【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜形成用組成物等の塗膜形成用組成物に好適に用いられる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明は、少なくとも、酸によって分解してアルカリ現像液に可溶性になる構造を有する繰り返し単位（Ａ）と、半導体基板に対する密着性を高めるための極性基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを有する半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法であり、該繰り返し単位を与えるエチレン性二重結合を有する２種類以上のモノマーを含む溶液を、加熱した溶媒中に滴下することによりラジカル重合させて半導体リソグラフィー用共重合体を製造するに際し、滴下する前のモノマーを含む溶液中に重合抑制成分として、重合禁止剤又は酸素を共存させ、この溶液を加熱した溶媒中に滴下してラジカル重合させる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法に関する。
【選択図面】なし （もっと読む）

【課題】微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物および酸解離性基含有重合体、この共重合体の製造に連鎖移動剤として好適に用いることができるピラゾール誘導体を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるピラゾール誘導体およびこの誘導体を連鎖移動剤として用いた重合により得られる酸解離性基含有重合体およびこの誘導体を含む感放射線性樹脂組成物を提供する。
【化１】


〔式（１）において、Ｒ、Ｒ³は置換若しくは非置換の、アルキル基、脂環族基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロアリール基を示し、ｎは０〜３の整数である。Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、若しくは置換若しくは非置換の、アルキル基又は脂環族基を示す。また、Ｒ¹とＲ²はそれぞれ互いに結合して１つ以上の環を形成してもよい。〕 （もっと読む）

【課題】微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物および酸解離性基含有重合体、この共重合体の製造に連鎖移動剤として好適に用いることができるピラゾール誘導体を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるピラゾール誘導体およびこの誘導体を連鎖移動剤として用いた重合により得られる酸解離性基含有重合体およびこの誘導体を含む感放射線性樹脂組成物を提供する。
【化１】


〔式（１）において、Ｒ、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基、脂環族基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示し、ｎは０〜３の整数である。また、Ｒ²とＲ³はそれぞれ互いに結合して１つ以上の環を形成してもよい。Ｒ¹は、水素原子、或いは置換若しくは非置換の、アルキル基又は脂環族基を示す。〕 （もっと読む）

重合可能な化合物を、精製、貯蔵及び／又は輸送の際に、重合に対して安定化させるために、ラジカルスカベンジャーは、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）、ジエチレントリアミンペンタ酢酸（ＤＴＰＡ）、トランス‐１，２‐シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸（ＣＹＤＴＡ）及びそのアルカリ金属‐及びアルカリ土類金属塩から選択されないことを条件として、少なくとも２個のグリシン単位を有する少なくとも１種のラジカルスカベンジャーを使用する方法。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの重合段階が少なくとも１つの反応押出し機内で行われる、アクリルモノマ−を重合調整剤の存在下にポリアクリレートに連続重合する方法に関する。 （もっと読む）