本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性アクリルポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性ポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

本発明は、主成分として式ＣＨ_２＝ＣＣＨ_３ＣＯＯ−Ｘ−Ｏ−ＣＯＣＣＨ_３＝ＣＨ_２［式中、Ｘは二官能性基を表す］のジメタクリラートとメルカプタンとから構成されたポリマーネットワークに関する。このジメタクリラート／調節剤−ネットワークは、その特性が、極めて短いポリメタクリラートブロックに基づき、主に基Ｘの特性により決定される材料である。基Ｘの種類に応じて、これは極めて柔軟で、フレキシブルか又は高硬質の、強靱の、耐溶剤性のネットワークである。 （もっと読む）

本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性コポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性コポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

【課題】ブロックコポリマーの制御された合成のための組成物及び方法の提供
【解決手段】本発明は、ａ）少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマー及びｂ）少なくとも１種の高分子量のヒドロキシルアミン、好ましくは長鎖アルキル置換されたヒドロキシルアミンを含む重合性組成物に関する。本発明の他の局面は、エチレン性不飽和モノマーを重合するための方法、及び制御された重合のための高分子量ヒドロキシルアミンの使用である。 （もっと読む）

本発明はビニル系ポリ（アルキレンオキシド−）化合物（Ａ）とエチレン系不飽和モノマー化合物（Ｂ）とをラジカル共重合によりＣＣＴ重合法に従って製造することにより得られたランダム櫛形ポリマーに関する。この櫛形ポリマーは、同じ配合量で、従来の櫛形ポリマーをベースとする従来の流動剤を越える改善された減水能を有するので、水硬結合剤のために好適である。更に、建築材料混合物はこの櫛形ポリマーを添加することにより、減少した粘着性と塑性粘度を有しており、このことはコンクリートのような建築材料のコンシステンシーを強く改善する。更に、本発明による流動剤を使用した建築材料混合物は、従来の流動剤に比べて同じスランプで、高いスランプフローを示す。この建築材料混合物は同じ水／セメント−比において、従来のコンクリートに比較して上昇した剪断減粘性挙動を示すが、凝離の傾向は示さない。 （もっと読む）

本発明は、リビングフリーラジカル重合技法によるフォトレジストポリマーの調製に関する。立体的にかさ高いエステルモノマーは、重合成分として利用される。連鎖移動剤の使用は重合処理条件に含まれる。ヘテロ原子を含むポリマー末端基の開裂について述べる。本発明のフォトレジスト組成物は、光酸発生剤と、式［Ａ］_ｘ［Ｂ］_ｙ［Ｃ］_ｚ（式中、Ａ、ＢおよびＣはそれぞれ個別に以下の構造の１つであり、式中、Ｂ≠Ｃという条件で、ｘは両方の数値を含めて約０〜約２００であり、ｙは両方の数値を含めて約１〜約２００、ｚは両方の数値を含めて約１〜約２００である）を含むポリマー樹脂を含む。
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本発明は、少なくとも１つの重合段階が少なくとも１つの反応押出し機内で行われる、アクリルモノマ−を重合調整剤の存在下にポリアクリレートに連続重合する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 ニトロキサイド化合物存在下において、分子量、および分子量分布の制御が困難とされていたラジカル重合性単量体の重合を制御し、リビングラジカル重合を利用した新規材料開発の範囲を著しく広げる。
【解決手段】 メタクリル酸エステル単位と、スチレン誘導体単位またはアクリル酸エステル単位とを含む共重合体を重合する際に、一般式（３）〜（６）で示される化合物の少なくとも１種以上の存在下、メタクリル酸エステルを含む重合系に対して、少なくとも１種以上のスチレン誘導体またはアクリル酸エステルを分割して加えて、アルコキシアミン基を有する共重合体を製造する。 （もっと読む）