【課題】簡便な方法によって、高純度トリアルキルアルミニウムを得る方法を提供する。
【解決手段】トリアルキルアルミニウムとトリアルキルアミンとを反応させてアルミニウム−アミン錯体を形成させ、次いで、反応混合物を蒸留して該アルミニウム−アミン錯体を取得した後、該アルミニウム−アミン錯体からトリアルキルアミンを解離させて、遊離のトリアルキルアルミニウムを得ることを特徴とする、高純度トリアルキルアルミニウムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】 本発明は、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、およびＲ^４が本明細書に記載される通りである、式Ｉのボロン酸エステル、ならびにその調製および精製のための方法を提供する。


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【課題】不純物としてハロゲンを含むアミンアランから、半導体産業においてＣＶＤ等への適用が可能となる程度まで、ハロゲンを除去するための方法を提供すること。
【解決手段】不純物としてハロゲンを含有するアランのアミン付加化合物（アミンアラン：一般式ＡｌＨ３（ＮＲ１Ｒ２Ｒ３）ｎ［ｎ＝１または２］で表され、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３がアルキル基である）と金属水素化物（特にアルカリ金属の水素化物が好ましい）とを接触させることで、アミンアランを精製する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、安全且つ簡便な方法にて、インジウム廃棄物を処理し、インジウム汚泥を回収することが可能な工業的に採用できる方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、トリアルキルインジウムの後処理方法であって、トリアルキルインジウムを炭化水素溶媒に溶解させた後、酸素と接触させることを特徴とする、トリアルキルインジウムの処理方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法によって、高純度トリアルキルガリウム及びその方法を提供すること。
【解決手段】トリアルキルガリウム（アルキル基の炭素数は１〜６）とトリアルキルアミンを反応させて錯体を形成させ、これを蒸留によって精製した後、トリアルキルアミンを解離させることにより、遊離のトリアルキルガリウムを回収する。これによりケイ素原子の含有量が0.1質量ppm以下であることを特徴とする、高純度トリアルキルガリウムが得られる。 （もっと読む）

【課題】大量の２−カルボキシフェニル−ボロン酸の調製のための新規方法の提供。
【解決手段】４，４−ジメチル−２−フェニル−オキサゾリンのグリニャール試薬でのメタル化により、４，４−ジメチル−２−フェニル−オキサゾリンマグネシウムクロライドを製造し、次いで該化合物にホウ酸トリエステルを反応させ、さらに加水分解することにより、オキサゾール環の開環、エステルの加水分解を行い、４，４−ジメチル−２−フェニル−オキサゾリンボロン酸誘導体を調製する。 （もっと読む）

【課題】有機金属化合物を精製する方法の提供。
【解決手段】有機金属化合物をトリアルキルアルミニウム化合物および触媒の存在下で加熱することにより有機金属化合物を精製する方法。 （もっと読む）

【課題】 第四級アンモニウム＝テトラフルオロボラート中のハロゲン成分を除去するにあたり、銀化合物を使用せず、工業的に安価に第四級アンモニウム＝テトラフルオロボラートの精製方法を提供すること。
【解決手段】 テトラフルオロホウ酸を用いて不純物としてハロゲン成分を含有する第四級アンモニウム＝テトラフルオロボラートからハロゲン成分を除去することを特徴とする第四級アンモニウム＝テトラフルオロボラートを精製する方法。 （もっと読む）

【解決手段】 不純物含有量が、有機珪素成分≦０．５ｐｐｍ、塩素成分≦２０ｐｐｍ、炭化水素成分≦１，０００ｐｐｍ、Ｃａ≦０．０５ｐｐｍ、Ｆｅ≦０．０５ｐｐｍ、Ｍｇ≦０．０５ｐｐｍ、Ｎａ≦０．０５ｐｐｍ、Ｓｉ（上記有機珪素成分以外のＳｉ分）≦０．０７ｐｐｍ、Ｚｎ≦０．０５ｐｐｍ、Ｓ≦０．０５ｐｐｍである高純度トリメチルアルミニウム。
【効果】 本発明方法によれば、工業的に容易に安価な高純度トリメチルアルミニウムを得ることができ、当該高純度化されたトリメチルアルミニウムをエピタキシャル成長させると、高機能の化合物半導体材料を得ることができる。また、蒸留残液も比較的純度の高いポリオレフィン製造触媒等に利用され、工業的に有用な取り扱いでコスト面をカバーできる。 （もっと読む）