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Fターム[4G169CC22]の内容

Fターム[4G169CC22]に分類される特許

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【課題】低温でも高活性で選択的に一酸化炭素をメタン化(メタネーション)できる一酸化炭素除去用触媒を提供する。
【解決手段】酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化セリウムから選ばれる2種以上の酸化物からなる担体にルテニウムが担持されてなり、ルテニウムの含有量がRu金属として1〜15重量%の範囲にある一酸化炭素メタネーション用触媒。比表面積が30〜200m2/gの範囲にあり、細孔容積が0.10〜0.45ml/gの範囲に
ある。 (もっと読む)


【課題】 小型化に適した水素発生装置および燃料電池システムを提供することを目的とする。
【解決手段】 改質ガス中に含まれる一酸化炭素の一部のメタン化反応を促進するCO除去部の表面に、アルミニウムで構成された触媒部が設けられている。触媒部には、表面の陽極酸化によって形成されたγ−アルミナにルテニウムが担持された触媒層が設けられ、触媒部の温度が250℃以上となるように加熱される。 (もっと読む)


【課題】低い温度領域において、COメタン化反応を促進することができるCOメタン化触媒、CO除去装置及び燃料電池システムを提供する。
【解決手段】燃料電池用の炭化水素系の原燃料11を燃料ガスである水素を含む改質ガス13に改質する改質器本体12と、改質ガス13中のCOを変成するCO変成触媒部14と、COを変成した後に残留するCOを除去して燃料電池(図示せず)に供給する燃料ガス15とするCO除去触媒装置16とを具備する燃料改質装置10において、前記CO除去触媒装置16がCO選択酸化触媒部16−1とCOメタン化触媒部16−2とからなり、前記メタン化触媒部16−2に用いるCOメタン化触媒は、ガス中のCOをメタン化させる活性成分と、該活性成分を担持する少なくとも酸性点を有する担体とからなる。 (もっと読む)


触媒活性の成分としてルテニウム、ロジウム、ニッケル及びコバルトからなる群から選択される少なくとも1種の元素及び、炭素ベースの担体材料を含む一酸化炭素の選択メタン化用の触媒活性組成物に関する。
更に、本発明は、一酸化炭素を選択メタン化するための触媒活性組成物を使用する方法及び、上記触媒活性組成物を燃料電池用の水素の製造に使用する方法。 (もっと読む)


【課題】水素含有ガスから一酸化炭素を除去する反応の選択性が高い一酸化炭素シフト反応器および一酸化炭素選択メタン化器を提供する。
【解決手段】反応器と、前記反応器に充填される一酸化炭素シフト触媒もしくは一酸化炭素選択メタン化触媒を具備する一酸化炭素シフト反応器もしくは一酸化炭素選択メタン化器であって、前記一酸化炭素シフト反応触媒および一酸化炭素選択メタン化触媒は、難還元性金属酸化物と易還元性金属酸化物と添加金属元素とを含有する複合酸化物の基材と、前記基材の少なくとも表面に析出した活性金属粒子とを具備し、前記添加金属元素は、Al、Sc、Cr、B、Fe、Ga、In、Lu、NbおよびSiよりなる群のうち前記難還元性金属酸化物の金属とは異なる種類の中から選択される少なくとも一種類であり、前記一酸化炭素選択メタン化触媒中の前記添加金属元素の含有量は、元素量で0.01モル%以上、0.25モル%以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


水供給部(108)と、メタン化対象のガスを含んでいるガス供給部(101)とを使用するメタン化アセンブリであって、反応装置アセンブリ(114)と、ガス配送冷却アセンブリとを含み、反応装置アセンブリ(114)は、複数のメタン化反応装置(114A、114B、114C)を有し、各メタン化反応装置は、反応装置アセンブリへ流入されたガスをメタン化する装置であり、ガス配送冷却アセンブリは、ガス供給部から各メタン化反応装置へガスを配送するとともに、供給部から供給された水と、次のメタン化反応装置に搬送される各メタン化反応装置から排出された排出物とを混合し、その混合物を次のメタン化反応装置に運ぶように適合されている。
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所定気孔寸法を有する支持体と、金属カルボニル物質を形成しうる金属とからなる一酸化炭素の変換用触媒につき開示する。1具体例において、本発明の触媒はモルデナイト、β−ゼオライトもしくはホージャサイト支持体とルテニウム金属とを含む。 (もっと読む)


有機及び無機化合物の酸化または還元のための接触的方法であって、酸化または還元条件下に、上記化合物を、銀または金で促進された活性触媒成分としてのニッケルからなる担持型触媒と接触させることを含み、この際、前記銀または金は、触媒中のニッケルの量に基づいて計算して0.001〜30重量%の量で存在する上記方法。 (もっと読む)


本発明は、高さ、幅、および長さ(高さは約10mm以下)を有し、プロセスマイクロチャネルの幅に沿う一方向とプロセスマイクロチャネルの長さに沿う他の方向に展延する基底壁を有する、少なくとも1個のプロセスマイクロチャネルと、基底壁からプロセスマイクロチャネル中に突出し、プロセスマイクロチャネルの長さの少なくとも一部に沿って展延する、少なくとも1個のフィンと、フィンに担持された触媒または吸着媒体とを含む装置に関する。
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