【課題】 高速回転化に対応できる情報記憶媒体を得ること。
【解決手段】 ＳｉＯ_２を４５−６５モル％、Ａｌ_２Ｏ_３を０−１５モル％、Ｌｉ_２Ｏを４−２０モル％、Ｎａ_２Ｏを０−８モル％、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ）を４−２８モル％、ＣａＯを０−２１モル％、ＭｇＯを０−２２モル％、（ＣａＯ＋ＭｇＯ）を４−４０モル％、Ｙ_２Ｏ_３を０−１６モル％、及び、ＴｉＯ_２を１−１５モル％含み、かつ１００ＧＰａ以上のヤング率、１３５０℃以下の液相温度を達成するガラス成分によって形成されている情報記憶媒体用基板上に記録層を形成して情報記憶媒体を作製する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の粒度および熱膨張係数等を改良し、封着材料の熱的安定性を向上させるとともに、封着材料の流動性を向上させることにより、スローリーク等が発生し難い平面表示装置を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の平均粒子径Ｄ₅₀が９〜２４μｍ、９０％粒子径Ｄ₉₀が３２〜９０μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスに含有される希土類成分を還元するに際し、希ガスと水素の混合気体雰囲気、窒素と水素の混合気体雰囲気等の還元ガス雰囲気中での還元処理を必要とせず、従って、処理作業中に爆発する危険性が無く、内部まで還元処理できるガラスの製造方法または結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスを熱処理する過程、またはガラスを熱処理して結晶化する過程において、該ガラスに０．１ｍＡ〜１０ｍＡの電流を通電する。該ガラスは希土類成分、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅの成分を少なくとも１種以上含有したガラスであり、該ガラスに電場を印加して通電しながら熱処理する、または熱処理して結晶化することで、希土類成分、Ｃｒ、Ｍｎ及びＦｅの成分が還元されたガラスまたは結晶化ガラスが製造される。 （もっと読む）

【課題】平面表示装置で最適な気密容器の構成、特に支持枠の材料構成、平面表示装置の信頼性向上、製品コストの低廉化に関する。
【解決手段】ガラス粉末を含有する粉末材料を焼結させた支持枠を介し一対のガラス基板を備えた平面表示装置で、（１）ガラス粉末が、非晶質であり、（２）ガラス粉末が、下記酸化物換算の質量％表示で、ガラス組成として、Ｂｉ₂Ｏ₃ ２０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ８〜３５％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜１５％、Ｒ₂Ｏ ０〜２０％（但し、Ｒ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏを指す）、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％、Ｒ’Ｏ ０〜４０％（但し、Ｒ’Ｏは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯを指す）、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％含有するとともに、（３）一方のガラス基板と支持枠が融着されており、（４）他方のガラス基板と支持枠が低融点封着材料で封着されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、例えば、焼成温度が５００℃よりも高い場合であっても、焼成時に表層がビスマス系ガラスに溶け込み難いコーディエライト粉末を作製することにより、焼成時に熱膨張係数が上昇しないとともに、流動性が損なわれない封着材料を提供することである。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末とコーディエライト粉末を含有する封着材料において、コーディエライト粉末が固相反応によって作製されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プレス成形等に適した低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法であって、ガラス原料として、Ｐ₂Ｏ₅と、ＢａＯと、ＺｎＯと、ＳＯ₃と、を含む低温成形用ガラスであって、全体量に対して、Ｐ₂Ｏ₅の添加量を４０〜６０重量％の範囲内の値とし、ＢａＯの添加量を１０〜４０重量％の範囲内の値とし、ＺｎＯの添加量を１〜４０重量％の範囲内の値とし、かつ、ＳＯ₃の添加量を０．１〜２０重量％の範囲内の値としたガラス組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、適度な熱膨張係数、低い溶融温度と高い歪点を持ち、高い耐熱性が要求されるガラス基板、例えばＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス組成物がない。
【解決手段】
実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５４〜５７、Ａｌ_２Ｏ_３が７〜１１、Ｎａ_２Ｏが２〜６、Ｋ_２Ｏが６〜９、Ｒ_２Ｏ（Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量）が１０〜１３、ＭｇＯが４〜７、ＣａＯが４〜８、ＳｒＯが０〜５、ＢａＯが６〜１４、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合計量）が１８〜２５、ＺｒＯ_２が２〜６であるディスプレイ装置用基板ガラス。３０〜３００℃における平均線膨張係数が８０〜８４（×１０^−７／℃）、歪点が５７０℃以上である特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有することが期待されるチタン系酸化物ガラスを、従来にはなかったバルク状の状態で提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のチタン系酸化物ガラスは、バルク状であって、実質的に、式(M1)_1-x(M2)_x(Ti_1-y1(M3)_y1)_y2O_zで表される組成を有する。M1はBa、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、NaおよびCaから選ばれる１種の元素であり、M2はMg、Ba、Ca、Sr、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Na、Sc、Y、Hf、BiおよびAgから選ばれる少なくとも１種の元素であり、M3はV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Al、Si、P、Ga、Ge、In、Sn、SbおよびTeから選ばれる少なくとも１種の元素である。x、y1、y2およびZは、0≦x≦0.5、0≦y1＜0.31、1.4＜y2＜3.2、3.9＜z＜8.0、M1がBaの場合はx+y1≠0、かつ、M1およびM2がBaの場合はy1≠0、の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を５〜１１、Ｂ_２Ｏ_３を４５〜６５、ＺｎＯを２０〜３０、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を１０〜１８、ＢaＯを０．１〜３、ＺｒＯ_２を０．１〜７、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜２、ＣｕＯを０〜２含み、更にＢ_２Ｏ_３／ＺｎＯの重量比が１．５以上３以下であることを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏ−ＢａＯ−ＺｒＯ_２系無鉛低融点ガラスである。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を０〜７、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜２０、ＺｎＯを７〜２０、Ｂi_２Ｏ_３を６０〜７８、ＢaＯを０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０〜１０、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１、ＴｉＯ_２を０〜５含むことを特徴とするＢ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｂi_２Ｏ_３系無鉛低融点ガラス。
３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜１００）×10^−７／℃、軟化点が４５０℃以上５５０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、適度な熱膨張係数、低い溶融温度と高い歪点を持ち、高い耐熱性が要求されるガラス基板、例えばＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス組成物がない。
【解決手段】
実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５５〜６０、Ａｌ_２Ｏ_３が４〜１２、Ｎａ_２Ｏが２〜６、Ｋ_２Ｏが４〜８、Ｒ_２Ｏ（Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量）が８〜１２、ＭｇＯが０〜４、ＣａＯが６〜１０、ＳｒＯが０〜６、ＢａＯが１０〜１４、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合計量）が２０〜２６、ＺｒＯ_２が０〜４であるディスプレイ装置用基板ガラス。３０〜３００℃における平均線膨張係数が８０〜８４（×１０^−７／℃）、歪点が５７０℃以上である特徴も持つ。 （もっと読む）

本発明の主題は、実質的に硼素酸化物を含まない化学組成を有し、重量割合として表現される以下に定義される範囲内の次の構成成分を含む、ミネラルウール、ガラス繊維である：６０〜７５ＳｉＯ_２、０〜４Ａｌ_２Ｏ_３、１７〜２２Ｎａ_２Ｏ、５〜１５ＣａＯ、０〜２Ｆｅ_２Ｏ_３、０〜３Ｐ_２Ｏ_５。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の肉厚が薄くても、反りの発生や板厚偏差を抑えることが可能なフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラスの肉厚が０．５〜２．４ｍｍであるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板において、７００〜１５００ｎｍにおける分光透過率が７０〜８７％未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空断熱材の芯材に用いるガラス繊維の素材強度を高め、大気圧縮による芯材の高密度化及び繊維接触部の増大を抑制し、芯材部における固体成分の熱伝導を低減することで断熱性能を向上させる。
【解決手段】真空断熱材１は、ガラス繊維からなる芯材２と水分吸着材３とをガスバリア性を有する外包材４で被覆して外包材４の内部を減圧密閉してなり、ガラス繊維はアルカリケイ酸ガラスであり、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２のうち、少なくともいずれか１成分を含み、かつＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２の合計は重量％で、０．５〜１３％の範囲内で含まれる組成からなる。 （もっと読む）

【課題】色彩による意匠表現の自由度が広く、外観として高級感があり、さらに建築材料の特性を向上させた模様入り結晶化ガラス物品とその製造方法を提供する。
【解決手段】模様入り結晶化ガラス物品１は、結晶化ガラスの基層２と、結晶化ガラスと非晶質ガラスとが反応して基層２の一面の全表面を覆う反応層３ａと、その表面を分散して覆う着色非晶質ガラス部３ｂによる透光面部３ｄとが模様を形成してなる表層３を有している。製造方法は、耐火容器内に、結晶性ガラス小体を集積して集積層とし、その実質的に全表面を覆って、かつ焼成後の表層３に、反応層３ａによる光散乱面部３ｃが部分的に出現する量の非晶質ガラス小体を分散させて積層体とし、積層体をガラスの粘度が１０⁴から１０⁵ポイズを示す温度域で焼成することにより、結晶化ガラス物品１を製造するものであって、着色酸化物を添加して着色した非晶質ガラス部３ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】ヒ素やアンチモンの使用量を最少にして、無アルカリガラスの清澄を行う。
【解決手段】歪点が６４０℃以上でＡｓ₂ Ｏ₃ 含有量が０．５重量％以下の無アルカリガラスを熔解時に清澄する方法であって、１．５重量％以下のＳｂ₂ Ｏ₃ 、５．０重量％以下のＳＯ₃ 、２．０重量％以下のＦｅ₂ Ｏ₃ および５．０重量％以下のＳｎＯ₂ からなる群から選ばれる１種以上の有効量と、５．０重量％以下のＣｌおよび５．０重量％以下のＦからなる群から選ばれる１種以上の有効量とを含有せしめて熔解、清澄する。 （もっと読む）

【課題】信頼性が高い低融点の無鉛ガラス組成物、及びこの無鉛ガラス組成物を用いた磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＢｉ_２Ｏ_３：５６〜６８％、Ｂ_２Ｏ_３：４〜９％、ＺｎＯ：４〜６％、ＳｉＯ_２：１３％を超え２１％以下、Ｎａ_２Ｏ：１〜７％、Ｓｂ_２Ｏ_３：０〜２％、Ｆｅ_２Ｏ_３：２〜７％、ＺｒＯ_２：０〜１％からなることを特徴とする無鉛ガラス組成物。酸化物基準の質量％表示でＢｉ_２Ｏ_３：６０〜６８％、Ｂ_２Ｏ_３：４〜８％、ＺｎＯ：５〜６％、ＳｉＯ_２：１３％を超え１７％以下、Ｎａ_２Ｏ：１〜５％、Ｓｂ_２Ｏ_３：１〜２％、Ｆｅ_２Ｏ_３：２〜７％、ＺｒＯ_２：０〜１％からなることを特徴とする無鉛ガラス組成物。これらの無鉛ガラス組成物を用いて磁気ヘッドを構成する。 （もっと読む）

【課題】化学耐久性に優れる無鉛ガラスを用いた隔壁付きガラス基板の製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板上に形成された電極を、下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を９〜４０％、Ｂ_２Ｏ_３を１３〜４０％、ＺｎＯを５〜３５％、Ａｌ_２Ｏ_３を４〜１５％、Ｂｉ_２Ｏ_３を１６〜２８％含有し、ＺｎＯ含有量が（Ｂ_２Ｏ_３含有量＋１０モル％）以下である無鉛ガラスの粉末と、その粉末１００質量部に対して０．１〜４０質量部の割合の無機酸化物粉末とを含有するガラスセラミックス組成物を含有するグリーンシートまたは同ガラスセラミックス組成物を含有するガラスペーストによって被覆して焼成し、そのグリーンシートまたはガラスペーストの焼成体の上にエッチング法によって隔壁を形成する隔壁付きガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来の有機接着剤により形成されたシールよりも寿命の長いフリットシールを形成する。
【解決手段】基礎成分と少なくとも１種類の吸収成分とを含むガラス部分を有してなるフリット組成物であって、基礎成分が、約５から約７５モル％のＳｉＯ₂、約１０から約４０モル％のＢ₂Ｏ₃、および０から約２０モル％のＡｌ₂Ｏ₃を含み、少なくとも１種類の吸収成分が、（ａ）０より多く約２５モル％までのＣｕＯ、および／または（ｂ）０より多く約７モル％までのＦｅ₂Ｏ₃、０より多く約１０モル％までのＶ₂Ｏ₅、および０から約５モル％のＴｉＯ₂を含むフリット組成物が提供される。 （もっと読む）

本発明は、板ガラスに融着可能であり、標準粒径がΦ１．０ｍｍ〜Φ０．２ｍｍであり、加熱炉の内部温度６５０〜７１０℃で溶融可能であり、重金属が含まれていない構成成分と組成割合を持つ無鉛クリスタルアイスを具現して、加熱炉の内部温度６５０〜７１０℃温度範囲でクリスタルアイスの溶融最頂点が形成され、板ガラス上にクリスタルアイスが融着された後、クリスタルアイスの表面が大気中で変色または変形しないようにし、その無鉛クリスタルアイスを用いて装飾用板ガラスも製造可能にする。 （もっと読む）