【課題】インクジェットプリンティング法に採用でき、機能材料として、非極性あるいは極性の弱い材料を使用でき、吐出時の目詰まりを防ぎ、安定な吐出を達成し、吐出中の内容物の析出、成膜時の相分離を防ぐ組成物、これを用いて形成された、均一、均質な機能膜及びその作製法並びに有機ＥＬ素子等の表示装置及びその製造方法である。
【解決手段】本発明の組成物は、１以上の置換基を有し、該置換基の炭素の総数が３以上のベンゼン誘導体の少なくとも１種を含む溶媒と、機能材料とからなる構成としたものである。本発明の機能膜は、上記組成物を用いて形成したものである。本発明の表示装置は、二つの電極間に、上記組成物を用いて形成した発光材料層を具備するものである。上記表示装置は、有機ＥＬ素子等である。 （もっと読む）

（ａ）少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと、（ｂ）少なくとも１つのフルオロケミカル化合物と、を含む、硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを調製するための組成物であって、前記少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンは、少なくとも１つの化学的反応性部位を含み、
（ｂ）前記少なくとも１つのフルオロケミカル化合物は、
（１）少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、及び
（２）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基、を含む、組成物。
硬化性有機フッ素変性ポリシラザンは、前記組成物の成分を組み合わせる工程、及び前記成分を反応させるか又は反応を誘導する工程によって調製することができる。 （もっと読む）

【課題】難燃性、耐衝撃性に優れ、かつアウトガス、金型汚染性が極めて少なく、さらには透明性にも優れるポリカーボネート樹脂組成物、及びそれを成形してなるポリカーボネート樹脂成形体を提供する。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂１００質量部と、金属塩化合物０．００１〜１質量部と、ポリカルボシラン化合物０．００５〜５質量部とを配合してなるポリカーボネート樹脂組成物。ポリカルボシラン化合物を金属塩化合物と同時に含有することにより、難燃性を著しく向上させることができる。また、ポリカルボシラン化合物を用いることにより、従来用いられているオルガノシロキサン（シリコーン）化合物やポリシラン化合物と比較して、透明性や耐衝撃性、耐熱性に優れ、かつアウトガスや金型汚染性が低いポリカーボネート樹脂組成物が得られる。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネート樹脂の撥水性、撥油性、防曇性、防汚性、汚れ除去性、耐湿性、潤滑性、耐摩耗性、離型性、耐薬品性、耐擦傷性といった表面特性を改質する。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂とポリカルボシラン化合物とを含むポリカーボネート樹脂組成物。ポリカルボシラン化合物を用いることにより、透明性、耐熱性、耐衝撃性等の機械特性といったポリカーボネート樹脂本来の特性を損なうことなく、表面特性を改質することができる。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜や無機膜との密着性に優れ、さらに低露光量であっても耐溶剤性に優れた着色層を形成することができる新規な着色組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、および（Ｃ）重合可能な基を有するポリカルボシランを含有することを特徴とする着色組成物。 （もっと読む）

【課題】光反射材料、特に白色ＬＥＤ用リフレクター材料として有用なシリコーン樹脂硬化物を与える硬化性シリコーン組成物、該硬化物及び該硬化物からなる光反射材料を提供する。
【解決手段】(Ａ)(a)特定のジ（ヒドロシリル）ベンゼン化合物と、(b)付加反応性炭素−炭素二重結合を２個有する多環式炭化水素と、の付加反応生成物であって、付加反応性炭素−炭素二重結合を２個以上有する付加反応生成物、(Ｂ)ＳｉＨを３個以上有する有機ケイ素化合物、(Ｃ)ヒドロシリル化反応触媒、並びに(Ｄ)酸化アルミニウム粉末及び酸化チタン粉末からなる群より選ばれる金属化合物粉末、を含む硬化性シリコーン組成物；上記組成物を成形、硬化させて得られるシリコーン樹脂硬化物；上記硬化物からなる光反射材料。 （もっと読む）

【課題】基体に形成されたトレンチ内にシリコン酸化物を埋め込むために使用するのに好適な、トレンチへの埋め込み性が高く、硬化収縮率が小さく、かつ良好なクラック耐性を有するシリコン酸化物塗膜を与えるトレンチ埋め込み用組成物を提供すること。
【解決手段】水素化ポリシラザン化合物と、シリカ粒子に由来する構造を有する反応物とを含むことを特徴とするトレンチ埋め込み用組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、悪臭がなく、色相、耐湿熱安定性に優れたポリ乳酸組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明は、１００重量部のポリ乳酸（Ａ成分）および０．００１〜１０重量部のシリルカルボジイミド化合物（Ｂ成分）を含有する組成物である。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）を含む繰り返し単位およびエポキシ基を有する繰り返し単位を有する重合体、および（Ｂ）硬化剤を含有することを特徴とする硬化性組成物。


（式（１）中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４の置換されていてもよいアルキル基（ただしエポキシ基を有するものを除く）、または炭素数３〜１０の環状炭化水素基を示し、Ｘ¹はメチレン基または炭素数２〜４の２価の炭化水素基を示す。）
【効果】ガスバリア性、有機基板上への密着性が高く、さらに厚膜の硬化物の形成が可能であり、この硬化物は発光ダイオードの封止材等として好適に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、産業機械、鉄道車両、荷物車両、自動車用摩擦摺動材、電子・電気部品、接着剤、一般成形材料等として要求される耐熱性を満足させるフェノール樹脂硬化物を提供することである。
【解決方法】一般式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子あるいはメチル基である。ｎは１〜３０の整数である。）で表されるフェノール樹脂、
一般式（２）


（式中、Ｒ^２は水素またはフェニル基である。ｍは１〜３０の整数である。）で表される含ケイ素高分子化合物、及び硬化剤を含有するフェノール樹脂組成物を２２０℃以上２５０℃以下の温度で硬化させることにより、重量減少率が低減でき、ガラス転移温度が格段に向上する優れた耐熱性を有するフェノール樹脂硬化物が得られる。 （もっと読む）

【課題】高分子量を有しながらも溝の充填力が優れたポリシラザンおよびその合成方法、ポリシラザンを含む半導体素子製造用組成物およびその半導体素子製造用組成物を用いた半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ポリシラザンは、反応溶媒内に反応物として添加されたジクロロシラン、トリクロロシラン、およびアンモニアを触媒存在下で反応させることによって合成することができ、ポリスチレン換算重量平均分子量が２０００〜３００００であり、下記化学式（１）で示される。
【化１】


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【課題】長波紫外線吸収能に優れ、かつ黄色味および硬化時の着色も少なく、さらに前記吸収能を長期間維持して耐光性に優れる被膜を形成しうるような材料を提供する。
【解決手段】紫外線吸収剤Ａとケイ素化合物とを含む紫外線吸収剤組成物であって、前記紫外線吸収剤Ａが、極大吸収波長が３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下、半値幅が５５ｎｍ以下、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上である、紫外線吸収剤組成物。 （もっと読む）

【課題】安定したプロセス処理が可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板上に、ポリシラザンを溶剤に溶解してなる塗布液を供給する工程、前記半導体基板を回転させて、前記ポリシラザンを含む塗布膜を形成する工程、前記半導体基板の裏面に、リンス液を供給してバックリンスを施し、裏面を洗浄する工程、前記バックリンス後の前記半導体基板を乾燥して前記リンス液を除去する工程、および、前記半導体基板を熱処理して前記塗布膜から前記溶剤を除去し、シリコン酸化物を含む絶縁膜を得る工程を具備する方法である。前記溶剤および前記リンス液は、少なくとも一部にテルペン類を含み、酸価０．０３６ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保存期間中に変性し難い膜形成用組成物、および当該組成物から得られるシリカ系膜を提供する。
【解決手段】膜形成用組成物は、ケイ素原子と炭素原子とが交互に連続してなる主鎖を有し、かつ、下記一般式（１）で表される構造単位、および（１）式のＨがＣＨ_３およびＯＨおよびＯＲ（Ｒは１価の炭化水素基を示す）に置換わった構造単位をそれぞれ含むポリカルボシランと、下記一般式（５）で表される化合物群から選ばれた少なくとも１つの有機溶剤と、を含む。


・・・・・（１）Ｒ¹Ｏ（ＣＨＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_aＲ^２ ・・・・・（５） （もっと読む）

【課題】高硬度で、透明性、耐クラック性、耐熱性に優れた硬化物を与える硬化性シリコーン材料、光学素子等の光学デバイス用封止材料、その他の半導体素子等の電子デバイス用封止材料、電気絶縁性コーティング材料として有用な硬化性有機ケイ素組成物およびその硬化物を提供する。
【解決手段】(A)(a)ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個有する有機ケイ素化合物と、(b)ヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に２個有する多環式炭化水素化合物との付加反応生成物であって、かつ、ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物、(B) ケイ素原子に結合したアルケニル基を１分子中に２個以上有するシロキサン系化合物、および(C) ヒドロシリル化反応触媒を含んでなる硬化性有機ケイ素組成物ならびに該組成物を硬化させることにより得られる硬化物。 （もっと読む）

【課題】硬化性に優れており、硬化剤の非存在下であっても単独で硬化可能であり、また、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂の硬化剤としても有用なポリシランを提供する。
【解決手段】ポリシランを、式（１ａ）で表される構造単位、及び式（１ｂ）で表される構造単位で構成する。


（式中、Ｒ^１ａは置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｒ^１ｂは置換基を有していてもよいアルキル基を示す。）
前記式（１ａ）において、Ｒ^１ａがフェニル基であり、式（１ｂ）において、Ｒ^１ｂがメチル基であってもよい。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐摩耗性、耐食性に優れ、かつ紫外線吸収能などの機能を有する硬化性組成物の提供。
【解決手段】分子内に少なくともＳｉ−Ｈ結合またはＮ−Ｈ結合を有する鎖状、環状もしくは架橋構造を有し、分子量が数平均分子量として１００〜５０，０００を有するポリシラザンに光開始剤およびラジカル反応性官能基を有する機能性添加剤（紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、染料、帯電防止剤、撥水剤）の１種以上を添加する。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置製造のリソグラフィ−工程においてフォトレジストの下層に使用される下層膜を形成するためのリソグラフィ−用下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 ケイ素含有ポリマー（ａ）、及び多核フェノール（ｂ）を含む半導体装置製造のリソグラフィー工程に用いるレジスト下層膜形成組成物。ケイ素含有ポリマー（ａ）が、ポリシロキサン（ａ１）、ポリシラン（ａ２）、ポリカルボシラン（ａ３）、又はそれらの組み合わせである。多核フェノール（ｂ）が、分子内に２乃至３０個のフェノール性水酸基を有する化合物である。多核フェノール（ｂ）が、分子内に２乃至１０個のフェノール基を有する化合物である。 （もっと読む）

【課題】 良好な特性を有するシリカ系絶縁膜やＬｏｗ−ｋ膜などの形成に適するポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法を提供する。
【解決手段】 ポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法は、外気から遮蔽され、且つアミン、塩基性物質、揮発性有機化合物、酸性物質を除去された空気を主たる空気の供給源とする第１空間内で、少なくともポリシラザンの合成およびポリシラザン溶液の調合を含むポリシラザンまたはポリシラザン溶液を取り扱う工程を含む。 （もっと読む）

【課題】従来のナノシリコン材料の応用面の限界を克服し、シリコンの薄膜形成を可能にした、形状異方性の薄片粒子（シリコンナノシート）とその製造方法を提供するものである。
【解決手段】二ケイ化カルシウムを−３０℃以下に冷却した濃塩酸水溶液と反応させて、組成式（ＳｉＨ）_ｎで示される層状ポリシラン粉末を生成させ、得られた層状ポリシラン粉末と末端に炭素―炭素二重結合または炭素−炭素三重結合を有する不飽和有機化合物とをヒドロシリル化反応触媒を用いて反応させ、層状ポリシランのＨ基を有機基に置き換えることにより、シリコンナノシートを得る。 （もっと読む）