【課題】砒素成分やアンチモン成分を使用せずともガラス中に泡がなく、次世代の情報記録媒体基板用途としての物性を備えたガラス基板を提供すること。とりわけ、次世代の情報記録媒体用基板として適用しうる比重と機械的強度のバランスを備え、プレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した情報記録媒体用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｒ_２Ｏ成分を必須で含有し、さらに清澄成分としてα元素を含有し、ガラス中のα元素酸化物とβ元素化合物のモル比βｍ／αｍが０．１未満であり、比重が２．７未満であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。ただしα元素はＳｎ、Ｃｅのうちどちらか１種の元素であり、β元素は、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｗ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｓ、Ｃｌ、およびＦから選ばれる１種以上でありα元素と重複しない。また、Ｒは、Ｌｉ，Ｎａ、Ｋから選ばれる１種以上である。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、かつ熱膨張係数がほぼゼロとなる温度領域をもつ透明超低熱膨張ガラスを得ることができるＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂濃度が３〜１４質量％であり、かつ４００〜７００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ_400〜700が９７％以上であり、４００〜３０００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ_400〜3000が７０％以上であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するＥＵＶリソグラフィ光学部材用シリカガラス。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張性、低ガラス転移点および低温溶融性を兼ね備えたガラスを提供することであり、０℃〜３００℃における平均線膨張係数が好ましくは５０×１０^−７℃−^１以下、より好ましくは４５×１０^−７℃−^１以下、最も好ましくは４２×１０^−７℃−^１以下であり、ガラス転移点が好ましくは６５０℃以下、より好ましくは６００℃以下、最も好ましくは５８０℃以下のガラスを提供する。
【解決手段】０℃から３００℃における平均線膨張係数が５０×１０^−７℃^−１以下であり、ガラス転移点が６５０℃以下であり、酸化物基準でＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、およびＺｎＯ成分を含有し、これらの成分の合量が７５％以上、これらの成分の質量％の比ＺｎＯ／（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）が０．０８以上であることを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】製造工程での取扱いが容易であって、表面の剥離や経時劣化も少なく、高い光触媒特性を有するガラスセラミックス、及びその製造方法を提供する。特に、比較的容易な方法で所望の形状に成形できる光触媒活性が高いガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】ＴｉＯ_２、又はこの固溶体、から選ばれる少なくとも１種を含む結晶性組成物と、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、又はＰ_２Ｏ_５成分から選ばれる少なくとも１種以上を含むガラス性組成物とからなるガラスセラミックスであって、該ガラス性組成物をマトリックス成分とする。結晶性組成物は、光触媒性が高い結晶型を有することができる。 （もっと読む）

【課題】高強度で耐久性のある構成部品の接着を達成でき、構成部品間の接着部の密閉性をできるだけ高い程度まで到達できるガラスセラミック複合構造物を生成する方法を提供する。
【解決手段】第１（１６）および少なくとも１つの第２（１８）のガラス構成部品を、ガラスからなる接合材（２０）の中間層をその間に挟んで組み立てて被接合複合構造物を形成し、前記接合材（２０）は接合する前記構成部品（１６，１８）よりも高い放射線吸収能を有し、前記被接合複合構造物は少なくとも前記接合材（２０）の領域に、前記接合材（２０）が前記構成部品（１６，１８）と前記接合材（２０）とを接着させるのに十分軟化するまで、例えばＩＲエネルギーで照射することによって、複合ガラス状構造物を作製し、その後セラミック化処理を行う。 （もっと読む）

【課題】耐久性の問題がなく、比較的容易な方法で所望の形状に成形でき、更に光触媒活性が高いガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】光触媒としての活性を持ちえる結晶相として、ＴｉＯ_２、Ｃａ_２Ｔｉ_５Ｏ_１２、Ｃａ_２Ｔｉ_２Ｏ_６、ＣａＴｉＳｉＯ_５又は、これらの固溶体、から選ばれる少なくとも１種を含み、ＳｉＯ２成分を含むガラス相を有し、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ２成分を５〜６０％、ＳｉＯ２成分を１５〜８０％含有するガラスセラミックスである。 （もっと読む）

【課題】ソラリゼーション、紫外線遮断特性、機械的、熱的強度、に優れる液晶表示デバイス用蛍光ランプに用いるガラス管を提供する。
【解決手段】重量百分率で、ＳｉＯ_２ ５５．０〜７５．０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０．０〜２５．０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １．０〜１０．０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜３．８％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．０％、Ｋ_２Ｏ ３．０〜１０．０％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ３．２〜１６．０％、ＴｉＯ_２ ０．５〜８％、ＣｅＯ_２ ０．１〜５％、ＴｉＯ_２＋ＣｅＯ_２ ０．６〜８．１％、Ｆｅ_２Ｏ_３ ０．００１〜０．０５％、Ｓｂ_２Ｏ_３ ０〜０．７％、ＳｎＯ_２ ０．１〜３．０％、かつ、Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，及びＬｕの群から選ばれた少なくとも一種類の希土類元素を０．５〜１０．０％含有し、さらに３０〜３８０℃の温度範囲における線膨張係数が３４〜５８×１０^−７/℃であるガラス、それを用いた蛍光ランプ用ガラス管。 （もっと読む）

【課題】標準的なソーダ−石灰−シリカガラスを基礎とする組成物と、太陽放射線吸収性物質及び着色剤としての、追加的な鉄及びコバルト(任意的にクロム)とを使用した、青色に着色されたガラスを提供する。
【解決手段】ガラスは、全鉄約０．４０〜１．０重量％(好ましくは約０．５０〜０．７５重量％)、ＣｏＯ約４〜４０ｐｐｍ(好ましくは約４〜２０ｐｐｍ)、及びＣｒ₂Ｏ₃０〜１００ｐｐｍを含有する。ガラスのレドックス比は０．３５〜約０．６０であり、好ましくは約０．３６〜０．５０である。１つの態様において、ガラスは、少なくとも５５％の視感透過率と４８５〜４８９ｎｍの主波長及び約３〜１８％の刺激純度によって特徴付けられる色を有する。他の態様において、ガラスは、約３．９ｍｍ(０．１５４インチ)の厚さで少なくとも６５％の視感透過率と４８５〜４９２ｎｍの主波長及び約３〜１８％の刺激純度によって特徴付けられる色を有する。 （もっと読む）

【課題】熱膨張係数の十分大きな結晶化ガラス基板が安定的に得られる製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともＳｉＯ_２を主成分として含有するガラス基板に、露光エネルギーを１〜２０Ｊ／ｃｍ^２の間で調節して紫外線露光を行い、次いで熱処理温度を７８０℃〜９００℃の間で調節して熱処理を行う結晶化ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高周波雑音電波を効率良く吸収する抵抗体を形成すべく、高周波雑音電波の吸収能が高く、且つブロック粒子として適正に機能し得る抵抗体形成用ガラス組成物を創案することにより、小型の点火プラグの信頼性および生産性を向上させること。
【解決手段】本発明の抵抗体形成用ガラス粉末は、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２８〜４０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １〜２０％、ＣａＯ ０．１〜２０％、ＢａＯ ０〜７％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｎａ成分を含有することによって溶射対象にした熱膨張係数の設計を容易とし、溶射後のガラス質表面を平滑にできるガラス質被膜形成ロール体の製造方法及びこれに用いるガラス質溶射材料、さらに当該製造方法により製造したオゾン発生装置の無声放電用電極を提供する。
【解決手段】主成分：｛ＳｉＯ₂，Ｂ₂Ｏ₃，Ｌｉ₂Ｏ，Ｎａ₂Ｏ，ＢａＯ，ＺｎＯ，ＴｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃の全て｝及び補助成分を含む粒状のガラス質溶射材料を用い、被塗物表面にブラスト処理で表面の算術平均粗さを２〜７μｍとする表面粗し工程、この表面を２００〜１０００℃に加熱する加熱工程、表面から４〜８ｃｍの距離よりガラス質溶射材料をプラズマ溶射して少なくとも３層以上からなるガラス質被膜を形成すると共にプラズマ溶射後に形成されるガラス質被膜表面の算術平均粗さを０．２〜３．０μｍとするガラス質被膜を得るプラズマ溶射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】フリントガラスをベースガラスとし、カララントフォアハースで還元剤及び着色剤を添加して赤色ガラスを安定して製造する。
【解決手段】ガラス中におけるＦｅ２＋及びＦｅ３＋の間に成立する存在比Ｆｅ２＋／（Ｆｅ２＋＋Ｆｅ３＋）≦０．３のベースガラスに対し、カララントフォアハースにおいて、スズ及び亜鉛を含む第１フリットを投入し、さらにその下流側において銅、スズ及び亜鉛を含む第２フリットを投入することで、フリントガラスをベースガラスとして赤色ガラスを安定して製造できる。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、高い熱的安定性を有する光学ガラスと、これを用いた光学素子及び光学機器を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜３５．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を２０．０〜５０．０％、及び／又はＳｉＯ_２成分を０〜１５．０％含有するものである。光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。光学機器は、この光学ガラスで作製された光学素子を備えるものである。この光学ガラスによれば、Ｂ_２Ｏ_３成分及びＬａ_２Ｏ_３成分を併用し、かつＳｉＯ_２成分の含有率を上記範囲内に抑えることで、ガラス転移点（Ｔｇ）と結晶化開始温度（Ｔｘ）との差ΔＴが大きくなり、ガラス内部における結晶核の発生及び結晶の成長が抑制される。 （もっと読む）

【課題】
軽量であってかつ環境負荷を低減しつつ高い清澄性を有する表示装置用ガラス基板を提供する。
【解決手段】
質量％表示で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜１８％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２５％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜２０％、ＳｒＯ ０〜２０％、ＢａＯ０〜１０％、ＲＯ ５〜２０％（ただしＲはＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａから選ばれる少なくとも１種である）、Ｒ’_２Ｏ ０．２０％を超え２．０％以下（ただしＲ’はＬｉ、ＮａおよびＫから選ばれる少なくとも１種である）を含むとともに、溶融ガラス中で価数変動する金属の酸化物を合計で０．０５〜１．５％含み、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３およびＰｂＯを実質的に含まないガラスからなることを特徴とする表示装置用ガラス基板である。 （もっと読む）

【課題】高分散特性を備えるとともに、高次の色消しに好適であり、優れたガラス安定性を備えた光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％表示で、ＳｉＯ_２：１２〜４０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：１５％以上４２％未満、ＴｉＯ_２：２％以上１８％未満（ただし、Ｎｂ_２Ｏ_５／ＴｉＯ_２が０．６超である）、Ｌｉ_２Ｏ：０．１〜２０％、Ｎａ_２Ｏ：０．１〜１５％、Ｋ_２Ｏ：０．１〜２５％、を含み、アッベ数νｄが２０〜３０、ΔＰg,Fが０．０１６以下、液相温度が１２００℃以下のガラスとする。 （もっと読む）

【課題】Ｂ₂Ｏ₃を含有せず、ＬＣＤパネル用のガラス板として用いることができるディスプレイパネル用ガラス板の提供。
【解決手段】実質的にＢ₂Ｏ₃を含有せず、酸化物基準の質量％表示で、ガラス母組成として、ＳｉＯ₂：７３．５〜７８．５、ＭｇＯ：１０．６〜１１．８、Ｎａ₂Ｏ：３．０〜１５．０、Ｋ₂Ｏ：１．０〜１２．０、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：６．０〜１５．０からなり、密度が２．４５ｇ／ｃｍ³以下であり、５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が７５×１０^-7／℃以下であり、ガラス転移点が６１０℃以上であり、ブリトルネスが６．５μｍ^-1/2以下であり、粘度をηとするときｌｏｇη＝２．５を満たす温度が１６２０℃以下であるディスプレイパネル用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８８〜１．９２の高屈折率領域で、かつνｄが３３〜３７の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】重量％表示で、ＳｉＯ₂を１．０％以上１２．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を８．０％以上１８．０％以下、ＺｎＯを０％以上６．０％以下、ＺｒＯ₂を１．０％以上１０．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を２５．０％以上４７．０％以下、Ｒ₂Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫの少なくとも１つ）を０％以上５．０％以下、ＢａＯを０％以上１５．０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅を０％以上１５．０％以下、ＴｉＯ₂を０％以上７．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を０％以上１５．０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅＋ＴｉＯ₂＋Ｔａ₂Ｏ₅を２．０％以上、Ｇｄ₂Ｏ₃を０％以上２０．０％以下、ＷＯ₃を０．５％以上１０．０％以下、及びＮｂ₂Ｏ₅＋ＷＯ₃を１０．０％以上１６．０％以下含み、ｎｄが１．８８〜１．９２で、νｄが３３〜３７の光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）

【課題】基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上、特に２０００ｍｍ×２０００ｍｍ以上である場合に、ガラス基板全面に渡って、溶融欠陥検査を適正に行うことにより、溶融欠陥がない大型のガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明のガラス基板は、基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上であり、且つ経路長５０ｍｍにおける波長５００〜８００ｎｍの透過率が８０％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８３〜１．８７の高屈折率領域にあり、かつνｄが４３〜４７の範囲にある、高屈折率−低乃至中分散型の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】ｍｏｌ％表示で、ＳｉＯ₂を１４．０％以上３１．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を１９．０％以上４０．０％以下、Ｌｉ₂Ｏを０％以上５．０％以下、ＺｎＯを０％以上８．０％以下、ＺｒＯ₂を６．０％以上１２．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を１５．０％以上２６．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を２．０％以上５．０％以下、Ｇｄ₂Ｏ₃を４．０％以上１６．０％以下、及びＬａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃を２６．０％以上３５．０％以下含み、ｎｄが１．８３以上１．８７以下で、νｄが４３以上４７以下である光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８８〜１．９２の高屈折率領域で、かつνｄが３３〜３７の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】重量％表示で、ＳｉＯ₂を１．０％以上１２．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を８．５％以上１８．０％以下、ＺｎＯを０％以上６．０％以下、ＺｒＯ₂を１．０％以上１０．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を２５．０％以上４７．０％以下、Ｒ₂Ｏ（ただし、ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫの少なくとも１つ）を０％以上５．０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅を０％以上１６．０％以下、ＴｉＯ₂を０％以上７．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を０％以上１５．０％以下、Ｎｂ₂Ｏ₅＋ＴｉＯ₂＋Ｔａ₂Ｏ₅を１．０％以上、Ｇｄ₂Ｏ₃を０％以上２６．０％以下、及びＷＯ₃を０％以上１３．０％以下含み、実質的に、Ｒ’Ｏ（ただし、Ｒ’はＢａ、Ｓｒ、Ｃａ及びＭｇの少なくとも１つ）を含まず、ｎｄが１．８８〜１．９２で、νｄが３３〜３７の光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）