガラス層とガラス基板が接している部分の色がＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系で表して−５＜ａ^＊＜−１．２かつ−６＜ｂ^＊＜０となるようなガラス層によって前記ガラス基板を被覆するＰＤＰ前面基板の製造方法。ガラス層が質量百分率表示で、ＰｂＯ ３５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜３０％、ＳｉＯ_２ ２〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜２５％、ＣｕＯ ０．２〜１％、ＣｏＯ ０．３〜０．９％、ＣｅＯ_２ ０〜２％、から本質的になり（Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が１７〜４４％であるガラスからなる前記ＰＤＰ前面基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐破砕性を格段に向上した、薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕの群から選ばれた少なくとも一種の希土類元素を含み、さらに少なくともＳｉ元素とアルカリ金属元素を含有する酸化物系ガラスの表面部に圧縮応力層を形成した。希土類元素は、酸化物換算で１〜１０重量％、圧縮応力層はアルカリ金属イオン交換による化学強化によって形成される。酸化珪素とアルカリ酸化物からなるガラスの中に希土類酸化物を添加して高強度ガラス素材ＨＩＧとし、これに化学強化を施してガラス表面に化学強化層ＣＳＬを形成する。 （もっと読む）