【課題】 抵抗体のための焼成工程を追加することなく、抵抗体をガラスセラミック配線基板と同時焼成したとしても、抵抗体が導体及びガラスセラミック配線基板の表面に強固に接合された高寸法精度のガラスセラミック配線基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 ガラスセラミックスから成る絶縁基体の表面に配線導体と配線導体に接続された抵抗体とが形成されたガラスセラミックス配線基板において、抵抗体は１５乃至６５質量％のガラスと３５乃至８５質量％の酸化錫とからなり、酸化錫の平均粒径が０．９乃至１．４μｍである。 （もっと読む）

本発明は、固体セラミック部品と、少なくとも1つの他の固体部品とを接合する際に有用なガラスセラミック材料およびその製造方法である。この材料は、M1-M2-M3-M4を配合したもので、M1は、BaO、SrO、CaO、MgO、またはそれらの組み合わせであり、M2は、Al₂O₃であり、配合物中に2〜15 mol%の量で存在し、M3は、50 mol%以下のB₂O₃を有するSiO₂であり、かつLa₂O₃、Y₂O₃、Nd₂O₃、もしくはその組み合わせからなる群より選択される金属酸化物、または0.1〜7.5 mol%のK₂Oである。La₂O₃、Y₂O₃、Nd₂O₃またはそれらの組み合わせの群からの金属酸化物の場合には、組成物は、0.1〜3 mol%のCuOをさらに含有することが好ましい。全ての場合において、結晶相のガラスセラミック材料は、25℃〜1000℃で測定した時に、熱膨張係数が12 x 10^-6℃^-1である固体電解質の熱膨張係数と実質的に一致し、この熱膨張係数は、熱サイクルを繰り返しても低下しない。本発明に従って、M1-Al₂O₃-M3-M4系の一連のガラスセラミックを、筒状および平面状両方の固体酸化物燃料電池、酸素電気分解装置、および合成ガス、汎用化学製品および他の製品を製造するための膜反応装置を接合またはシールする際に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】アッベ数（νｄ）が５０〜５９であって、プレス成形型と反応しにくい性質、低温軟化性、優れたガラス安定性、高屈折率特性を有し、精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】モル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２の合計含有量（Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が４５〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３含有量に対するＳｉＯ_２含有量のモル比率（ＳｉＯ_２／Ｂ_２Ｏ_３）が０．１〜０．５であり、Ｌａ_２Ｏ_３ ５〜１５％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０．１〜８％、Ｙ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ３〜１８％、ＺｎＯ ０．１〜１５％、ＣａＯ ２〜２０％、ＢａＯ ０〜５％ＳｒＯ ０〜５％、ＭｇＯ ０〜５％、およびＺｒＯ_２ ０〜５％を含み、かつ式（１） νｄ≧３０８．５−１５０×ｎｄ（ただし、５０≦νｄ≦５９） …（１）の関係を満たす屈折率（ｎｄ）及びアッベ数（νｄ）を有する光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】 表面の研磨を容易に行うことができ、またＵやＴｈを含む研磨剤が表面に付着することに起因するカバーガラスのα線放出量の増大を防ぐことが可能な半導体パッケージ用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 大板ガラスの表面を研磨加工した後、その周縁部を除去すると共に、内側部分を細断加工することによって、α線放出量が０．０１ｃ／ｃｍ²・ｈｒ以下のガラス小片を作製する。 （もっと読む）

本発明はディスプレイの分野に関係する。
本発明の対象の一つは電界放出ディスプレイ用の基材を製造するためのガラス組成であり、これは光源Ｄ_６５の下での全体的な透過率ＴＬ_{（Ｄ６５）}を有し、２．８ｍｍのガラス厚の場合に測定すると、この値が４５〜８０％で変化し、そして好ましくは７２％又はそれより小さく、かつこのガラス組成は以下の色座標によって定義される青−灰色着色を有する：
ａ＊＝−４〜＋１、好ましくは−２〜０；及び
ｂ＊＝−６〜＋３、好ましくは−２〜０。
得られた基材は都合よく１０Ｃｄ／ｍ^２未満の反射輝度（Ｒ）を有する。 （もっと読む）

【課題】 樹脂劣化に影響を及ぼす有害紫外線の遮蔽性に優れており、蛍光ランプ用途として十分な耐紫外線ソラリゼーション性を持ちながら、蛍光ランプ製造工程に於ける管成形及び２次加工の熱履歴での耐失透性に優れたガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２
５５〜７８％、 Ａｌ_２Ｏ_３ １〜１０％、 Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２５％、 Ｌｉ_２Ｏ+Ｎａ_２Ｏ+Ｋ_２Ｏ
５〜１５％、 ＣａＯ+ＭｇＯ+ＢａＯ+ＳｒＯ+ＺｎＯ ０〜５％、 ＺｒＯ_２ ０.０１〜３％、 Ｆｅ_２Ｏ_３
０〜０．０５％、 Ｖ_２Ｏ_５
０．０５〜２．０％、ＣｅＯ_２ ０．０５〜２．０％、Ｖ_２Ｏ_５+ＣｅＯ_２ ０．１〜３．０、ＴｉＯ_２ ０〜２．０、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜５．０、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜５．０、ＴｉＯ_２+Ｎｂ_２Ｏ_５+Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜５．０％を含有し、実質的にＳｂ_２Ｏ_３、Ａｓ_２Ｏ_３、ＰｂＯを含まず、０〜３００℃の温度範囲における平均線膨張係数が３６〜５７×１０^−７／℃であることを特徴とする。
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【課題】 生産性が高く、光伝播損失の増大およびファイバ強度の低下の要因となるプリフォーム中の欠点の発生を抑制することができる光ファイバ製造の方法。
【解決手段】 Ｂｉ_２Ｏ_３を３０〜８０ｍｏｌ％含有する光ファイバを、下記工程（ａ）〜（ｅ）を経て得られるコア・クラッド構造のプリフォームを線引きして製造する。（ａ）表面を酸洗浄したコア用ガラスロッドを第１のクラッド用ガラス管に挿入。（ｂ）前記コア用ガラスロッドと前記第１のクラッド用ガラス管との隙間を減圧しながら加熱延伸してコア・クラッド構造の第１のプリフォームを作製。（ｃ）前記第１のプリフォームの表面を酸洗浄して第２のクラッド用ガラス管に挿入。（ｄ）表面を酸洗浄した前記第１のプリフォームと前記第２のクラッド用ガラス管との隙間を減圧しながら加熱延伸してコア・クラッド構造を有する第２のプリフォームを作製。（ｅ）前記第２のプリフォームの表面を酸洗浄する。 （もっと読む）

【課題】高プロトン導電性を維持しつつ、且つ、水分雰囲気に対する耐久性を高めるのに有利な高プロトン導電性ガラス、これを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ土類金属の酸化物、Ｐ₂Ｏ₅系を主要成分とすると共にプロトン導電性をもつ高プロトン導電性ガラスであって、Ａｌ及びシリカのうちの少なくとも１種を外付け添加割合で０．０２〜８モル％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】白色フリットの熱膨張率を素地ガラスのそれと実質的に一致させ、色筋部分と素地ガラスの界面にほとんど残留応力を生じさせない。
【解決手段】素地ガラスよりも熱膨張率の小さな白色フリットと大きな白色フリットの２種類の白色フリットを製造し、この２種類の白色フリットを素地ガラスの熱膨張率に適合させるように混合して素地ガラスに混入することにより、熱膨張率を素地ガラスにほぼ完全に一致させることができ、色筋部分と素地ガラスの界面にほとんど残留応力が生じない。 （もっと読む）

【課題】高屈折率低分散性を有し、さらに高い転移温度（Ｔｇ）を有し、精密プレス成形に使用するガラスプリフオーム材、及び精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．９以上、アッベ数（νｄ）が２５以上を有し、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３及びＧｅＯ_２からなる群より選択される１種又は２種以上、並びにＬａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｌｉ_２Ｏ及びＺｎＯを含有する光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、熱膨張係数が小さい基板を用いても割れやリークが発生しにくいとともに、パネル内部のガスの排気から希ガスを導入密封するに至る工程で軟化変形せず、短時間で熔断・封止しやすいディスプレイ用排気管ガラスおよびそのガラスを用いて作製したディスプレイ用排気管を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用排気管ガラスは、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系ガラスであって、含有するホウ素をＢ₂Ｏ₃として換算し、含有するＲ（ＲはＬｉ、ＮａおよびＫから選ばれる１種以上）をＲ₂Ｏとして換算した時の質量比（Ｂ₂Ｏ₃／Ｒ₂Ｏ）が０．８８〜４．０であることを特徴とし、本発明のディスプレイ用排気管は、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃系ガラスであって、含有するホウ素をＢ₂Ｏ₃として換算し、含有するＲ（ＲはＬｉ、ＮａおよびＫから選ばれる１種以上）をＲ₂Ｏとして換算した時の質量比（Ｂ₂Ｏ₃／Ｒ₂Ｏ）が０．８８〜４．０であるガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】緻密で、素体との接着強度が高く、且つ、耐めっき液性が極めて優れ、薄膜化にも対応可能な端子電極を形成することのできる導体ペースト、並びに、この導体ペーストに好適に用いられるガラス粉末を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｒ_２Ｏ（Ｒはアルカリ金属）及びＲ’Ｏ（Ｒ’はアルカリ土類金属）、又はこれらの成分に更にＢ_２Ｏ_３を含有するガラス粉末であって、該ガラス粉末中における前記各成分の重量％による含有率が下記式（１）を満たすと共に、該ガラス粉末の軟化点Ｔｓ〔℃〕及びガラス転移点Ｔｇ〔℃〕が、１３０≦（Ｔｓ−Ｔｇ）≦２８０を満たすことを特徴とするガラス粉末、酸化物換算で下記の組成からなる成分を含有し、下記式（１）を満たすことを特徴とするガラス粉末、及び該ガラス粉末用いた導体ペースト。
（Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏ＋Ｂ_２Ｏ_３）／ＳｉＯ_２≦０．９５ ・・・・・ （１） （もっと読む）

【課題】耐電圧が高く、しかも透明性に優れた誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレーパネルの誘電体形成用ガラス粉末を提供する。
【解決手段】５０％粒子径Ｄ₅₀が２．８μｍ以下であるプラズマディスプレーパネルの誘電体形成用ガラス粉末であって、重量百分率でガラス粉末６０〜８０％、セラミック粉末０〜１０％、熱可塑性樹脂５〜３０％、可塑剤０〜１０％で構成される誘電体形成用グリーンシートの構成成分として使用されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】 Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕの内の少なくとも１種類の希土類元素を含有するガラス材の表面部に、超短パルスレーザーを照射することにより、前記希土類元素を少なくとも含む結晶質の異質相を形成し、薄型・軽量化しても耐破砕性が要求される各種構造部材、磁気デイスク材、ＦＰＤ材料、食器、窓ガラス等に利用できる。 （もっと読む）

第一に、不純物が少なく且つ天然石英ガラスと同等以上の高温粘度特性を有し、高温環境下にあっても変形し難い合成石英ガラスの製造方法、特に発泡が無く緻密な高耐熱性合成石英ガラスの製造方法を提供する。第二に、本発明の製造方法により容易に得られる高耐熱性合成石英ガラス体、特に、発泡が無く緻密、赤外線吸収率及び放出率が高い、またアルカリ金属拡散防止効果が極めて高い透明又は黒色石英ガラス体を提供する。
２４５ｎｍの吸収係数が０．０５ｃｍ^−１以上である高耐熱性石英ガラス体を製造する方法であって、シリカ多孔質体を、還元処理した後、焼成して緻密なガラス体とするようにした。
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【課題】 充分な強度を備える画像表示装置用スペーサとこのスペーサを備えた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】 ＳｉＯ_２を１０〜３５質量％、ＲＯ（但し、Ｒはアルカリ土類金属を示す）を２０〜６０質量％、Ｂ_２Ｏ_３を９〜３０質量％、及びＡｌ_２Ｏ_３を０〜１０質量％、Ｓｂ_２Ｏ_３を０．０１〜５質量％含有するガラス基材を有するスペーサ。 （もっと読む）

【課題】 ガラスの熔融温度を高くせずに、ガラス流量を増加させても、未溶解ブツや泡の品位が良好であり、しかも、長期間に亘って保管しても、ガラス表面からアルカリ成分が溶出しにくく、ガラスの表面品位の低下を防止することが可能な陰極線管用ファンネルを提供することである。
【解決手段】 本発明の陰極線管用ファンネルは、ＰｂＯ含有量が１０〜３０質量％であり、０．６ÅにおけるＸ線吸収係数が４０ｃｍ^-1以上である鉛含有ガラスからなる陰極線管用ファンネルにおいて、前記鉛含有ガラスが、Ｃｌを０．０１〜０．１質量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）のコントラストの向上が可能となり得るプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆されているプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法であって、ガラス層とガラス基板が接している部分の色がＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系で表して−５＜ａ^＊＜−１．２かつ−６＜ｂ^＊＜０となるようなガラス層によって前記ガラス基板を被覆するＰＤＰ前面基板の製造方法。ガラス層が質量百分率表示で、ＰｂＯ ３５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜３０％、ＳｉＯ_２ ２〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜２５％、ＣｕＯ ０．２〜１％、ＣｏＯ ０．３〜０．９％、ＣｅＯ_２ ０〜２％、から本質的になり（Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２）が１７〜４４％であるガラスからなる前記ＰＤＰ前面基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐破砕性を格段に向上した、薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕの群から選ばれた少なくとも一種の希土類元素を含み、さらに少なくともＳｉ元素とアルカリ金属元素を含有する酸化物系ガラスの表面部に圧縮応力層を形成した。希土類元素は、酸化物換算で１〜１０重量％、圧縮応力層はアルカリ金属イオン交換による化学強化によって形成される。酸化珪素とアルカリ酸化物からなるガラスの中に希土類酸化物を添加して高強度ガラス素材ＨＩＧとし、これに化学強化を施してガラス表面に化学強化層ＣＳＬを形成する。 （もっと読む）

【課題】結晶を容易に配向させて、これにより、結晶が配向された結晶化ガラスを簡便に製造する。
【解決手段】原ガラスを所定の温度で熱処理して結晶化ガラスを製造する結晶化ガラスの製造方法であって、熱処理の際に、析出されるフレスノイト型結晶を配向させるように原ガラスに０．５テスラ［Ｔ］以上の磁場を印加する。 （もっと読む）