【課題】本発明の有機ＥＬディスプレイ用封着材料は、ビスマス系ガラス粉末２５〜６０体積％未満、耐火性フィラー粉末４０超〜７５体積％を含有し、且つビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３を０．５〜１５質量％を含有することを特徴とする。
【解決手段】レーザー光等の照射光による局所加熱に好適であるとともに、低軟化特性と高耐水性を有し、しかも熱膨張係数が低い有機ＥＬディスプレイ用封着材料を創案することにより、信頼性が高い有機ＥＬディスプレイを作製すること。 （もっと読む）

【課題】５００℃以上で仮焼成しても、ガラスに結晶が析出し難く、且つＰｂＯを含有しなくても、４５０〜５００℃で封着可能なビスマス系ガラス組成物および封着材料を創案すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ３０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜３５％、Ｎｄ_２Ｏ_３ ０．０１〜１０％、ＺｎＯ ０〜３５％含有し、且つＮａ_２Ｏの含有量が６％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プレス成形を行った後において、ガラス成形体の表面の凹凸や曇りを低減することのできるガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の曇り低減方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、軟化したガラスに対して金型内でプレス成形を行うガラス成形体の製造方法において、Ｓｂ成分を実質的に含有しないガラスを用いるものである。また、ガラス成形体の曇り低減方法は、軟化したガラスに対する金型内でのプレス成形によって作製されるガラス成形体の曇り低減方法であって、プレス成形前のガラスに含まれるＳｂ成分を低減するものである。 （もっと読む）

【課題】ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、厚みが小さい封着層を形成しても、封着層や被封着物に不当な応力が残留し難い封着材料を創案することにより、信頼性が高い圧電振動子パッケージ等を得ること。
【解決手段】本発明の封着材料は、（１）厚みが３５μｍ以下の封着層を形成するための封着材料であって、（２）封着材料が、体積％で、ガラス粉末を５０〜９９％、耐火性フィラー粉末を１〜５０％含有し、（３）耐火性フィラー粉末の最大粒子径Ｄ_ｍａｘが２．５〜３５μｍ未満であり、（４）耐火性フィラー粉末の最大粒子径Ｄ_ｍａｘが封着層の厚みより小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、ケイ素半導体デバイスおよび光起電力電池用導電性ペーストに有用なガラス組成物に関する。厚膜導体組成物は、１つ以上の電気機能性粉末と、有機媒体に分散された１つ以上のガラスフリットとを含む。厚膜組成物はまた１つ以上の添加剤を有していてもよい。例示の添加剤としては、金属、金属酸化物または焼成中、これらの金属酸化物を生成することのできる任意の化合物を挙げることができる。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、極めて大きい部分分散比［θｇ，Ｆ］を有する光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を６２．０〜９５．０％、及びＬｎ_２Ｏ_３成分を含有し（ＬｎはＹｂ、Ｌａ，Ｙ，Ｇｄからなる群より選ばれる１種以上を示す。）、０．６３０以上０．７００以下の部分分散比［θｇ，Ｆ］を有し、１３以上２７以下のアッベ数（ν_ｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．６５〜１．９５であり、屈伏温度が５００℃以下と低く、且つ、耐失透性が良好な、モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００重量％とし、酸化物組成として、
（１）Ｂ_２Ｏ_３：７〜２８重量％、Ｂｉ_２Ｏ_３：３０〜７７重量％及びＧａ_２Ｏ_３：３〜３５重量％、並びに
（２）Ｒ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ又はＣｓ）：０．１〜３５重量％及びＲ’Ｏ（但し、Ｒ’はＢｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ又はＺｎ）：０．１〜２５重量％からなる群から選択される少なくとも１種を含有し、
屈折率が１．６５〜１．９５であり、且つ、屈伏温度が５００℃以下である、
ことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）、アッベ数（ν_ｄ）及びガラス転移点（Ｔｇ）が所望の範囲内にありながら、より高い熱的安定性を有する光学ガラスと、これを用いた精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３５．０％、及びＢｉ_２Ｏ_３成分を６．０〜６５．０％含有する。光学素子は、この光学ガラスを精密プレス成形してなるものである。 （もっと読む）

【課題】
Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラスにおいて、極めて大きい部分分散比［θｇ，Ｆ］を維持しつつ、アッベ数［νｄ］が特徴的な値を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】
酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を４５％以上含有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数が２７以下であることを特徴とする光学ガラス。 酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分，ＢａＯ成分，ＺｎＯ成分，Ｂ_２Ｏ_３成分，ＳｉＯ_２成分，Ｓｂ_２Ｏ_３成分の含有量の総和が９６％未満となることを特徴とする前記光学ガラス。酸化物基準の質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分に対するＢ_２Ｏ_３成分の比が、０．２０未満であることを特徴とする前記の光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】製造工程での取扱いが容易であって、表面の剥離や経時劣化も少なく、高い光触媒特性を有するガラスセラミックス、及びその製造方法を提供する。特に、比較的容易な方法で所望の形状に成形できる光触媒活性が高いガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】ＴｉＯ_２、又はこの固溶体、から選ばれる少なくとも１種を含む結晶性組成物と、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、又はＰ_２Ｏ_５成分から選ばれる少なくとも１種以上を含むガラス性組成物とからなるガラスセラミックスであって、該ガラス性組成物をマトリックス成分とする。結晶性組成物は、光触媒性が高い結晶型を有することができる。 （もっと読む）

【課題】光透過率の高い酸化ビスマスを含有するガラス部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化ビスマス（Ｂｉ_２Ｏ_３）を含有するガラス原料１１をルツボ１２の中に入れた後、溶融炉１３の中にルツボ１２を入れ、ガラス原料１１を溶融させて融液１４にする。次に、融液１４を充分に攪拌することができる粘度になるまで融液１４を加熱した後、融液１４を保温しつつ攪拌する。次に、ルツボ１２を溶融炉１３から取り出して、ルツボ１２中で融液１４の粘度が１Ｐａ・ｓ以上１０^４Ｐａ・ｓ以下の範囲内となるまで融液１４を冷却する。最後に、融液１４の粘度が１Ｐａ・ｓ以上１０^４Ｐａ・ｓ以下の範囲内となったときに、融液１４を急冷成型する。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、高い熱的安定性を有する光学ガラスと、これを用いた精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を１０．０〜７０．０％、ＧｅＯ_２成分を１．０〜３０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を１．０〜４０．０％含有するものである。光学素子は、この光学ガラスを精密プレス成形してなるものである。この光学ガラスによれば、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を加えることによって、ガラス転移点（Ｔｇ）が結晶化開始温度（Ｔｘ）に比べて大きく下がり、ガラスの熱的耐久性が高められる。また、Ｂｉ_２Ｏ_３成分、ＧｅＯ_２成分及びＬａ_２Ｏ_３成分を併用し、Ｂｉ_２Ｏ_３成分、ＧｅＯ_２成分、及びＬａ_２Ｏ_３成分の含有率を上記範囲内に抑えることによって、ガラスの高屈折率化及び透過率改善が図られる。 （もっと読む）

【課題】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラスにおいて、極めて大きい部分分散比[θｇ，Ｆ]を維持しつつ、アッベ数[νd]が特徴的な値を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分及び/又はＢ_２Ｏ_３成分を含有し、酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を４０〜９０％含有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１０８×［νｄ］＋０．８５２９を満たすことを特徴とする光学ガラス。酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３ 成分を６４〜９０％含有する請求項１記載の光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】レーザー光による局所加熱に好適な有機ＥＬディスプレイ用封着材料を創案することにより、信頼性の高い有機ＥＬディスプレイを作製すること。
【解決手段】本発明の有機ＥＬディスプレイ用封着材料は、レーザー光による封着処理に供される有機ＥＬディスプレイ用封着材料であって、ガラス粉末を５０〜９９．９質量％、無機顔料を０．１〜２０質量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザー光等の照射光による局所加熱に好適であるとともに、低軟化特性と高耐水性を両立させた有機ＥＬディスプレイ用封着材料を創案することにより、信頼性の高い有機ＥＬディスプレイを作製すること。
【解決手段】本発明の有機ＥＬディスプレイ用封着材料は、ビスマス系ガラス粉末５５〜１００体積％、耐火性フィラー粉末０〜４５体積％含有し、且つビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３を０．２〜１５質量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．６５〜１．９５であり、屈伏温度が５００℃以下と低く、且つ、耐失透性が良好な、モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００重量％とし、酸化物組成として、Ｂ_２Ｏ_３：６〜２５重量％、ＧｅＯ_２：３〜４８重量％及びＢｉ_２Ｏ_３：３５〜８９重量％を含有し、
屈折率が１．６５〜１．９５であり、且つ、屈伏温度が５００℃以下である、
ことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 電界放出型ディスプレイに代表される電子材料基板開発で、金属ゲート電極をケミカルエッチングする際に、そのエッチャント（例えば硝酸など）によって侵食されない耐酸性を有する無鉛絶縁性ガラス材料が求められている。
【解決手段】 実質的にＰｂＯを含まず、質量％で表して、ＳｉＯ_２ １２〜３５、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜２０、Ｂｉ_２Ｏ_３ ３５〜７５、Ｌｉ_２Ｏ，Ｎａ_２Ｏ，Ｋ_２Ｏのうちから選択される少なくとも一種 ０〜８、からなることを特徴とする、耐酸性を有する無鉛低融点ガラス。または該ガラス粉末とセラミックス粉末のフィラーからなることを特徴とする無鉛低融点ガラス組成物。
（もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）、アッベ数（ν_ｄ）、及び部分分散比（θｇ，Ｆ）が所望の範囲内にありながら、高い熱的安定性を有する光学ガラスと、これを用いた精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を５５．０〜８５．０％、及びＧｅＯ_２成分を１．０〜３０．０％含有するものである。光学素子は、この光学ガラスを精密プレス成形してなるものである。この光学ガラスによれば、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を加えることによって、ガラス転移点（Ｔｇ）が結晶化開始温度（Ｔｘ）に比べて大きく下がり、ガラスの熱的耐久性が高められる。また、Ｂｉ_２Ｏ_３成分及びＧｅＯ_２成分を併用することによって、ガラスの高屈折率化が図られる。さらに、Ｂｉ_２Ｏ_３と他成分との比率を所定の範囲内にすることによって、ガラスの部分分散比（θｇ，Ｆ）が大きくなる。 （もっと読む）

ガラスフリット、導電性インク及び導電性インクが適用された製品が記載される。一以上の実施形態によると、ガラスフリットは意図的に添加された鉛を有さず、ＴｅＯ_２、並びにＢｉ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２及びそれらの組み合わせの１種以上を含む。ガラスフリットの一実施形態は、Ｂ_２Ｏ_３を含み、更にＺｎＯ、Ａｌ_２Ｏ_３及び／又はそれらの組み合わせを含む。一実施形態は、意図的に添加された鉛を有さず、ＴｅＯ_２、並びにＢｉ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２及びそれらの組み合わせの１種以上を含むガラスフリットを含む導電性インクを提供する。他の実施形態は、意図的に添加された鉛を有さないガラスフリットを含む導電性インクが配置された半導体又はガラスシート等の基板を有する製品を含む。 （もっと読む）

【課題】粘度の上昇を抑制しつつ長期間安定して保存でき、しかも無機酸化物の沈降分離が起こりにくい、分散性に優れた無機酸化物含有ペースト組成物を提供する。
【解決手段】無機酸化物（Ａ）と、アミン価及び酸価を有し、アミン価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上かつ酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である水溶性分散剤（Ｂ）と、有機バインダー（Ｃ）とを含む、ペースト組成物。 （もっと読む）