ガラス転移温度（Ｔｇ）が６００℃以上であり、かつ温度４５℃に保持された濃度１．７２重量％のケイフッ酸水溶液に対するエッチング速度が０．１μｍ／分以下のガラスからなる高耐熱性、高耐酸性を備えた、情報記録媒体用基板、および該情報記録媒体用基板上に、情報記録層を有する情報記録媒体である。 （もっと読む）

【課題】ディスプレー及び／又は信号表示装置、特に背面照明ディスプレー、及び液晶ディスプレー及び蛍光灯に適したガラスを提供する。
【解決手段】紫外線吸収性ガラス、特に蛍光ランプ用のガラスを製造する方法であって、組成が酸化物に基づく重量％でＳｉＯ_２：６０−８５、Ｂ_２Ｏ_３：０−１０、Ａｌ_２Ｏ_３：０−１０、Ｌｉ_２Ｏ：０−１０、Ｎａ_２Ｏ：０−２０、Ｋ_２Ｏ：０−２０、ＭｇＯ：０−８、ＣａＯ：０−２０、ＳｒＯ：０−５、ＢａＯ：０−５、ＺｎＯ：０−８、ＺｒＯ_２：０−５、ＴｉＯ_２：０−１０、Ｆｅ_２Ｏ_３：０−５、ＣｅＯ_２：０−５、ＭｎＯ_２：０−５、Ｎｄ_２Ｏ_３：０−１．０、ＷＯ_３ ：０−２、Ｂｉ_２Ｏ_３：０−５、ＰｂＯ：０−５、ＭｏＯ_３：０−５、Ａｓ_２Ｏ_３：０−１、Ｓｂ_２Ｏ_３：０−１、ＳＯ_４^２−：０−２、Ｃｌ⁻：０−２、及びＦ⁻：０−２であるガラス溶融体を作製することを含んで成る方法。 （もっと読む）

モル％表示で、ＳｉＯ_２：４７〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３：１〜１０％（ただし、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の合計量が５７〜８０％）、ＣａＯ：２〜２５％、ＢａＯ：１〜１５％、Ｎａ_２Ｏ：１〜１０％，Ｋ_２Ｏ：０〜１５％（ただし、Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量が３〜１６％）、ＺｒＯ_２：１〜１２％、ＭｇＯ：０〜１０％、ＳｒＯ：０〜１５％、ＺｎＯ：０〜１０％（ただし、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計量に対するＣａＯの含有量の割合が０．５以上、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯの合計量が３〜３０％）、ＴｉＯ_２：０〜１０％を含み、かつ上記成分の合計含有量が９５％以上の組成を有する情報記録媒体用基板に供するための化学強化用ガラス。ガラス転移温度が６００℃以上、５７０℃で２時間加熱した後の曲げ強度が１５ｋｇｆ／ｍｍ^２以上を示す化学強化されたガラスからなることを特徴とする情報記録媒体用基板。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイ装置の消費電力を低減することができるフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】 本発明のフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板は、２５℃、１ＭＨｚにおける誘電率が７．０以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＴＦＴ液晶ディスプレイを作製する場合、ＴＦＴ素子の破損を防止しながら、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の貼り合わせ時間を短縮することが可能な無アルカリガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の無アルカリガラス基板は、３００ｎｍにおける紫外線透過率が、厚み０．５ｍｍで５０〜８５％となるように、Ｆｅ₂Ｏ₃とＣｒ₂Ｏ₃を含有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＴＦＴ液晶ディスプレイを作製する場合、ＴＦＴ素子の破損を防止しながら、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の貼り合わせ時間を短縮することが可能な無アルカリガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の無アルカリガラス基板は、３００ｎｍにおける紫外線透過率が、厚み０．５ｍｍで５０〜８５％となるように、ＳｎＯ₂とＣｒ₂Ｏ₃を含有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リチウム、ナトリウムあるいはカルシウムが層間イオンである雲母結晶が主結晶相であり、イオン伝導性を示し、しかも空気中や水中でも崩壊しない焼成体および結晶化ガラス、および室温で高いイオン伝導を示す透明なケイ酸塩系のガラスを製造する。さらに、イオン伝導性および空気中や水中でも崩壊しない耐水性のみならず、快削性および透明性を有する結晶化ガラスを製造する。
【解決手段】リチウム、ナトリウムあるいはカルシウムが層間イオンである雲母結晶を主結晶相とした焼成体および結晶化ガラスを製造するにあたり、それらが得られる化学組成の範囲を選定し、熱処理条件を制御する。また、それら焼成体や結晶化ガラスと同組成のフッ素含有ケイ酸塩ガラスを製造する。
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【課題】導電性粉末の粒度分布で発生する、電極の主要特性である抵抗，及び耐電圧特性をいずれも満足することができる感光性ペースト組成物，それを利用して製造されたプラズマディスプレイパネル電極，及びそれを備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】ペースト組成物は，導電性粉末と，無機バインダーと，有機ビヒクルとを含む。但し、上記導電性粉末の１０重量％に該当する粒径Ｄ_１０と，上記導電性粉末の９０重量％に該当する粒径Ｄ_９０との差が，２．０μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 高温下で局所的な荷重が加わっても、長期的な形状安定性を有し、且つ、熱処理炉内外での急熱急冷による熱衝撃に強く、さらに大板化が容易な熱処理用セッターを提供する。
【解決手段】本発明の熱処理用セッターは、被熱処理材料を載置するための熱処理用セッターであって、結晶相としてβ−スポジュメン固溶体を含有するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラス板からなり、被熱処理材料を載置する面の表面積が１４０００ｃｍ²以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高温下で局所的な荷重が加わっても、長期的な形状安定性を有し、且つ、熱処理炉内外での急熱急冷による熱衝撃に強く、さらに大板化が容易な熱処理用セッターを提供する。
【解決手段】 本発明の熱処理用セッターは、被熱処理材料を載置するための熱処理用セッターであって、結晶相としてβ−石英固溶体及びβ−スポジュメン固溶体を含有するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラス板からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高温下で局所的な荷重が加わっても、長期的な形状安定性を有し、且つ、熱処理炉内外での急熱急冷による熱衝撃に強く、さらに大板化が容易な熱処理用セッターを提供する。
【解決手段】 本発明の熱処理用セッターは、被熱処理材料を載置するための熱処理用セッターであって、結晶相としてβ−石英固溶体を８１〜９５質量％含有するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラス板からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛フリー及びカドミウムフリーである導電性銅厚膜ペーストを提供する。
【解決手段】本発明にかかる銅ペーストは、優れたはんだ濡れ性、ワイヤーボンディング能、低い焼成温度、幅広い温度でのプロセシングウィンドウ、アルミナ基板及びガラス被覆ステンレススチール基板を含む様々な基板への優れた接着性、低い低効率を含む望ましい特性を有し、焼成後の微細構造の密度が高く実質的に孔が無いものとなる。 （もっと読む）

本発明は、ガラスの清澄及び均質化のための、軸（６）の周りに回転可能な装置に関し、処理する溶融ガラスの受容を意図した容器（１）、真空分室（２）及び少なくとも１つのガラス流出オリフィス（５、１９）を備え、溶融ガラスを供給容器（１）から真空分室（２）へと搬送するための搬送手段（７、８、１７、１８）をさらに備える。また本発明は本発明の装置を使用した基板の製造方法、及びそのように製造された基板にも関する。
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本発明は、ＳｉＯ₂およびＹｂ₂Ｏ₃系に属し、必要ならば、その特性を調節するために添加剤を含有することができるＸ線不透過ガラスに関する。前記ガラスの製造方法およびその使用、特に歯科用ガラスの形態での使用もまた開示されている。 （もっと読む）

高い歪み点温度、耐失透性、良好な化学的耐久性、優れた誘電特性、シリコンのものに一致するように調整できる熱膨張係数、および従来の方法による成形を可能にする液相線粘度を有する安定なガラスを生成するＰ₂Ｏ₅−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃三成分系のガラスからなるフラット・パネル・ディスプレイ用ガラス基板が開示されている。このガラスは、酸化物基準の質量パーセントで計算して以下の組成：３３〜７５％のＰ₂Ｏ₅、２〜５２％のＳｉＯ₂、８〜３５％のＡｌ₂Ｏ₃を有する。
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酸化物の形としてＢａＯ、ＳｒＯ、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３を含み、それぞれの含有量を分子濃度比とするとき、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＴｉＯ_２：０．２〜０．８、ＳｉＯ_２：０．１〜０．６、Ａｌ_２Ｏ_３：０．０５〜０．２５で、ＳｒＯおよびＢａＯの合計量を１とするとき、（１−ｘ）ＢａＯ＋ｘＳｒＯ＝１の式にてｘ：０．１〜０．７であり、キュリー温度が−１００℃から８０℃までの範囲にあることを特徴とするガラス組成物。また、ガラス組成物中でＡｌ_２Ｏ_３となる素材原料にＡｌＦ_３を用い、原料粉末を１３００〜１４００℃にて溶融した後、急冷して得たガラスの粉末を用いて９００〜１２００℃にて焼成する上記の強誘電性ガラス組成物の製造方法。このようにして、印加電圧による可変容量コンデンサ素子に用いるキュリー温度制御の容易な低温焼成可能強誘電性のガラス組成物とその製造方法が提供できる。 （もっと読む）

本発明は、原子含有率が０．００１〜０．２０のＢ、原子含有率が０．０５〜０．１５のＰ、原子含有率が０．０２〜０．１８のＮ、原子含有率が０．２０〜０．５０のＬｉおよび原子含有率が０．３５〜０．５０のＯを含み、含有率の合計がほぼ１００に等しい薄層電気化学的電池用のガラス固体電解質に関する。 （もっと読む）

化学強化された情報記録媒体用ガラスにおいて、化学強化による強化層１３を、外周面および内周面に存在させるとともに、情報記録層が形成される上面１１及び下面１２に実質的に存在させないようにする。これにより高精度の基板研磨技術を必要とすることなく、平坦度などの形状精度および強度を向上させることができる。 （もっと読む）

一様かつ微細な径の貫通孔を有するガラス部品を得る。 感光性ガラス１００の貫通孔を形成する部分に集光光束２１を照射して潜像を形成し、この感光性ガラスを熱処理して潜像が形成された部分を結晶化させ、この結晶化した部分を溶解除去することにより貫通孔を形成することによって、貫通孔の直径が該貫通孔の部位によらず略一定で、該貫通孔の長さ（Ｌ）と該貫通孔の直径（ｄ）との比率（Ｌ／ｄ）が１５以上であり、かつ該直径（ｄ）が３０μｍ以下である貫通孔を有するガラス部品を得る。 （もっと読む）