説明

Fターム[4G073BA38]の内容

Fターム[4G073BA38]に分類される特許

1 - 6 / 6


本発明は、新規な構造指向剤を使用して合成された、酸化ホウ素に対する酸化ケイ素のモル比が40から400の間を有するボロシリケートZSM−48モレキュラーシーブを対象とする。イソパラフィンの最小限の形成で、重ノルマルパラフィンを、より軽いノルマルパラフィン生成物に選択的水素化変換するための触媒として、ボロシリケートZSM−48を使用するプロセスも開示する。
(もっと読む)


低シリカ/アルミナ比を有するCHA結晶構造を有するゼオライト触媒、該触媒を組み込む物品およびシステム、ならびにそれらの調製方法および使用方法が、開示される。該触媒を使用して、排気ガス流からのNOx、特に、ガソリンまたはディーゼルエンジンから発するものを低下させることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、微細孔酸化物膜中に金属を、微細孔酸化物膜の両端部よりも中心部に多く存在する分布パターンで分布させて、かつ、薄膜化した複合体を提供すること。
【解決手段】 (イ)微細孔酸化物膜の細孔に金属が充填され、前記細孔が前記金属により閉塞されてなる金属充填層が(ロ)多孔質基材の上に積層されてなる複合体であって、充填された金属が微細孔酸化物膜の両端部よりも中心部に多く存在する分布パターンで分布してなる複合体。 (もっと読む)


貴金属を含有するチタノシリケート材料であって、該チタノシリケート材料は、酸化物表示でxTiO2・100SiO2・yE0m・zEと表され、xは0.001〜50.0の範囲であり;(y+z)は0.0001〜20.0の範囲であり、y/z<5であり;Eは、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、AgおよびAuからなる群より選ばれる一つ以上の貴金属を表し;mは、Eの酸化状態を充足させる数である。上記材料の結晶粒は、中空構造または垂下構造を含んでいる。上記材料では、上記貴金属および上記チタノシリケートとの間の相乗効果が増強される。酸化反応、例えば、プロピレンのエポキシ化による酸化プロピレンの製造のための反応における選択性、触媒活性および反応産物の安定性は、従来技術と比較して明らかに向上している。 (もっと読む)


ガス分離、ガス貯蔵、触媒反応及びセンサのためのゼオライト骨格の開示がなされている。特に、ゼオライト骨格(ZIF)の開示がなされている。開示されているZIFは、任意の数の遷移金属又は同種の遷移金属の組成を具えている。 (もっと読む)


貴金属を含むチタン−またはバナジウムゼオライト触媒は、ゼオライト調製に用いられた鋳型剤を含有するチタン-またはバナジウムゼオライトに貴金属源を添加した後に、鋳型剤を除去して貴金属を含むチタン−またはバナジウムゼオライト触媒を生成することによって調製される。この触媒は酸素と水素を用いたオレフィンのエポキシ化において有用である。 (もっと読む)


1 - 6 / 6