本発明は、少なくとも０．０５重量％の少なくとも１つの硫化物をガラスバッチ材料に添加し、前記材料を１７５０℃よりも低い温度で融解する、制御された方法でセラミックに転化することができるならびに酸化砒素、酸化アンチモンおよび酸化錫を含まないリチウムアルミノシリケートガラスの精製方法に関する。本発明はまた、特に酸化バナジウムによって着色された前記ガラスから得られたガラス−セラミックにも関する。用途は特に、クッキングヒーターおよび器具の生産のためである。 （もっと読む）

【課題】５００℃で一次焼成しても失透せず、しかも４５０〜５００℃の二次焼成で良好に流動するビスマス系封着材料を提供し、ＰＤＰ等の平面表示装置の製造効率向上に貢献すること。
【解決手段】本発明のビスマス系封着材料は、ビスマス系ガラス粉末４０〜９５重量％、耐火性フィラー粉末５〜６０重量％を含有し、該ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル％でＢｉ₂Ｏ₃ ３０〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜４０％、ＺｎＯ＋ＣｕＯ ３５〜５０％含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、優勢な結晶相としてβクォーツの固溶体を含む、青色の透明なガラスセラミック材料およびその製造方法に関する。ガラスセラミックには、核形成剤としてのＴｉＯ₂、ならびに硫黄、および、有利にはＭｇＯおよび／またはＺｎＯが含まれる。ガラスセラミック材料の製造方法は、ガラスセラミック材料の前駆体ガラスを溶融する際の還元剤として、ＺｎＳおよび／またはＭｇＳなどの金属硫化物を含める工程を有してなる。
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【課題】熱膨張係数が更に低く、ガラス転化温度が高く、抗熱性が良く、ハイレベル投影装置の反射鏡に応用されるガラス組成物を提供する。
【解決手段】ガラス組成物の熱膨張係数αは、２３〜２９×１０^-7℃の間で、ガラス転化温度Ｔｇは、６７０℃以上で、主なる成分の質量比率は、ＳｉＯ₂が５５〜６１％、Ａｌ₂Ｏ₃が１６〜２１％、Ｂ₂Ｏ₃が０〜５％、ＭｇＯが０〜６％、ＺｎＯが７．５〜１２％、ＢａＯとＴｉＯ₂との含量総計が２〜８％である。 （もっと読む）

【課題】低温での光半導体素子の封止を可能とし、しかも優れた耐熱性および耐光性を付与することのできる光半導体素子保護用ガラス材料組成物およびそれを用いた光半導体装置を提供する。
【解決手段】光半導体素子を封止し保護するために用いられる光半導体素子保護用ガラス材料組成物であって、ガラス材料を主成分とし、バインダー成分としてシリコーン樹脂を含有するものである。そして、上記光半導体素子保護用ガラス材料組成物を用いて光半導体素子を封止し、保護することにより得られる光半導体装置である。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、適度な熱膨張係数、低い溶融温度と高い歪点を持ち、高い耐熱性が要求されるガラス基板、例えばＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス組成物がない。
【解決手段】
実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５４〜５７、Ａｌ_２Ｏ_３が７〜１１、Ｎａ_２Ｏが２〜６、Ｋ_２Ｏが６〜９、Ｒ_２Ｏ（Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量）が１０〜１３、ＭｇＯが４〜７、ＣａＯが４〜８、ＳｒＯが０〜５、ＢａＯが６〜１４、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合計量）が１８〜２５、ＺｒＯ_２が２〜６であるディスプレイ装置用基板ガラス。３０〜３００℃における平均線膨張係数が８０〜８４（×１０^−７／℃）、歪点が５７０℃以上である特徴も持つ。 （もっと読む）

パネル材又は床材として建築に使用可能な大寸法のシート形状のガラスセラミック素材が得られる製造方法。 （もっと読む）

【課題】特にディスプレイ分野において使用されるガラス基板に、適度な熱膨張係数、低い溶融温度と高い歪点を持ち、高い耐熱性が要求されるガラス基板、例えばＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の電子ディスプレイ用基板に好適なガラス組成物がない。
【解決手段】
実質的に重量％表示で、ＳｉＯ_２が５５〜６０、Ａｌ_２Ｏ_３が４〜１２、Ｎａ_２Ｏが２〜６、Ｋ_２Ｏが４〜８、Ｒ_２Ｏ（Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量）が８〜１２、ＭｇＯが０〜４、ＣａＯが６〜１０、ＳｒＯが０〜６、ＢａＯが１０〜１４、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合計量）が２０〜２６、ＺｒＯ_２が０〜４であるディスプレイ装置用基板ガラス。３０〜３００℃における平均線膨張係数が８０〜８４（×１０^−７／℃）、歪点が５７０℃以上である特徴も持つ。 （もっと読む）

【目的】本発明は、耐熱性に優れている上に、金属不純物の遮蔽効果の高い半導体製造用石英ガラス部材を提供すること。
【構成】少なくとも２層で形成される半導体製造用石英ガラス部材において、外層が１,２８０℃温度における粘度が１０^12.０ポイズ以上でナトリウム、カリウム及びリチウムのいずれも１ppm以下の天然石英ガラスからなり、最内層が１,２８０℃温度における粘度が１０^11.7ポイズ以上でナトリウム、カリウム及びリチウムのいずれも０．２ppm以下の合成石英ガラスからなる半導体製造用石英ガラス部材。 （もっと読む）

本発明は、半導体製造用石英ガラスの公知の組成物を出発点とし、該組成物は少なくとも近表層領域において第１ドーパントと第２酸化ドーパントとの共ドーピングを示し、前記第２ドーパントは一種類以上の希土類金属をそれぞれ（ＳｉＯ²及びドーパントの全質量に基づいて）０．１〜３％の濃度で含有する。エッチング処理を使用する環境において半導体製造用石英ガラス組成物を供給することを出発点として、該組成物は高純度及び高いドライエッチング耐性により区別され、酸化アルミニウムとの共ドーピングにより引き起こされる公知の欠点を回避し、第１ドーパントが窒素であり、石英ガラス中の準安定ヒドロキシル基の平均含有量が３０質量ｐｐｍ未満とすることを本発明により提案するものである。 （もっと読む）

【課題】超紫外線リソグラフィー素子を製造するのに適した低膨張シリカ−チタニアガラスにおいて、脈理の発生を抑える。
【解決手段】５〜１２質量％の範囲のチタニア含有量を有し、０．００１から１質量％の範囲の含有量を持つ粘度低減ドーパントを含むチタニア含有シリカガラスを有してなる。超紫外線リソグラフィーに適した光学素子であって、５〜１０質量％の範囲のチタニア含有量、０．００１から１質量％の範囲の含有量を持つ粘度低減ドーパント、研磨され整形された表面、および５〜３５℃の温度範囲において０±３ｐｐｂ／℃の熱膨張係数を有するチタニア含有シリカガラスから構成された光学素子も提供される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッター及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板熱処理用セッターは、板状の無機耐熱材料からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、ガラス基板を載置する載置面の表面から内部に向かって５μｍ離れた位置でのＫ₂Ｏが１〜５質量％であり、且つ、載置面の表面から内部に向かって１ｍｍ離れた位置でのＫ₂Ｏが０．８質量％未満であることを特徴とする。
また、ガラス基板熱処理用セッターの製造方法は、板状の無機耐熱材料からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するガラス基板熱処理用セッターの製造方法において、板状の無機耐熱材料又はその前駆体材料の一方又は両方の面に、外部の供給源からＫイオンを注入することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛を含有せず、また脱ガス処理時及び真空封着処理時等の焼成時において結晶析出が少なく、５５０℃以下の低温で良好に且つ歩留まりよく、確実に封着を行うことができる金属製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】金属製真空二重容器の排気口を真空封着するのに用いられる無鉛ガラス組成物であって、酸化物換算で、Ｂｉ_２Ｏ_３：７５．０〜８３．０重量％、Ｂ_２Ｏ_３：５．０〜１０．０重量％、ＺｎＯ：５．０〜１０．０重量％、ＢａＯ：２．０〜５．０重量％、ＣｕＯ：０．５〜２．０重量％（但し２．０重量％を含まず）、ＣｏＯ：０．０５〜２．０重量％を含有し、ＰｂＯとＳｉＯ_２とを有効成分として含有しない金属製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物である。 （もっと読む）

【課題】 樹脂劣化に影響を及ぼす有害紫外線の遮蔽性に優れており、蛍光ランプ用途として十分な耐紫外線ソラリゼーション性を持つガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２６０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３１〜７％、Ｂ_２Ｏ_３１０〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ３〜１５％、ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ０〜５％、ＣｅＯ_２０．１〜５％、Ｆｅ_２Ｏ_３０．００５〜０．１％、Ｉｎ_２Ｏ_３０．０５〜３％、ＳｎＯ＋ＳｎＯ_２０〜１％、ＺｒＯ_２＋ＺｎＯ＋Ｎｂ_２Ｏ_５０.０１〜５％を含有し、ＪＩＳＲ３１０２に定める０〜３００℃の範囲の平均線膨張係数が３６〜５７×１０^−７／℃である硼珪酸系ガラスからなる。 （もっと読む）

【目的】 実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、熱膨張係数と密度が低く、種々の酸やアルカリ等の薬品に対する高い耐性（耐薬品性）を持ち、歪点が高く、耐クラック性、溶融性及び耐失透性に優れるガラスを提供することを目的とする。
【構成】 質量百分率で、ＳｉＯ₂ ５８〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １２〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ９〜１５％、ＭｇＯ ０〜１％、ＣａＯ ０〜９％、ＳｒＯ ０〜６％、ＢａＯ ０〜６％、ＺｎＯ ０〜５％、ＺｒＯ₂ ０〜５％、ＴｉＯ₂ ０〜５％、Ｐ₂Ｏ₅ ０〜５％、ＳｉＯ₂＋Ｂ₂Ｏ₃＋Ｐ₂Ｏ₅≧６５％、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｂ₂Ｏ₃＝１．２〜２．０、ＳｒＯ＋ＢａＯ＝３．１〜９％の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、密度が２．５ｇ／ｃｍ³以下、３０〜３８０℃における熱膨張係数が２６〜４０×１０^-7／℃、クラック抵抗値が９．８Ｎ以上である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、市場から回収されたガラスを有効に利用するとともに、手間をかけることなく、着色の少ないＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスを提供することである。
【解決手段】本発明のＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスは、質量換算で、Ｆｅ₂Ｏ₃が５０〜５００ｐｐｍ、ＣｏＯ＋Ｃｒ₂Ｏ₃＋ＮｉＯ＋ＭｎＯが５〜１００ｐｐｍ、ＣｏＯ＋ＮｉＯが０〜７０ｐｐｍを含有するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスであって、４ｍｍ厚でＬ^*ａ^*ｂ^*表色系のａ^*値が−２〜２、ｂ^*値が−１０〜２０であることを特徴とする。 （もっと読む）

主要な繊維成分としてカルシウムとアルミナとを含む無機繊維を提供する。さらに、該無機繊維の調製方法及び該無機繊維を含む断熱技術を用いる物品の断熱方法をも提供する。該無機繊維は1,100℃以上の温度に対して耐熱性があり、しかもフラックスの攻撃に対する抵抗性も有する。
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【課題】
従来のリン酸塩系ガラスはガス透過率が高く、電子部品の封着に適したものがなかった。
【解決手段】
Ｐ_２Ｏ_５とＣｅＯ_２を主成分とするリン酸塩系ガラスであって、Ｐ_２Ｏ_５を３０〜７５（ｍｏｌ％）、ＣｅＯ_２を８〜６０（ｍｏｌ％）の範囲で含むリン酸塩系ガラスは、Ｈｅガス透過率が１×１０^−１０（Ｐａ・ｍ^３／Ｓ）より小さく、かつ耐水性に優れ、かつ熱膨張係数が４０〜１８０（×１０^−７／℃）の範囲であり、電子部品の封着に好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】Ｔｓが低く、アルカリ溶出が少なく、表面欠陥の少なく、耐候性に優れ、製造に当たって昇温が容易な情報記録媒体用基板及びそれを用いた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】組成中に少なくともＢ、Ａｌ、アルカリ金属、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｓｉを含み、これらを酸化物に換算したモル比で、
（Ｉ） ０．８≦（Ｒ_２Ｏ含有量−Ａｌ_２Ｏ_３含有量）／Ｂ_２Ｏ_３含有量≦１．２
（II） ９．０モル％≦Ｂ_２Ｏ_３含有量≦１４．０モル％
（III） ３．０モル％≦Ａｌ_２Ｏ_３含有量≦７．０モル％
（IV） ６．０モル％≦ＺｎＯ含有量≦１８．０モル％
（Ｖ） ４０．０モル％≦ＳｉＯ_２含有量
（VI） １．０モル％≦ＣｕＯ含有量≦５．０モル％
（上記式中、Ｒはアルカリ金属原子を示す。）
を満足したアルカリ金属含有ガラス材料の成形体であることを特徴とする情報記録媒体用基板、及び該基板と、該基板上に積層された磁性層とを有してなることを特徴とする情報記録媒体。 （もっと読む）

【課題】平面表示装置用排気管等の封着時には良好に流動し、しかもその後に供される３７０〜４２０℃の排気工程で軟化変形し難く、排気管が動いて排気孔を塞いだり、穴があいて気密性が損なわれる事態が生じないビスマス系ガラスによる非結晶性ガラスタブレットを得ること。
【解決手段】本発明の非結晶性ガラスタブレットは、低融点ガラスと耐火性フィラーを含有する非結晶性ガラスタブレットであって、低融点ガラスが、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル％表示でＢｉ₂Ｏ₃ ３０〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜４０％、ＺｎＯ １０〜５０％を含有し、且つ耐火性フィラーが、組成として、下記酸化物換算の重量％表示でＳｉＯ₂ ３０〜１００％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜４５％、ＺｎＯ ０〜３５％、ＺｒＯ₂ ０〜２０％、ＴｉＯ₂ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜２５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）