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Fターム[4G062NN32]の内容

ガラス組成物 (224,797) | 性質・用途 (5,624) | 熱的性質 (1,653) | 低温融性 (563)

Fターム[4G062NN32]に分類される特許

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本発明は、シリコン半導体デバイスおよび光起電力セルの導電性ペースト中に有用なガラス組成物に関する。
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【課題】フッ化物を含有しないリン酸塩系ガラスであってもフツリン酸塩系ガラスと同等程度に耐候性が高く、かつガラスが失透し難く生産性が良好である近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】モル%表示で、P 30〜50%、Al 2〜15%、NaO+KO 7〜40%、CuO 0.1〜25%、BaO 2〜40%、RO+ZnO 10〜40%(ただし、ROは、MgO、CaO、SrO、BaOの合計量)を含有し、実質的にLiOを含有しないことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 (もっと読む)


【課題】SnO、P、Bを主成分とするガラスであって、低温軟化特性を有するとともに、モールドプレス成形、接合、封着、封止、焼結等の加熱される過程を経ても化学耐久性が劣化せず、さらに長期間に亘って使用しても化学耐久性の劣化が少ないガラスを提供する。
【解決手段】SnO、P、Bを含有し、相対的にB含有量が高い第一の相と相対的にB含有量が低い第二の相から構成されるSnO−P−B系分相ガラスであって、第一の相がAl、MgO、CaO、SrO、BaOのうち少なくとも1種を合量で0.5モル%以上含有することを特徴とするSnO−P−B系分相ガラス。 (もっと読む)


【課題】実質的にPbOを含まないにもかかわらず、封入温度が低く、且つ実用上、十分な化学的耐久性、特に耐酸性を有する半導体封入用ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明の半導体封入用ガラスは、ガラス組成として、アルカリ金属酸化物(LiO、NaO、KO)の2種以上、BおよびBiを含み、且つ実質的にPbOを含まないことを特徴とし、10dPa・sおける温度が660℃以下であり、且つ30〜380℃における熱膨張係数が85〜105×10−7/℃であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体の製造方法と、それにより作製された複合体を含む光触媒機能性部材及び親水性部材を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備える複合体であって、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル%で、Nb成分及びTa成分より選択される1種以上を合計で5.0%以上95.0%以下、並びに、SiO成分、B成分、P成分及びGeO成分からなる群より選択される1種以上を合計で10.0%以上85.0%以下含有する。 (もっと読む)


【課題】 MEMS(マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム)などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準で、SiO成分、P成分、Al成分を含有し、Al成分に対するP成分の酸化物基準で表わされた質量%の比(P2/Al)が0.01以上である陽極接合用ガラス。 (もっと読む)


【課題】屈折率が1.70〜1.90であり、屈伏温度が460℃以下と低く、紫外域の透過性が良好であり、且つ、耐失透性が良好な、モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を100重量%とし、酸化物組成として、
(1)B:7〜28重量%、Bi:30〜77重量%及びGa:21〜35重量%、
(2)RO(但し、RはLi、Na又はK)の少なくとも1種:0.1〜20重量%、並びに
(3)R(但し、RはLi、Na又はK)の少なくとも1種:0.1〜5重量%を含有し、
屈折率が1.70〜1.90であり、且つ、屈伏温度が460℃以下である、
ことを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】 高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】 カチオン%表示で、
3+ 20〜50%、
La3+ 5〜35%、
Nb5+ 1〜30%、
Ta5+ 0.5〜15%、
Zn2+ 11〜40%、
を必須成分として含み、
3+およびSi4+の合計含有量が20〜50%、La3+、Gd3+およびY3+の合計含有量が5〜35%、カチオン比((B3++Si4+)/(La3++Gd3++Y3+))が1〜5、Ti4+、Nb5+、Ta5+、およびW6+の合計含有量が10〜35%、カチオン比((Nb5++Ta5+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.7〜1、カチオン比((B3++Si4+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.5〜4、カチオン比((La3++Gd3++Y3+)/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+))が0.2〜3、Zn2+/(Zn2++Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+)が0.8〜1であり、屈折率ndが1.89以上、アッベ数νdが27〜37である光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】機械的強度が高く、かつ、実質的にアルカリ成分を含有しない表面層を有する強化板ガラスを提供する。
【解決手段】強化板ガラスは、内部層1と、内部層1を厚さ方向に挟んで両表面側に設けられた表面層2との3層で構成されている。表面層2は、ガラス組成として実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないガラスからなり、内部層1は、ガラス組成として実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないガラス又は実質的にアルカリ金属酸化物を含有するガラスからなる。表面層2の厚さは10〜500μmであり、内部層2の厚さは20〜2000μmである。内部層1の熱膨張係数は表面層2の熱膨張係数よりも大きく、強化板ガラスは、このような熱膨張係数差を有する表面層1と内部層2とが相互に融着一体化して構成されていることにより、表面層2に50MPa〜500MPaの圧縮応力Pcが形成され、内部層2に30〜200MPaの引張応力が形成されている。 (もっと読む)


【課題】Ta含有量を抑えつつ、耐失透性の優れた高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示にて、B1〜30%、SiO0.1〜20%、La、Gd、YおよびYbを合計で55〜75%(但し、Laの含有量が15〜55%、La、Gd、YおよびYbの合計含有量に対するGdの含有量の質量比(Gd/(La+Gd+Y+Yb))が0.17〜0.65)、Ta0〜13%(但し、13%を含まず)、Nb、TiO、WOおよびZrOを合計で0〜25%(但し、Nbの含有量が10%未満)、を含み、屈折率ndが1.83〜1.92、アッベ数νdが36〜45であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


本発明は、主成分としてSiO、NaO、及びCaOを有するガラスセラミック材料において、前記材料が、SiOから本質的に構成されかつ非晶質マトリックスの体積に均一に分散された結晶粒子を含むことを特徴とするガラスセラミック材料に関する。かかる材料は、良好な機械的強度、特にスクラッチ伝播に対する良好な耐性を有し、改良された焼入れを実現する。前記材料はさらに、心地良い美的外観を有する。 (もっと読む)


【課題】低温で封着可能であり、且つ熱的安定性が良好であるとともに、高温で排気しても軟化変形し難く、しかもソーダガラス板の熱膨張係数にマッチングした封着材料を創案することにより、低圧複層ガラスの内部の気密性を維持しつつ、低圧複層ガラスの信頼性や生産性を高めること。
【解決手段】本発明の封着材料は、ガラス粉末と耐火性フィラーを含有する封着材料において、ガラス粉末を50〜80体積%、耐火性フィラーを20〜50体積%含有し、ガラス粉末が、ガラス組成として、質量%で、Bi 67〜90%、B 2〜12%、ZnO 1〜20%、BaO+CuO+Fe+Sb 0〜20%を含有し、且つ低圧複層ガラスの封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 700℃以下の温度で焼成でき、メッキ処理によってオーバーコート層が侵食され難く、しかも、安価な非鉛系ガラス及びそれを用いた複合材料を提供することである。
【解決手段】 本発明の非鉛ガラス系は、実質的にPbO及びBiを含まず、モル百分率で、SiO 40〜55%、B 13〜29%、Al 7〜17%、ZnO 3〜15%未満、MgO 0〜5%、CaO 0〜5%、SrO 0〜5%未満、BaO 0〜5%未満、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜15%、LiO+NaO+KO 5〜20%含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 700℃以下の温度で焼成でき、しかも、メッキ処理によってオーバーコート層が侵食され難いビスマス系非鉛ガラス及びそれを用いた複合材料を提供することである。
【解決手段】 本発明のビスマス系非鉛ガラスは、実質的にPbOを含まず、質量百分率で、Bi 36〜65%、B 10〜30%、SiO 10超〜30%、Al 5〜20%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、ZnO 0〜2%未満、LiO+NaO+KO 0〜10%含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】交流電流を溶融物の加熱に使用するガラスの製造中に気泡の形成を低減させるか少なくとも防止する方法並びに装置を提供する。
【解決手段】ガラス溶融物FSを交流電流により加熱するために前記ガラス溶融物FS中に伸長する電極を使用し、前記ガラス溶融物FS中に直流電流が生じ、前記直流電流が前記ガラス溶融物FS中の気泡の形成の臨界となるしきい値を超過する電流密度を有するような低含有量のレドックス緩衝剤を含むガラス溶融物FSを使用し、気泡の形成を低減または防止するため、加熱用交流電流の動作周波数を最小周波数に調整し、それにより、生じている電流密度が臨界しきい値より下に留まる、製造方法。 (もっと読む)


【課題】歯科用セラミックブランクを機械加工する時間を短縮する方法を得る。
【解決手段】歯科用セラミックブランクの破壊じん性(KIC)と曲げ強度(δ)が既知であり、下記の式を用いて、該歯科用セラミックの最大表面臨界傷寸法の推定値(c)と、最大臨界ボリューム傷寸法の推定値(2c)を算出する工程と、c=(KIC/δ一連のダイヤモンドツールを用いて機械加工法を行う工程で、該ダイヤモンドツールが、埋め込まれたダイヤモンドを備える工程とを含み、該機械加工法が、粗い機械加工工程と、中間の機械加工工程と、精巧な機械加工工程とを含み、この各工程が、ツール経路と機械加工パラメーターを含み、該ツール経路及び機械加工パラメーターが、該一連のダイヤモンドツールの少なくとも1つによって実行され、該埋め込まれたダイヤモンドの粒度が、c前後よりも大きく、2c前後よりも小さい方法とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、屈折率nが1.9以上で、アッベ数νが20以下、かつ溶融・冷却後の熱処理なしに70%分光透過率を与える波長λ70が520nm以下の高屈折率、高分散性及び高透過性でしかも液相温度が低く、軟化点近傍の耐失透性に優れた、光学素子の小型化・薄型化に好適な、リン酸塩系光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量%で、P:15〜35、Nb:35〜60、TiO:6〜20、WO:0.1〜15、B:0.1〜1.0未満、KO:0.1〜10、NaO:0.1〜5.5未満、LiO:0〜3、SiO:0〜3、Bi:0〜5.0未満、BaOを実質的に含有せず、屈折率nが1.9以上で、アッベ数νが20以下、かつ70%分光透過率を与える波長λ70が520nm以下である光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板全体を加熱することができないような場合においても、封着材料層を良好に形成することを可能にした封着材料層付きガラス部材の製造方法を提供する。
【解決手段】封着ガラスとレーザ吸収材とを含む封着材料を有機バインダと混合して調製した封着材料ペーストを、ガラス基板2の封止領域上に枠状に塗布する。封着材料ペーストの塗布層8に沿って第1のレーザ光9を照射し、塗布層8を選択的に加熱して有機バインダを除去する。続いて、脱バイ層10に沿って第2のレーザ光11を照射し、脱バイ層10を選択的に加熱することによって、封着材料を焼成して封着材料層7を形成する。このような封着材料層7を用いて、2枚のガラス基板間を封止する。 (もっと読む)


【課題】スラリーの乾燥温度を高めても揮発し難く、グリーンシートに柔軟性を確実に付与することができ、しかも近年の環境的要請を満たす可塑剤を使用したグリーンシートを提供する。
【解決手段】ガラス粉末と、セラミック粉末と、樹脂バインダーと、可塑剤とを含むグリーンシートにおいて、(1)厚みが100〜400μmであり、(2)可塑剤の沸点が160℃以上であり、(3)可塑剤がアルコール類化合物、テルペン類化合物、グリコール類化合物、ケトン類化合物のいずれかであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】実質的にPbOを含有しなくても、真空封止時に良好に流動するとともに、排気口の鉛直上方以外の位置に置かれた場合でも、排気口を確実に封止できる封止ガラスの製造方法および封止ガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の封止ガラスの製造方法は、ガラスバッチを溶融し、溶融ガラス22を得た後、溶融ガラス22を成形し、封止ガラスを得る封止ガラスの製造方法において、封止ガラスが実質的にPbOを含有しないように、ガラスバッチを選択し、且つ封止ガラス中のβ−OH値が0.4/mm以上になるように、溶融ガラス22にHO含有ガスを接触させることを特徴とする。 (もっと読む)


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