【課題】半導体発光素子を４００℃以下で封止することができ、所望の発光効率が得られる発光素子被覆用ガラス粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】発光素子を４００℃以下で封止することのできる発光素子被覆用ガラス粉末の製造方法であって、Ｐ_２Ｏ_５−ＳｎＯ系のガラスを粉砕してガラス粉砕物を生成する粉砕処理と、ガラス粉砕物を、６００℃以上の乾燥、且つ、不活性ガス雰囲気中に直接散布して、前記ガラス粉砕物の表面を軟化ないしは溶融して粒径０．１〜５００μｍのガラス球状粉末を生成する球状化処理と、を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体発光素子を４００℃以下で封止することができ、所望の発光効率が得られる発光素子被覆用ガラス粉末、発光素子被覆用スラリー、発光素子被覆用ペースト及びガラス被覆発光装置を提供する。
【解決手段】発光素子を４００℃以下で封止することのできる発光素子被覆用ガラス粉末において、Ｐ_２Ｏ_５−ＳｎＯ系のガラスから構成される粒径０．１〜５００μｍのガラス球状粒子の相対粒子量が容量％で９９％以上であり、ガラス転移温度が２５０〜３５０℃で、且つ、表面での全酸素中における架橋酸素の割合が５％以上である。 （もっと読む）

【課題】実質的にＰｂＯおよびＳｉＯ_２を含有しないガラス組成物であって、焼成温度で素早く流動するガラス組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】実質的にＰｂＯとＳｉＯ_２を含まず、質量％表示の酸化物換算で７９％≦Ｂｉ_２Ｏ_３＜９９．９％、０．１％≦Ｂ_２Ｏ_３≦５．２％、０％＜ＺｎＯ≦１１％、ＢａＯ、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＳｒＯの少なくとも一種を０〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜１０％、ＣｅＯ_２、ＣｕＯおよびＦｅ_２Ｏ_３の少なくとも一種を０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの少なくとも一種を０〜２％を含有し、かつモル％換算比で０．００７＜Ｂ_２Ｏ_３／Ｂｉ_２Ｏ_３＜０．３７５を満たすガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】低い誘電率を有し、６００℃以下の温度で焼成でき、しかも、焼成時に、ガラス基板に反りを発生させることなく、ガラス基板の強度を向上させることができるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料及びそれを用いて形成された誘電体層を備えてなるプラズマディスプレイパネル用ガラス板を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、ＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末からなるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料であって、該ガラス粉末が、実質的にＰｂＯを含まず、モル百分率で、ＺｎＯ １〜１０％未満、Ｂ_２Ｏ_３ ２６〜５０％、ＳｉＯ_２ ４２超〜５２％含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】セラミック誘電体を低温で焼結することができ、積層セラミックキャパシタの高温絶縁抵抗特性を向上させることのできる焼結助剤用ホウケイ酸塩系ガラス組成物を提供し、これを含む誘電体組成物、及びこれを利用した積層セラミックキャパシタを提供する。
【解決手段】本発明による焼結助剤用ホウケイ酸塩系ガラス組成物は、アルカリ酸化物、アルカリ土類酸化物、及び希土類酸化物を含むもので、セラミック誘電体を低温で焼結することができ、積層セラミックキャパシタの高温絶縁抵抗特性を向上させる。これにより、これを含む誘電体組成物及びこれを利用した積層セラミックキャパシタは、１１００℃以下の低温焼結が可能であり、高容量を有し、電気的特性及び高温絶縁抵抗（Ｈｏt ＩＲ）特性に優れて高信頼性が確保される。 （もっと読む）

【課題】軟化点が低く、誘電率が低く、基板との熱膨張係数のマッチングが良い上に、ガラス転移温度が高く、黄変も生じ難い、信頼性の高いディスプレイパネルを作製することが可能な、ガラス組成物を提供する。
【解決手段】表示電極５が設けられた前面板１と、アドレス電極１０が設けられた背面板８と、電極５，１０を被覆する誘電体層６，１１と、隔壁１２と、が設けられている。誘電体層６，１１および隔壁１２から選ばれる少なくとも１つは、酸化物ガラスを含んでいる。この酸化物ガラスは本発明のガラス組成物であり、含まれる元素の内、酸素（Ｏ）を除く元素の比率が、５６原子％≦Ｂ≦７２原子％、０原子％≦Ｚｎ≦１８原子％、８原子％≦Ｒ＜１２原子％、０原子％≦Ｍ≦５原子％、０原子％≦Ｓｉ≦１５原子％、である。なお、ＲはＬｉ、ＮａおよびＫの合計量を示し、Ｍは、Ｍｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａの合計量を示す。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８３〜１．８７の高屈折率領域で、νｄが４３〜４７範囲にあり、なおかつ溶融性、加工性（液滴性）、結晶性等にも優れた、高屈折率−低乃至中分散型の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】ｍｏｌ％表示で、ＳｉＯ₂を５．０％以上２５．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を２０．０％以上４０．０％以下、ＺｎＯを０％以上１５．０％以下、ＺｒＯ₂を０％以上５．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を１０．０％以上２５．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を０％以上５．０％以下、及びＧｄ₂Ｏ₃を５．０％以上２０．０％以下含み、ＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃（ｍｏｌ比）が０．２５以上０．９０以下であり、実質的に、Ｌｉ₂Ｏを含まず、ｄ線に対する屈折率（ｎｄ）が１．８３以上１．８７以下で、ｄ線に対するアッベ数（νｄ）が４３以上４７以下であり、かつ液相温度が１３００℃以下である、光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８３〜１．８６の高屈折率領域で、νｄが４３〜４６の範囲にあり、なおかつ溶融性、加工性（液滴性）、結晶性等にも優れた、高屈折率−低乃至中分散型の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】ｍｏｌ％表示で、ＳｉＯ₂を０％以上１０．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を３５．０％以上４５．０％以下、Ｌｉ₂Ｏを０％以上５．０％以下、ＺｎＯを０％以上１２．０％以下、ＺｒＯ₂を０％以上１０．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を１０．０％以上２０．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅を３．０％以上１０．０％以下、Ｔａ₂Ｏ₅＋ＺｎＯを１０．０％以上２２．０％以下、及びＧｄ₂Ｏ₃を５．０％以上２０．０％以下含み、ｄ線に対する屈折率（ｎｄ）が１．８３以上１．８６以下で、ｄ線に対するアッベ数（νｄ）が４３以上４６以下であり、かつ液相温度が１２００℃以下である光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）

【課題】屈折率ｎdが1.87以上、アッベ数νdが35以上40未満、精密プレス成形に供するプリフォームの成形が容易になる粘性の温度依存性を有し、優れたガラス安定性を示し、生産性良く精密プレス成形が可能な低温軟化性を有する光学ガラスを提供する。前記ガラスからなる精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】モル％表示で、
SiO₂ 0〜20％、
B₂O₃ 5〜40％、
SiO₂＋B₂O₃＝15〜50％、
Li₂O 0〜10％、
ZnO 12〜36％、
ただし、3×Li₂O＋ZnO≧18％、
La₂O₃ 5〜30％、
Gd₂O₃ 0〜20％、
Y₂O₃ 0〜10％、
La₂O₃＋Gd₂O₃＝10〜30％、
La₂O₃／ΣRE₂O₃＝0.67〜0.95、
（但し、ΣRE₂O₃＝La₂O₃＋Gd₂O₃＋Y₂O₃＋Yb₂O₃+Sc₂O₃＋Lu₂O₃）
ZrO₂ 0.5〜10％、
Ta₂O₅ 1〜15％、
WO₃ 1〜20％、
Ta₂O₅/WO₃≦2.5（モル比）
Nb₂O₅ 0〜8％、
TiO₂ 0〜8％
を含み、
屈折率ndが1.87以上、
アッベ数νdが３５以上４０未満
の光学ガラス。このガラスからなる精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とそれらの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ｎｄが１．８３〜１．８７の高屈折率領域で、νｄが４３〜４７範囲にあり、なおかつ溶融性、加工性（液滴性）、結晶性等にも優れた、高屈折率−低乃至中分散型の光学ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】ｍｏｌ％表示で、ＳｉＯ₂を５．０％以上２５．０％以下、Ｂ₂Ｏ₃を２５．０％以上４０．０％以下、ＺｎＯを１０．０％以上１５．０％以下、ＺｒＯ₂を０％以上５．０％以下、Ｌａ₂Ｏ₃を１０．０％以上２５．０％以下、Ｇｄ₂Ｏ₃を５．０％以上２０．０％以下、及びＴａ₂Ｏ₅を０％以上５．０％以下含み、Ｌａ₂Ｏ₃／Ｇｄ₂Ｏ₃（ｍｏｌ比）が０よりも大きく３．５未満であり、実質的に、Ｌｉ₂Ｏを含まず、ｄ線に対する屈折率（ｎｄ）が１．８３以上１．８７以下で、ｄ線に対するアッベ数（νｄ）が４３以上４７以下であり、かつ液相温度が１３００℃以下である、光学ガラス組成物、プリフォーム及び光学素子。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、高い熱的安定性を有し、着色が少ない光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＴｅＯ_２成分を１０．０〜９５．０％、Ｂ_２Ｏ_３成分を１．０〜５０．０％、ＧｅＯ_２成分を０〜２０．０％、ＳｉＯ_２成分を０〜２０．０％、及びＰ_２Ｏ_５成分を０〜２０．０％含有する。また、精密プレス成形用プリフォームはこの光学ガラスからなるものであり、光学素子は、光学ガラスを精密プレス成形してなるものである。 （もっと読む）

【課題】ＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなる液滴ガラスの最大質量および質量精度を高め、金属製真空二重容器等の気密性を向上させる液滴成形用ノズを提供する。
【解決手段】液滴成形用ノズル３は、液滴ガラスの成形に用いる液滴成形用ノズル３において、ＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなる液滴ガラスの成形に用いるとともに、ノズル内部にノズル先端からの距離が１０ｍｍ以下の領域に形成され、棒状体を結合させた構造を有する流速制御部４を有する。 （もっと読む）

緊密に封止されたガラスパッケージを製造するためのフリットに使用するのに適した、アンチモンを含まないガラスについて記載される。ＯＬＥＤディスプレイ装置などの緊密に封止されたガラスパッケージは、第１のガラス基板プレートおよび第２のガラス基板プレートを提供し、アンチモンを含まないフリットを前記第１の基板プレート上に積層することによって製造される。ＯＬＥＤは、前記第２のガラス基板プレート上に積層されうる。次に、照射源（例えば、レーザー、赤外線）を用いて、第１のガラス基板プレートを第２のガラス基板プレートに接続し、ＯＬＥＤを保護するための緊密封止を溶融および形成するフリットを加熱する。アンチモンを含まないガラスは、優れた耐水性、良好な流れ、低いガラス転移温度および低い熱膨張率を有する。
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乾燥ガラス系フリット、および乾燥ガラス系フリットを製造する方法が開示されている。ある実施の形態において、乾燥ガラス系フリットは、バナジウム、リンおよび金属ハロゲン化物を含む。ハロゲンは、例えば、フッ素または塩素であってよい。別の実施の形態において、乾燥ガラス系フリットを製造する方法は、そのフリットのバッチ材料をか焼し、次いで、バッチ材料を窒素雰囲気などの不活性雰囲気中で溶融する各工程を有してなる。さらに別の実施の形態において、乾燥ガラス系フリットを製造する方法は、フリットのバッチ材料をか焼し、次いで、バッチ材料を窒素雰囲気などの空気雰囲気中で溶融する各工程を有してなる。
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【課題】ファイアスルー性や熱的安定性が良好であり、しかも低温で焼結可能なガラス組成物を創案することにより、シリコン太陽電池の光電変換効率や長期信頼性を向上させること。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラス組成物は、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量％表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ７３．１〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２〜１４．５％、ＺｎＯ ０〜２５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合量） ０．２〜２０％、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３（ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３の合量） ０〜８．５％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造時、加工時等にガラス及び蛍光体粒子が加熱された際に、蛍光体粒子の劣化を抑制することのできる蛍光体含有ガラスを提供する。
【解決手段】波長変換用の蛍光体含有ガラスにおいて、蛍光体粒子７と、蛍光体粒子７の表面を覆う被覆材７１と、被覆材７１により表面が覆われた蛍光体粒子７を含むガラス材６と、を有し、被覆材７１はガラス材６のガラス転移温度以上の耐熱性を有するようにした。 （もっと読む）

【課題】鉛及びビスマスを含有しない組成を有し、比較的低い熱膨張係数及び軟化点を有するとともに耐薬品性に優れたガラス組成物を提供する。
【解決手段】無鉛無ビスマスガラス組成物であって、（１）ａ）ＳｉＯ_２：０．１重量％以上５重量％以下、ｂ）Ｂ_２Ｏ_３：２６重量％以上６０重量％以下、ｃ）ＺｎＯ：３０重量％以上６０重量％以下、ｄ）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの少なくとも１種：総和で０．１重量％以上５重量％以下、ｅ）Ａｌ_２Ｏ_３：０．１重量％以上３重量％未満を含有し、（２）前記ＺｎＯ／Ｂ_２Ｏ_３の比が０．５〜２であり、（３）５０〜３５０℃における熱膨張係数が６５×１０^−７／℃以下である、無鉛無ビスマスガラス組成物に係る。 （もっと読む）

【課題】電子材料基板を被覆、封着するための低融点ガラスであって、実質的にＰｂＯを含まない無鉛低融点ガラス。
【解決手段】質量％でＢ_２Ｏ_３を４〜１２、Ｂｉ_２Ｏ_３を８３〜９３、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０．１〜６、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜５含むことを特徴とするＢ_２Ｏ_３−Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３系無鉛低融点ガラスである。３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（１１０〜１４５）×10^−７／℃、軟化点が３００℃以上４２０℃以下である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】Ａｓ成分、Ｓｂ成分を含有しなくとも良好な清澄効果と高い生産性を両立する低熱膨張性ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準でＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、ＣｅＯ_２および／またはＳｎＯ_２成分を含有し、
ＣｅＯ_２成分または／もしくはＳｎＯ_２成分の合計量γが
γ≧０．００５α＋０．０１８９β^２＋０．０１１β−５．５ （α；液相温度 β；Ｂ_２Ｏ_３成分の含有量）の関係を満足することを特徴とするガラス。 （もっと読む）

【課題】より高い屈折率を有すると共により成形性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｂｉ₂Ｏ₃，Ｂ₂Ｏ₃,ＳｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，ＺｎＯを含み、以下の条件式（１）および条件式（２）を満足する。但し、条件式（１），（２）において、Ｘは全体におけるＢｉ₂ Ｏ₃の含有率（重量％）であり、Ｙは全体におけるＢ₂ Ｏ₃の含有率（重量％）である。条件式（１）を満足することで結晶化が回避され、高い透明性が確保される。また、条件式（２）の下限を上回ることでｄ線に対する屈折率Ｎｄが１．９以上となり、条件式（２）の上限を下回ることでガラス化し易くなる。Ｘ＋Ｙ≧７５……（１）２．５＜Ｘ／Ｙ＜１３……（２） （もっと読む）