説明

Fターム[4G072JJ08]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 非珪素系反応剤、原料、処理剤 (2,734) | アルカリ金属元素 (53)

Fターム[4G072JJ08]に分類される特許

41 - 53 / 53


【課題】本発明は長期に亘って安定した炭酸ガスの吸収特性を得られる炭酸ガス吸収材を提供する。
【解決手段】リチウム複合酸化物を主成分とする多孔質の炭酸ガス吸収材であって、前記多孔質体において10〜100μmの孔径をもつ第1気孔が合計で全気孔の10〜80%を占め、かつ100μmを超え、500μm以下の孔径を持つ第2気孔が合計で全気孔の10〜80%を占めることを特徴とする炭酸ガス吸収材。 (もっと読む)


【課題】本発明は、安価、かつ、大量に、高純度の太陽電池基板用Siの原材料を提供する方法を提供する。
【解決手段】溶融シリコンに酸化剤を付与してシリコン中のホウ素を酸化して除去するシリコンの製造方法において、高温酸化剤から発生した酸化性ガスを精製炉内、又は、溶融Si上の狭い空間に密閉することにより、系外に廃棄されるガス量を減少させ、酸化剤使用量を抑制するものである。酸化剤のガス化は、その温度での飽和蒸気圧に達した時点で停止するので、それ以降、酸化剤の急速なガス化は発生せず、酸化性ガスによるSi中のホウ素酸化は安定して進行する。 (もっと読む)


【課題】安価、かつ、大量に、高純度の太陽電池基板用Siの原材料を提供する方法を提供する。
【解決手段】溶融シリコンに酸化剤を付与して、シリコン中のホウ素を酸化することによりシリコン中からホウ素を除去するシリコンの製造方法において、シリコン中のホウ素の酸化中に酸化剤の昇温を抑制するために、酸化剤を部分的に冷却あるいは酸化剤と溶融シリコンの間に断熱剤を存在させる。 (もっと読む)


【課題】生産性が高く、分散後すぐに使用しても塗布適性が良好な色材受容層塗液を得ることが可能な気相法シリカ分散液の製造方法を提供する。また、こうして得た気相法シリカ分散液を使用することで、色材受容層のひび割れがなく面質が良好で、光沢、色材吸収性に優れた記録材料を提供する。
【解決手段】気相法シリカをカチオン性化合物の存在下で水系分散媒中に分散して気相法シリカ分散液を製造する方法において、該分散液の製造工程中もしくは製造後に該分散液のpHを0.1以上上昇させる操作を行う。気相法シリカ分散液のpHを0.1以上上昇させる操作が、pKaが1.0以上の酸とアルカリ金属との塩の添加により行われると好ましい。 (もっと読む)


【課題】 均一な三次元周期を持って配列した細孔を有し、構造安定性及び耐薬品性に優れた強固な構造を有する無機酸化物周期構造体、およびこれら構造体の簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】 無機酸化物の構造体中に、孔径が20nm〜10μmの範囲にある細孔が三次元周期を持って配列し、隣接する細孔の中心間を結ぶ線上の無機酸化物厚さが5nm〜10μmの範囲にある無機酸化物周期構造体、及び有機高分子化合物微粒子をコア部、架橋した親水性有機高分子化合物をシェル部として有するコア−シェル粒子を、水系溶媒に分散させたゾルを得る工程、該ゾルに金属系アルコキシドを加えてゾル−ゲル反応させ、架橋した親水性有機高分子化合物と、生成する無機酸化物とが一体化された複合体中に、前記コア部が三次元周期を持って配列した構造体を得る工程、該構造体を焼結して無機酸化物周期構造体を得る工程からなる製造方法。 (もっと読む)


【課題】 多孔性シリカの細孔構造を、ミクロからマクロ孔までの幅広い範囲で、簡単に、短時間で制御することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】 3N酢酸水溶液150gに、シリカ濃度10wt%に希釈した市販の3号ケイ酸ナトリウム水溶液を、20℃の下で徐々に滴下してケイ酸ゾルを得た。次に、このケイ酸ゾルを瞬時に乾燥させ、乾燥品を15g回収した。そして、噴霧乾燥品を水洗乾燥し、酢酸ナトリウムを除くことで、多孔性シリカを製造した。この多孔性シリカの窒素吸着測定による比表面積は721m2/g、ミクロ孔容積0.30ml/g、メソ孔容量0.12ml/gであった。 (もっと読む)


【課題】 太陽電池製造用等に有用な高純度のシリコンを提供することを目的として、シリコンから不純物、特にホウ素を除去するための方法であり、従来法に比べ高い除去効率を得る方法を提供する。
【解決手段】 溶融シリコンに、NaCOとSiOとの混合物からなる成型体を投入することを特徴とする方法により、上記課題を解決する。 (もっと読む)


(i)元素の周期表の3A、4A、3B又は4B族の元素の原子、及び(ii)酸素原子を含有する粒子からなる熱分解酸化物粉末において、前記粒子はリチウム原子が酸素架橋を介して前記原子に結合していることを特徴とする熱分解酸化物粉末。 (もっと読む)


微孔質シリカゲルの合成および合成ガスからのC酸素化物合成のための触媒の製造に対するその適用につき開示する。ゾルゲルプロセスにより生成されかつ塩基性溶液中で加熱され、次いで乾燥および/または焼成されるシリカゲルの小粒子は、かくして触媒支持体として微孔質シリカを形成する。塩基性溶液はアルカリ金属およびアンモニウムの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、蟻酸塩および酢酸塩の1種または混合溶液とすることができる。得られる微孔質シリカにはロジウム塩および他の遷移元素塩(プロモータ先駆体として)の溶液を含浸させ、次いで乾燥および/または焼成し、かくして微孔質シリカ支持されたロジウム系触媒を形成する。ロジウム塩はRhClもしくはRh(NOとすることができる。プロモータ先駆体は水可溶解の遷移金属塩、稀土類金属塩、アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩とすることができる。得られる触媒は、緩和なプロセス条件下におけるCOの水素化によるC−酸素化物の合成にて高い活性および選択率を示す。 (もっと読む)


【課題】 鱗片状シリカとは形態的に異なる針状の低結晶性シリカを、ケイ灰石やアルミノケイ酸塩を経ることなく、水熱反応により創出する。
【解決手段】 アルカリ性のリチウム源及びシリカ源を含む水溶液又は水スラリーを出発原料とし、水熱処理することにより、低結晶性の針状シリカを得ることができ、特にアルカリ性のリチウム源として水酸化リチウム等を使用し、シリカ源としてシリカゾル等を使用するか、アルカリ性のリチウム源及びシリカ源としてケイ酸リチウムを使用することにより、直径が0.001〜1μmの針状シリカであり、アスペクト比が5〜200である針状シリカが提供される。 (もっと読む)


本発明は、アルカリ金属とケイ素とを混合する工程および、生じる混合物を温度約475℃以下に加熱する工程を包含する、アルカリ金属シリサイド組成物の製造方法、およびこの方法による組成物に関する。生じる組成物はドライOと反応しない。更に、本発明は約18.2、28.5、29.5、33.7、41.2、47.4、および56.2から選択される2θ角を有する少なくとも三つのピークを含有する粉末X線回折図形および約18 ppmにおいて固体状態23Na MAS NMRスペクトルピークを有するナトリウムシリサイド組成物にも関する。更に、本発明は制御された方法で揮発性または引火性物質を除去する方法にも関する。更に、本発明によるアルカリ金属シリサイド組成物は水と反応して水素ガスを発生させる。 (もっと読む)


本発明は、シリカゲル及びアルカリ金属若しくはアルカリ金属合金を含有する1族金属/シリカゲル組成物に関する。本発明による組成物は、段階0の物質、段階Iの物質、段階IIの物質及び段階IIIの物質として記載される。これらの物質は、調製法と化学的反応性の点で相違する。各々の連続的段階の物質は、下記の方法を用いて直接的に調製してもよく、或いは、先行段階の物質から調製してもよい。段階0の物質は、例えば、等温条件下又は室温若しくは室温よりも僅かに高い温度においてNaとKの液状合金をシリカゲル(多孔性SiO)に急激に吸収させることにより、親金属の大部分の還元能を保持する弛緩性黒色粉末を形成させることによって調製してもよい。融点の低い1族金属をシリカゲルに吸収させると、穏やかな発熱反応によって段階Iの物質が形成される(該物質は、乾燥空気中では不安定な弛緩性の黒色粉末である)。段階Iの物質を400℃まで加熱すると、段階IIの物質が形成される(該物質も弛緩性黒色粉末である)。この物質をさらに400℃よりも高い温度まで加熱すると段階IIIの物質が形成される。この際、1族金属の一部が放出される。段階Iの物質、段階IIの物質及び段階IIIの物質は、1族金属の吸収後にシリカゲルを還元させると考えられる。本発明による好ましい1族金属/シリカゲル組成物は、ナトリウム、カリウム又はナトリウム−カリウム合金を含有するものであるが、ナトリウム及びナトリウム−カリウム合金を含有するものが最も好ましい。本発明による1族金属/シリカゲル組成物を各段階の物質は、アルカリ金属とこれらの合金に対して知られている方法と同じ方法において、多数の還元性有機物質と反応する還元剤として使用してもよい。

(もっと読む)


20〜150m/gのBET表面積を有する凝集した結晶質シリコン粉末。該粉末は、少なくとも1の蒸気状もしくは気体状のシランおよび場合により少なくとも1の蒸気状もしくは気体状のドープ材料、不活性ガスおよび水素をホットウォール反応器中で加熱し、該反応混合物を冷却するか、または反応混合物を冷却させ、かつ生成物を粉末の形で気体状の物質から分離することにより製造され、その際、シランの割合は、シラン、ドープ材料、水素および不活性ガスの合計に対して0.1〜90質量%であり、かつその際、水素の割合は、水素、シラン、不活性ガスおよびドープ材料の合計に対して1モル%〜96モル%の範囲である。該粉末は電子部品を製造するために使用することができる。 (もっと読む)


41 - 53 / 53