導電性ポリマー組成物を提供する。本発明の組成物は、酸素含有量が飽和レベルの１０％未満である水性液体媒体中に分散される。本発明の組成物は、フッ素化酸ポリマーをドープした導電性ポリマー、フッ素化酸ポリマーを混合した導電性ポリマー、またはそれらの混合物であってよい。本発明の導電性ポリマー組成物は、３０日間での導電率の変化が１０％未満である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および耐溶媒性に優れた光学フィルムを形成し得る組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の光学フィルム用組成物は、光架橋型芳香族化合物とポリシラザンとを含む。好ましくは、光架橋型芳香族化合物／ポリシラザンの配合比は１０／９０〜９０／１０であり、光架橋型芳香族化合物は水酸基を１個以上有する光架橋型芳香族化合物である。 （もっと読む）

【課題】高い誘電常数及び高い破壊電圧並びに良好な機械的強度及び加工性を有する新しいポリマー複合材料を提供する。
【解決手段】熱可塑性ポリマー、熱硬化性ポリマー、及びそれらのブレンド物から選ばれるポリマーに、チタン酸ジルコニム鉛、チタン酸ジルコニウムランタン鉛、ニオブ酸スカンジウム鉛、タンタル酸スカンジウム鉛、チタン酸ニオブスカンジウム鉛、チタン酸ニオブルテチウム鉛などのセラミック反強誘電性粒子とを含んでなる組成物で、該組成物をバイアス電界に暴露して組成物の誘電定数を変化させる、また、該組成物に電界を印加してセラミック反強誘電性粒子を再配向させる。 （もっと読む）

共重合体を含むシリコン組成物を提供する。共重合体は、一般式：Ｈ−［ＳｉＨ_２ＣＨ_２］_ｘｎ［Ｓｉ（Ｒ_１）ＨＣＨ_２］_ｙｎ［ＳｉＨ（Ｒ_２）ＣＨ_２］_ｚｎ−Ｈで示され、式中、Ｒ_１は、メチル、フェニル、メトキシ、エトキシまたはブトキシ、Ｒ_２は、アリル、プロパギルまたはエチニル、そしてｘ，ｙおよびｚが０でないときｘ＋ｙ＋ｚ＝１である。前述の共重合体を使用した炭化ケイ素系材料と、それによって生成された生成物の生成方法も提供する。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性および耐溶媒性に優れた光学フィルムを形成し得る組成物を提供すること。
【解決手段】 本発明の光学フィルム用組成物は、光異性化芳香族化合物とポリシラザンとを含む。好ましくは、光異性化芳香族化合物／ポリシラザンの配合比は１０／９０〜９０／１０であり、光異性化芳香族化合物は水酸基を１個以上有する光異性化芳香族化合物である。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜としての使用に適した、均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される化合物、その加水分解物または、それらの重合物を含む膜形成用組成物、該組成物を用いて形成した絶縁膜、および、その製造方法。
【化１】


一般式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、各々独立に、水素原子または置換基であり、Ｘ¹〜Ｘ⁴の少なくとも２つは加水分解性基である。Ｑは一般式（Ｉ）中に記載されたＳｉ−Ｃ−Ｓｉとともに環員数４〜５の環を形成するのに必要な２価の原子または基を表す。 （もっと読む）

成形品に使用した場合、改善された表面抵抗率および／または衝撃強さが得られる導電性長繊維複合材である。この複合材は、熱可塑性樹脂、炭素長繊維、およびガラス長繊維を含み、前記炭素長繊維および前記ガラス長繊維が、約２ｍｍを超えるかまたはそれと等しい長さを有し、前記導電性長繊維複合材が、製品に成形した場合、約１０⁸Ω／ｃｍ²未満またはそれと等しい表面抵抗率、および約１０ｋＪ／ｍ²を超えるかまたはそれと等しいノッチ付アイゾッド衝撃強さを示す。 （もっと読む）

本発明は、比誘電率３．５以下のリン含有シリカ質材料を提供することを目的とする。本発明によるリン含有シラザン組成物は、有機溶媒中にポリアルキルシラザン及び少なくとも１種のリン化合物を含むことを特徴とするものである。該組成物を基板上に塗布して得られた膜を、温度５０〜３００℃で予備焼成し、次いで温度３００〜７００℃の不活性雰囲気中で焼成することにより、リン含有シリカ質膜が得られる。本発明によるリン化合物は、５価のリン酸エステル又はホスファゼン化合物であることが好適である。
（もっと読む）

【課題】耐エッチング特性、短波長光に対する反射防止能（短波長光の吸収能）、低温硬化性を改善した中間層形成用組成物を提供する。
【解決手段】中間層形成用組成物を、
下記一般式（1）


（式中、Ｒ₁、Ｒ₂の少なくとも一方が架橋性基であり、ｍおよびｎはそれぞれ０〜２０の整数であり、ｌは繰り返し単位数を表す整数である。）で表される繰り返し単位を有するシリルフェニレン系ポリマー（Ａ）と、溶剤（Ｃ）と、を含有させて構成する。 （もっと読む）

【課題】 基板と金属微粒子（特に金属ナノ粒子）との密着性を向上できる組成物を提供する。
【解決手段】 ポリシラン化合物と、還元により前記金属微粒子を生成可能な金属化合物（例えば、貴金属化合物）と、無機微粒子（シリカなど）とで前記組成物を構成する。前記ポリシラン化合物は、ポリシランと、金属化合物及び／又は金属微粒子に対する親和性を有するユニットを含むビニル単量体との共重合体であってもよい。このような組成物を基板に塗布し、活性エネルギー線を作用させてポリシラン化合物を分解させることにより、金属微粒子を生成できる。このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 （もっと読む）

本明細書に開示されるものは、約１５０℃以上のガラス転位温度を有する熱可塑性ポリマー、および導電性フィラーを含む熱可塑性物品であって、約２４５℃以上の温度に約２４時間以上の間アニールされた場合、パーセントで表される、約３ミリメートル／１００平方ミリメートル以下の焼結ひずみを生じ、且つ、約１０¹²オームセンチメートル以下の体積抵抗率および約１０¹⁰オーム／平方以下の表面抵抗率を有する物品である。 （もっと読む）

【課題】分散性の高い微粒子を混合することで光線透過率を高くすることができる熱可塑性複合材料、光学素子及び熱可塑性複合材料の製造方法とする。
【解決手段】熱可塑性複合材料において、メタノール滴定試験による疎水化度が５０％以上であり、粒子径が１ｎｍ以上３０ｎｍ以下である微粒子をシクロオレフィン系ポリマーに混合して得られるものとする。 （もっと読む）

単一光子反応性組成物または多光子反応性組成物は、液体ポリシラザン前駆体と、多官能性アクリレート添加剤と、単一光子光硬化性組成物または多光子光硬化性組成物とを含む。本発明は、独立して用いることができるか、または他のシステムに統合することができるミクロ燃焼器、ミクロ熱交換器、センサーおよびアクチュエータシステム、ミクロ流体素子およびミクロオプティックスシステムなどのデバイスを含む、例えば、耐熱性材料としてセラミック系微細構造体を提供するために用いることが可能である。 （もっと読む）

多光子反応性組成物は、エチレン性不飽和液体ポリシラザン前駆物質、多官能性チオール添加剤、ポリシラザンと異なる多エチレン性不飽和添加剤、および多光子光硬化性組成物を含む。本発明を用いて、マイクロ燃焼器、マイクロ熱交換器、センサーおよびアクチュエーターシステム、マイクロ流体デバイス、および単独で使用することができるか、または他のシステムに組み込むことができるマイクロ光学素子システムなどのデバイスを含む、例えば耐熱性材料としてのセラミックベースの微細構造を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】表面の疎水性／疎油性仕上げのための高性能なコーティング原料を提供する。
【解決手段】新規フルオロシラン縮合生成物、それらの製造方法および表面改質のための使用方法。 R_F-CH₂-CH₂-SiX₃ (A)で表され、そしてこの式の中で、 R_Fが完全にまたは部分的にフッ素化されたアルキルラジカルであり、 XがClまたはO-C_nH_2n+1であり、そして nが1から20までの整数である、含フッ素（fluorous）シラン (A) を、 式 (B) 、 R(OH)_m(NH₂)_p (B)で表され、そしてこの式の中で、 RがC-およびH-含有有機ラジカルであり、mおよびpが 条件a) m > 2かつp = 0、または 条件b) m > 1かつp > 1、のどちらか一方の条件に付される1種または2種以上のアルコールと反応させることによって製造することができる化合物。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング／アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 （Ａ）ケイ素原子と炭素原子とが交互に連続してなる主鎖を有するポリカルボシラン化合物と、（Ｂ）有機溶媒とを含む表面疎水化用組成物。 （もっと読む）

【課題】 誘電特性および耐熱性に優れた絶縁膜を形成可能な絶縁膜用組成物を提供する。
【解決手段】 絶縁膜用組成物を、ポリシランおよびポリシラザンで構成する。ポリシランとポリシラザンとの割合（重量比）は、ポリシラン／ポリシラザン＝５／９５〜９５／５程度であってもよい。前記ポリシランは、ポリアルキルアリールシラン（特にポリＣ_1-6アルキルＣ_6-20アリールシラン）で構成してもよい。このような組成物で形成された絶縁膜は、誘電特性に優れ、周波数１ＭＨｚで測定したときの比誘電率は、例えば、３．１以下であってもよい。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのエチレン系不飽和基及び少なくとも１つのＳｉ−Ｎ結合を有する少なくとも１つの第一モノマーと、少なくとも１つのチオール官能基を有する少なくとも１つの第二モノマーとを含有する組成物を提供する。本発明は、セラミック材料の形成方法及び三次元セラミックの形成方法も提供する。 （もっと読む）

【解決手段】 重量平均分子量が３０，０００以上である下記一般式（１）で表される高分子化合物、
【化１】


（但し、ｎは１以上の整数、Ｒｆは二価のパーフルオロアルキレン基又はパーフルオロオキシアルキレン基、Ｑは二価の有機基、Ｚは一価の有機基を示す。）
側鎖にトリフルオロプロピル基を含有するジヒドロキシポリシロキサンで疎水化処理された疎水性シリカ粉末、
パーオキサイド架橋剤、
トリフルオロプロピル基を含有せず、分子中にケイ素原子を含有する処理剤で疎水化処理された疎水性シリカ粉末、及び／又はポリジメチルシロキサンを含有してなる架橋性フッ素ゴム組成物。
【効果】 フィラー配合量が少なくてもロール作業性が良好であり、低硬度の硬化物を得ることができる。また練り後の粘度変化も少ないことから、成型品を量産するには効率がよく、複雑な形状の成型品も安定に製造でき、量産性に優れるため工業的な利用価値が大きい。 （もっと読む）

【課題】 シリコンウェハー、ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ或いはレンズなどの基体上に、透明であって、しかも、低反射率で且つ低誘電率であるとともに、械的強度や基板に対する密着性に優れた薄膜を形成するための膜形成用組成物及び膜の形成方法に関する。
【解決手段】 粒子表面に存在するシラノール基が、疎水性基を有する表面改質剤で処理されたシリカ粒子と、ポリシラン化合物とを含有することを特徴とする膜形成用組成物とする。また、この膜形成用組成物を、基体上に塗布した後に、熱処理及び／又は光処理することを特徴とする膜形成方法とする。 （もっと読む）