【課題】エーテル交換反応の転化率が高く、原料成分のリサイクル性にも優れ、工業的に安価に量産できるビニルエーテルの製造方法を提供する。
【解決手段】
遷移金属触媒の存在下、ビニルエーテル類とアルコール類とのエーテル交換反応において、反応工程中ないし反応終了後に、反応混合物に酸素をバブリングしつつ、低沸点成分を留出させて反応混合物を濃縮する。低沸点成分は５０〜１００℃程度で留出させてもよい。この反応では、アルコール類に対してビニルエーテル類を過剰モル当量の割合で用いてもよい。酸素は、遷移金属触媒１モルに対して、５〜１００リットル／分の割合でバブリングさせてもよい。遷移金属触媒はパラジウム錯体及び／又はコバルト錯体であってもよい。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ₃比が１０〜１０００のメタロシリケート触媒をエーテル交換反応の触媒として用いて、任意のオキシアルキレン基の付加モル数および任意の末端アルキル基を導入した、（ポリ）アルキレングリコールジエーテルの製造方法を提供する。
【解決手段】第１の（ポリ）アルキレングリコールモノエーテルと、第２の（ポリ）アルキレングリコールモノエーテルとを、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ₃比（Ｍは、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｂ、Ｚｎ、Ｐ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｂｅ、ＶおよびＡｓからなる群から選択される１つ以上である）が１０〜１０００のメタロシリケート触媒の存在下、エーテル交換反応により（ポリ）アルキレングリコールジエーテルを得る工程を含む、（ポリ）アルキレングリコールジエーテルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】フルオロアルキルビニルエーテル、特に一般式 C_nF_2n+1(CH₂CF₂)_a(CF₂CF₂)_b(CH₂CH₂)_cOCH=CH₂で表わされるフルオロアルキルビニルエーテルの貯蔵時や輸送工程において重合抑制が有効に行われる、それの重合抑制方法を提供する。
【解決手段】フルオロアルキルビニルエーテルに、それに可溶性の脂肪族モノアミンまたは脂肪族ジアミンを0.001〜0.1重量％の割合で添加してフルオロアルキルビニルエーテルの重合を抑制する。脂肪族モノアミンとしては、ヒドロキシアルキルアミン、トリアルキルアミンが、また脂肪族ジアミンとしては、アルキレンジアミンが好んで用いられる。 （もっと読む）

【課題】高精度な微細パターンを安定して形成することができる化学増幅型のポジ型レジスト膜を形成可能な感放射線性組成物に含有される基材成分の原料として有用なカリックスアレーン系化合物を提供する。
【解決手段】一般式（Ａ１）又は一般式（Ａ２）で表されるカリックスアレーン系化合物。但し、一般式（Ａ１）及び（Ａ２）中、各Ｒは、水素原子又は一般式（Ｒ）で表される基であり、各Ｘは、アルキレン基である。また、一般式（Ｒ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、＊は前記一般式（Ｒ）で表される基の結合位置を示す。
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【課題】フッ化水素や多量の硫酸を用いることなく、従って大量の酸廃棄物の副生を伴わず、かつ、工業的に採用できるフルオロメチルヘキサフルオロイソプロピルエーテル(（ＣＦ₃）₂ＣＨ−Ｏ−ＣＨ₂Ｆ）の製造方法を提供する。
【解決手段】ビスフルオロメチルエーテルとヘキサフルオロイソプロピルアルコールを硫酸または硫酸よりも酸強度の高い強酸の触媒量の存在下、実質的にフッ化水素と非混和性の溶媒中において反応させることからなるフルオロメチルヘキサフルオロイソプロピルエーテルの製造方法。 （もっと読む）

式Ｈ_2m+1Ｃ_mＯ（ＣＨ₂Ｏ）_nＣ_mＨ_2m+1［式中、ｎ＝２〜１０であり、ｍは同じか又は異なり、１又は２である］で示されるポリオキシメチレンジアルキルエーテルを製造するにあたり、ジメチルエーテル、メチルエチルエーテル及びジエチルエーテルから選択されるジアルキルエーテル及びトリオキサンを反応器中へ供給し、かつ酸性触媒の存在で反応させる方法であり、その際に、ジアルキルエーテル、トリオキサン及び／又は触媒により反応混合物中へ導入される水量は、反応混合物を基準として、＜１質量％である。
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本発明は、一般式（Ｉ）： （式中、Ｒは置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいベンジル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表される化合物と水酸基含有化合物とを、酸触媒存在下反応させて、該水酸基含有化合物の水酸基の水素原子を、一般式（ＩＩ）： （式中、Ｒは前記と同義を示す。）で表される保護基に置換することを特徴とする、水酸基の保護方法に関する。本発明は、温和な条件で水酸基にアセタール型保護基を導入し得る方法、そのための保護試薬および該保護試薬の製造方法を提供する。
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メチラールおよびトリオキサンを反応器中に供給し、酸触媒の存在で反応させることにより、式Ｈ₃ＣＯ（ＣＨ₂Ｏ）_nＣＨ₃〔式中、ｎは、２〜１０である〕で示されるポリオキシメチレンジメチルエーテルを製造する方法であって、メチラール、トリオキサンおよび／または触媒によって反応混合物中に導入される水量が反応混合物に対して１質量％未満であることを特徴とする、式Ｈ₃ＣＯ（ＣＨ₂Ｏ）_nＣＨ₃〔式中、ｎは、２〜１０である〕で示されるポリオキシメチレンジメチルエーテルの製造法。有利には、反応の混合物からｎが３および４であるポリオキシメチレンジメチルエーテルを含有する画分を蒸留により取得し、メチラール、トリオキサンおよびｎが３未満および場合によりｎが４を上廻るポリオキシメチレンジメチルエーテルを反応中に返送する。
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