【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び屈折率（ｎ_d）が１．７０〜１．７４未満、アッベ数（ν_d）が４０〜４５（ただし、４０，４５を含まない）の範囲の光学定数を有し、化学的耐久性、特に表面法耐候性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７０〜１．７４未満、アッベ数（ν_d）が４０〜４５（ただし、４０，４５を含まない）の範囲の光学定数を有し、ＳｉＯ₂含有率が１７質量％以下、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５４０℃以下であり、表面法耐候性が級１又は２であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスで、歪点が高く、かつ高耐熱性、高靭性、低密度のものが望まれている。
【解決手段】実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が６４〜７０、Ａｌ_２Ｏ_３が０．５〜５、Ｎａ_２Ｏが１〜７、Ｋ_２Ｏが５〜２０、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１０〜２０、ＭｇＯが３〜１７、ＣａＯが０〜１０、ＳｒＯが０〜５、ＢａＯが０〜５、ＲＯ（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）が１０〜２０、ＺｒＯ_２が０〜５からなり、かつ密度が２．６ｇ・ｃｍ^−３未満、３０℃〜３００℃における平均線熱膨張係数が７０〜９０×１０^―７／℃、ヤング率Ｅが７０〜８０ＧＰａで、かつ密度／ヤング率が０．０３５５ｇ・ｃｍ^−３／ＧＰａ以下、ヤング率×熱膨張係数が６５００ＧＰａ×１０^−７／℃以下であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用基板ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラス繊維表面に平滑性を付与し、摩擦による毛羽を減少し、熱硬化性樹脂の含浸性に優れたガラス繊維、特にロービングクロス用ガラス繊維として好適なガラス繊維を提供する。
【解決手段】本発明のガラス繊維は、軟化点が９０℃以上のポリオレフィン炭化水素を乾燥状態で１０質量％以上含む組成物によりガラスの表面が保護されており、常温のスチレンモノマーに１時間浸漬した後の質量減量率が２０％以上であるものである。 （もっと読む）

【課題】開口数のより大きなレンズを得るべくより屈折率の高いガラスが求められている。
【解決手段】モル％で、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜５７％、ＺｎＯ ５〜２５％、Ｌａ_２Ｏ_３ ５〜３０％、Ｇａ_２Ｏ_３ １〜２０％、ＴｉＯ_２＋ＷＯ_３ １〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１５％、ＧｅＯ_２ ０〜２０％、ＴｅＯ_２ ０〜２０％、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜１０％、ＺｒＯ_２＋Ｉｎ_２Ｏ_３＋Ｙ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３＋ＧｅＯ_２ ３０〜６０％である光学ガラス。また、ガラス転移点が６００℃以下である前記光学ガラス。また、波長４０５ｎｍの光に対する屈折率が１．８５以上、アッベ数が３５以上である前記光学ガラス。前記光学ガラスからなるレンズ。 （もっと読む）

【課題】シリコン単結晶引上げの高温使用下において機械的強度に優れ、引き上げ初期の有転位発生がほとんど無く、かつ単結晶化率の高い石英ガラスルツボを提供する。
【手段】シリコン単結晶引き上げに用いる石英ガラスルツボであって、ルツボ底部を除くルツボ直胴部に、ルツボ内層とルツボ外層によって結晶化促進層を挟み込んだ構造を形成し、ルツボ底部には結晶化促進層を設けないことを特徴とし、例えば、結晶化促進層を有する部分が、ルツボ上端部から直胴部長さの５％以上の範囲であり、結晶化促進成分としてアルミニウム、またはアルカリ土類金属を５０〜５００ppm含有し、結晶化促進層の厚さが１mm以上である石英ガラスルツボ。 （もっと読む）

Ａｌ_２Ｏ_３−Ｌａ_２Ｏ_３−Ｙ_２Ｏ_３−ＭｇＯセラミック（ガラス、結晶質セラミック、およびガラスセラミックを含む）およびその製造方法。本発明によるセラミックを、ガラスビーズ、物品（たとえば、プレート）、繊維、粒子、および薄いコーティングとして、製造、形成するか、それらに変換することができる。粒子および繊維は、たとえば、熱絶縁体、充填剤、または複合材（たとえば、セラミック、金属、またはポリマーマトリックス複合材）中の強化材料として有用である。薄いコーティングは、たとえば、磨耗を伴う用途における保護コーティングとして、および熱管理のために有用であることができる。本発明によるセラミック粒子のいくつかの実施形態は、研磨粒子として特に有用であることができる。
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繊維−サイズ組成物は、修飾ポリオレフィン、親水性カップリング剤、及び下記の少なくとも一つを備えたエンハンサを含んでいる：フッ素含有化合物、疎水性カップリング剤、環式脂肪酸、又は少なくとも一つの脂肪酸が二以上の酸基を有する少なくとも二つの飽和脂肪酸。該組成物をサイズ塗布された補強繊維材料が複合材製品を形成するために使用されるとき、該製品は強度及び色のような改善された特性を示す。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が高いだけでなく誘電損失も小さい回路基板の構成要素として使用できる誘電体の製造に好適な無鉛ガラスの提供。
【解決手段】軟化点が８４０℃以下のＳｉＯ_２−ＢａＯ−ＴｉＯ_２系無鉛ガラスで、ＢａＯ≦２５モル％、ＺｎＯ＜１モル％かつＡｌ_２Ｏ_３を含有し、焼成時にＢａ_２Ｔｉ_９Ｏ_２０結晶またはＢａＴｉ_４Ｏ_９結晶が析出する無鉛ガラス。モル％で、ＳｉＯ_２ ２５〜４５％、ＢａＯ ５〜２５％、ＴｉＯ_２ １８〜３５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ ０〜１５％、ＷＯ_３＋ＺｒＯ_２ ０〜７％、からなり、ＺｎＯ＜１％である無鉛ガラス。 （もっと読む）

【課題】
低誘電率、高絶縁性で微細なスルホールを持つ絶縁層を形成可能にする感光性絶縁ペーストを提供を提供する。
【解決手段】
少なくともシリカ粉末、ガラス粉末および感光性有機成分からなるペーストであって、ガラス粉末が、軟化点が３５０〜５５０℃の低融点ガラスと軟化点が６００〜９００℃の高融点ガラスを含有し、高融点ガラスの比誘電率が８以下であることを特徴とする感光性絶縁ペースト （もっと読む）

【課題】ＬＥＤからなるインジケータの配設に対応する遮光膜の非形成領域から、ＬＥＤの配線等の調理器内部が見えることがなく、ＬＥＤで表示する数字を誤認することがない調理器用トッププレートを提供する。
【解決手段】調理器用トッププレート１は、透明ガラス板２の裏面に遮光膜の形成部と非形成部を有し、非形成部の下方に発光素子７が配置される調理器用トッププレートであって、透明ガラス板の裏面に、発光素子の光線を透過する着色板状体５を取り付ける。 （もっと読む）

レーザ光の照射によって加工されるレーザ加工用ガラスであって、その組成が以下の関係を満たすレーザ加工用ガラス。 ４０≦Ｍ［ＮＦＯ］≦７０ ５≦（Ｍ［ＴｉＯ_２］）≦４５ ５≦Ｍ［ＮＭＯ］≦４０［式中、Ｍ［ＮＦＯ］、Ｍ［ＴｉＯ_２］およびＭ［ＮＭＯ］は、それぞれ、網目形成酸化物の含有率（モル％）、ＴｉＯ_２の含有率（モル％）、および網目修飾酸化物の含有率（モル％）を表す。］。この構成によれば、ガラス表面近傍のみならず、ガラス内部に至るレーザ加工が可能なレーザ加工用ガラスが得られる。
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（ａ）シリカ１０〜３５重量％；（ｂ）アルミナ１０〜３５重量％；（ｃ）酸化亜鉛３〜３０重量％；（ｄ）Ｐ_２Ｏ_５４〜３０重量％；および（ｅ）フッ化物３〜２５重量％を含み、Ｍ_２Ｏ（ただし、ＭはＬｉ、Ｎａ、および／またはＫである）として計算されたアルカリ金属を最大３重量％含有し、酸化亜鉛およびフッ化物の合計の、Ｐ_２Ｏ_５に対する重量比が０．８から３．０であるアルミノシリケートガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、負に充分大きな熱膨張係数を有し、粒径によって熱膨張係数がほとんど変化しない複合材料を作製することができる多結晶粉末を提供することである。
【解決手段】本発明の多結晶粉末は、主結晶としてＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶を含有し、マイクロクラックを有する多結晶体からなり、平均粒径が５５〜３００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、分析チップ使用時に各スポットの蛍光強度のＳ／Ｎ比を向上させ、精確で感度の高い測定ができる、バイオチップまたはマイクロ化学チップなどの分析チップ用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板がソーダライム系シリカガラスであり、かつＦｅ含有量がＦｅ_２Ｏ_３換算で０．１質量％以下であることを特徴とする分析チップ用ガラス基板。好ましくは、前記分析チップ用ガラス基板の分析チップとして使用する面を表面処理剤で処理する。 （もっと読む）

合成石英ガラス部材は、ＯＨ基濃度が１ｐｐｂ〜１０ｐｐｍであり、Ｓｉに結合しているＦ濃度が０．５ｗｔ％〜３．０ｗｔ％であり、水素分子濃度が１×１０^１６個／ｃｍ^３〜５×１０^１７個／ｃｍ^３である。高い紫外光透過率及び耐紫外線特性を有するとともに、緩和率が小さく、しかも面内分布に優れる。１９０ｎｍ以下の波長領域の紫外線に使用することが好適である。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を２０〜３８、Ｂ_２Ｏ_３を４５〜６５、ＺｎＯを０〜５、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を８〜２０、ＣｕＯを０．１〜２含み、ＭｎＯ_２を０〜２、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０〜２０含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ−ＣｕＯ系無鉛低融点ガラスである。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×１０^−７／℃、軟化点が５００℃以上６００℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び高屈折率低分散性を有し、化学的耐久性、特に耐洗剤性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７４〜１．８０、アッベ数（ν_d）が４７〜５１の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＯ、Ｌｉ₂Ｏを含有し、実質的に鉛、ヒ素、弗素を含まず、ＺｒＯ₂の含有率が６質量％以下であり、かつＺｎＯ／（ＺｒＯ₂＋Ｔａ₂Ｏ₅）が０．４５〜１．５であり、ガラス転移点（Ｔｇ）が５３０〜６３０℃であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】従来の技術に記載した光学ガラスの諸欠点を総合的に解消し、特定範囲の光学定数を有し、かつ、転移温度（Ｔｇ）が低く、精密プレス成形に使用できるガラスプリフォーム材、及び精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する
【解決手段】必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃及びＬｉ₂Ｏを含有し、ガラス組成物全質量に対するＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃及びＬｉ₂Ｏの合計量が９１質量％以上であり、屈折率（ｎｄ）が１．６５〜１．７１、アッベ数（νｄ）が５５を超え６０までの範囲の光学定数を有し、液相温度における粘度（ｄＰａ・ｓ）の対数ｌｏｇηが０．５以上であり、かつガラス転移温度（Ｔｇ）が５５０〜６３０℃であることを特徴とする光学ガラス （もっと読む）

【目的】
多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する。
【構成】
ガラス基板の一方の側から、所定の細い孔径を有する孔を所定深さまで形成し、次に、前記ガラス基板の他方の側から、前記細い孔径を有する孔の中心軸と同様の中心軸を有する所定の太い孔径を有する孔を、前記細い孔径を有する孔の底部まで形成して貫通させて、多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する （もっと読む）

溶融物から耐火性のアルカリ土類シリケート繊維を製造する方法は、意図される成分としてアルカリ金属を使用し、アルカリ金属を含まない繊維と比べて繊維の機械特性を改良することを含む。
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