【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、シリコンウエハなどの基材上に形成された金属膜等の表面に存在する不純物金属、不純物無機材料や有機材料、砥粒などのパーティクル等を効率的に除去することができる洗浄液及びそれを用いた洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式（Ｉ）で表されるノニオン性界面活性剤と有機酸と数平均分子量５０００以下のポリエチレングリコールとを含み、かつ、ｐＨが５以下である半導体デバイス用基板の洗浄液、及びそれを用いた洗浄方法。
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【課題】半導体基板の被処理面を研磨後、被処理面上のダスト等の欠陥を十分に除去でき、高い信頼性を有する半導体装置の製造方法を提供することにある。
【解決手段】半導体基板１０の被処理面１０ａを研磨布３１上で研磨した後、研磨布３１に当接している半導体基板１０の被処理面１０ａが、研磨布３１から離れた直後から洗浄ユニットにて洗浄開始されるまでの間、半導体基板１０の被処理面１０ａを湿潤状態にするように、被処理面１０ａに研磨液３３と異なる薬液３４を付着させて、被処理面１０ａ上のダスト、ウォーターマーク等の欠陥を低減する。 （もっと読む）

【課題】色剤濃度が高く、また顔料インクを使用するインクジェットプリンタに適用する場合でも優れた洗浄性を発揮し、かつ部材を侵すことなく既存のインクジェットプリンタで使用可能であり、消泡性、防腐防黴効果も優れる新規のインクジェット記録用メンテナンス液が望まれている。
【解決手段】本発明のインクジェット記録用メンテナンス液は、少なくとも水と、２５℃における水への溶解度が３重量％以上である樹脂溶剤を０．１〜１０重量％の範囲で含み、かつ保湿剤を１〜５０重量％の範囲で含んでなることを特徴とする。さらに、グリコールエーテル類、１，２−アルキルジオール類、アセチレングリコール系界面活性剤等の浸透剤等をさらに含ませることで、さらに洗浄性を向上させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】 本発明はメイク汚れに対し容易になじみ、皮膚が濡れた状態でも、また、濡れていない状態でも優れたクレンジング力を発揮し、水洗後に油性感が残らず、さっぱりと使用感の良いクレンジング用化粧料を提供することを目的とする。
【解決手段】 一般式（１）
【化１】


［但し、式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基で直鎖状あるいは分岐状であることを問わない、ｎは２〜１０の整数を表す。］により表される（Ａ）α−モノアルキルポリグリセリルエーテル、（Ｂ）α−モノアルケニルポリグリセリルエーテル、（Ｃ）α−モノヒドロキシアルキルポリグリセリルエーテルの群から選ばれる１種もしくは２種以上のアルキルポリグリセリルエーテルを含有することを特徴とするクレンジング用化粧料。 （もっと読む）

【課題】 短い洗浄時間でも洗浄力に優れ、軽金属に対する腐食がなく、またスケール防止効果にも優れた食器類の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）アルカリ剤、（Ｂ）有機ホスホン酸塩、（Ｃ）低泡性ノニオン界面活性剤をそれぞれ特定範囲で含有し、（Ａ）が（Ａ１）Ｍ₂Ｏ／ＳｉＯ₂＝１／１〜１／３（重量比）である珪酸アルカリ金属塩（Ｍはアルカリ金属）及び（Ａ２）炭酸アルカリ金属塩を含み、（Ａ１）／（Ａ２）＝１／０．２〜１／２（重量比）であり、（Ａ）／（Ｂ）＝４〜１００（重量比）である洗浄剤組成物から調製された洗浄液により、食器類を１０秒〜３分で洗浄する。 （もっと読む）

本発明は、中鎖ペルオキシカルボン酸を含む組成物、それらの組成物の製造方法、及び微生物の個体数を減少させる方法に関する。前記組成物は、有利に高いレベルの中鎖ペルオキシカルボン酸を含むことができ、容易に製造することができ、及び／又は減弱された臭気を呈することができる。
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水性分散液の形状におけるイミドアルカンペルカルボン酸の液体調合物であって、組成物の全質量に対する質量%で：A）7％〜40%及び好ましくは10%〜20%の一般式（Ｉ）を有するイミドアルカンペルカルボン酸、前記イミドアルカンペルカルボン酸はβ形状であり、及び99%の理論量に等しい溶解した酸の量に対し、40℃で決定されるときは5分以下又は18℃で決定されるときは15分以下の、40℃又は18℃の温度における溶解速度の試験によって決定される成分A）の溶解時間を有する；B）0.001%〜0.9%の非イオン性界面活性剤を含む、調合物；前記分散液は、20s^-1の剪断速度を適用することにより、25℃の温度で2000mPa.秒以下の粘度を有し；40℃又は18℃の温度における溶解速度の試験によって決定される成分A）の溶解時間は、溶解速度の試験で定義されたように、99%の理論量に等しい溶解した酸の量に対し、40℃で決定されるときは5分以下又は18℃で決定されるときは15分以下であり；40℃における7日間の安定性試験における前記分散液は、300mPa.秒以下の粘度の変化を示し；前記水性調合物は、非イオン性界面活性剤から選択される界面活性剤の存在下で、過剰量の水に分散されているα形状のイミドアルカンペルカルボン酸の結晶を粉砕し；30℃以下の温度まで液体分散液を冷却することによって得ることのできる。
【化１】

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ｉ）少なくとも１つの水溶性および／または分散性効果剤を含んでいる水相；ｉｉ）効果剤を含有する水相用の疎水性保護キャリヤー相；およびｉｉｉ）乳化剤または分散剤を含んでいる、高ｐＨ感受性効果剤または活性物質の保存安定性キャリヤーとしての油中水エマルジョン系。同様に、この油中水エマルジョン系、および連続アルカリ相である第二相を含んでいるリンスオフ非液体クレンジング組成物も提供される。 （もっと読む）

本発明は水中油系で適当な両親媒性化合物を提供する。該両親媒性化合物は、ａ）約２０個またはそれ以上の炭素原子を含む炭化水素基である親油性成分；ｂ）以下から選択される親水性成分：ｉ）２個またはそれ以上の炭素原子を含むオキシアルキレン基のモノマーまたはオリゴマー；ｉｉ）３個またはそれ以上の炭素原子を含むオキシアルキレン基のモノマーまたはオリゴマー；ｉｉｉ）以下を含むオリゴマー：１）３個またはそれ以上の炭素原子を含むオキシアルキレン基；２）２個またはそれ以上の炭素原子を含むオキシアルキレン基であり、但し、成分２）は成分１）とは異なる；ｉｖ）ヒドロカルビル置換ヒドロキシアミン；ｖ）多価アルコール；およびｖｉ）ポリアミンまたは；およびｃ）該親水性成分と該親油性成分とを共有結合するリンカーを含み、該親水性成分は該両親媒性化合物を少なくとも部分的に水に分散するのに十分な量で存在する。 （もっと読む）