Fターム[4H049VU28]の内容
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Fターム[4H049VU28]に分類される特許
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フルオロ界面活性剤
本発明は、YがCF3O−またはF5S−を表すY末端基の、界面活性化合物における疎水性末端基としての使用に関する。本発明はまた、対応する新規な化合物および前述の化合物の製造方法に関する。 (もっと読む)
新規アセチレン化合物およびその製造方法
【解決手段】 下記一般式で示されるアセチレン化合物。
【化1】
(但し、R1は、ケイ素原子と結合する炭素原子が3級炭素である炭素数4〜10の1価炭化水素基、R2、R3は炭素数1〜4のアルキル基またはRf−Q−で示されるフロロアルキル基を含む1価の基であり、Rfは炭素数3〜100のパーフルオロアルキル基で、途中エーテル結合を含んでいてもよく、分岐していても良い。Qは炭素数2〜10の2価の基であって途中に窒素、酸素、イオウを含んでもよい。nは0または1である。)
【効果】 本発明の新規のアセチレン化合物は、非イオン系界面活性剤、化合物の中間体、ヒドロシリル化の反応制御剤として有用である。
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シロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物及びその製造方法
【解決手段】 下記一般式(1)
(R1)nSi{OSi(CH3)m(OR2)3-m}4-n (1)
(式中、R1は同一又は異なる炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、少なくとも1つは炭素数3〜10の1価炭化水素基、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、mは0,1又は2、nは1、2又は3である。)
で示されるシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物。
【効果】 本発明によれば、シロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物を撥水処理剤として用いると、従来の撥水処理剤に比べ、耐候性、持続性に優れ、より高い撥水性を付与することができる。また、この新規化合物はシロキサンを導入することのできる高分子変性剤やシリル化剤としても有用である。
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含フッ素エーテルおよびその用途
【課題】使用時の劣化の問題を防ぎ、潤滑剤、界面活性剤、撥水撥油剤等の表面改処理等として有用に用いうる化合物を提供する。
【解決手段】式[W−Q1(O)e(CH2)f(CF2)gO(Q2)h−]aY[−O(Q2)qRF]bで表され、式中に−(OCF2O)−構造が存在しない含フッ素エーテル。ただし、aは2〜20の整数、bは0〜18の整数であり、かつ(a+b)は2〜20の整数;Q1は単結合等;Q2は−CF2CF2O−;eは0または1、fは0〜4の整数、gは1〜6の整数、hは0〜200の整数。ただし、eとgが1である場合のfは1〜4の整数;qは3〜200の整数;RFは1価のペルフルオロ化飽和炭化水素基またはエーテル性酸素原子を含む1価のペルフルオロ化飽和単価水素基;Yは(a+b)価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、または、(a+b)価のペルフルオロ化飽和炭化水素基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基;Wは(CH3O)3Si(CH2)3−等の基。
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官能基化ケイ素化合物
官能基化カルボ-ケイ素化合物を、ヒドロシリル化触媒存在下、ヒドロシリル化促進条件下で、少なくとも1つのSi-H官能基を有する加水分解可能ケイ素反応体;ならびに、第三炭素原子に付着していない場合、少なくとも1つの末端オレフィン官能基、および実質上ヒドロシリル化反応を妨げる能力を有することを特徴とする第二メチル官能基または炭素官能基を結合している第三炭素原子、を含む官能基化オレフィン反応体;を接触させる工程を含む製造方法によって、提供する。 (もっと読む)
新規なフロロアルキル基含有アセチレンアルコールおよびその製造方法
【解決手段】 下記一般式(1)で示される含フッ素アセチレンアルコール。
【化1】
(但し、Rfは炭素数3〜25のパーフルオロアルキル基で、途中エーテル結合を含んでいてもよく、分岐していても良い。Qは炭素数1〜6の2価の炭化水素基であり、R1は炭素数1〜4のアルキル基である)
下記一般式(2)で示される含フッ素アセチレンアルコール。
【化2】
(但し、Rf及びR1は前述の通り、R1、R2、R3は炭素数1〜4のアルキル基でありそれぞれ同一でも異なっていても良い。Zは炭素数1〜10の2価の有機基でる)
【効果】 本発明の新規の含フッ素アセチルアルコール化合物は、非イオン系界面活性剤、化合物の中間体、ヒドロシリル化の反応制御剤として有用である。
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含フッ素化合物、撥水性組成物および薄膜
比較的低エネルギーの紫外線を用いて、容易に撥水性親水性パターンを有する薄膜を形成できる含フッ素化合物を提供する。
下式1で表される含フッ素化合物(式1中、R1、R2、R3、R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または1価有機基、そのうちの少なくとも一つはフッ素原子を有する1価有機基。R5は水素原子または1価有機基。R6は1価有機基。Aはヘテロ原子。)を用いて薄膜を形成し、紫外線を照射することにより撥水性親水性パターンを有する薄膜を形成する。
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