【課題】光リソグラフィを中心としたナノファブリケーション、特に電子線、ＥＵＶリソグラフィに好適な、密着性、感度、及び表面平滑性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーを得ること、及び、当該ハイパーブランチポリマーをベースポリマーとして含み、超ＬＳＩ等の半導体装置製造用の微細パターンを形成することが可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】特定の式で表わされるポリマーをコア部と特定の式で表わされるモノマーから誘導される繰り返し単位の少なくとも１種を含有するシェル部からなる事を特徴とするコアシェル型ハイパーブランチポリマー。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィーを中心としたナノファブリケションのためのポリマー素材として利用可能な、表面平滑性及びアルカリ可溶性を向上させたハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのリビングラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成する際に、テルル基を有するビニルモノマーと下記式（１）であらわされるテルル化合物とアゾ系重合開始剤とを用いてリビングラジカル重合をおこなうようにした。
Ｒ（Ｔｅ）₂ ・・・（１）
ただし、上記式（１）の中のＲは、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基またはフェニル基をあらわす。 （もっと読む）

【課題】反応性を低下させることなく金属触媒の量を低減し、高い分岐度を有するハイパーブランチポリマーを簡便に合成すること。
【解決手段】ハイパーブランチポリマーの合成に際して、第１の金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりコア部を製造する第１の工程と、第２の金属触媒存在下、第１の工程で得られたコア部に酸分解性基を導入することによりシェル部を形成する第２の工程と、第２の工程において形成されたハイパーブランチポリマーにおけるシェルを構成する酸分解性基の一部を、酸触媒を用いて分解して酸基を形成する第３の工程と、を含み、第１および第２の工程においては、第１または第２の金属触媒とともに還元剤を添加するようにした。 （もっと読む）

【課題】合成に際してのコアシェル型ハイパーブランチポリマー分子間における架橋に起因するゲル化を防止して、工業スケールでの合成に際してのプロセスの安定化を図ることができるコアシェル型ハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのリビングラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成するコアシェル型ハイパーブランチポリマーの合成方法であって、モノマーおよびラジカル捕捉剤が存在する反応系において前記リビングラジカル重合をおこない、リビングラジカル重合によって合成された重合物をコア部とし、当該コア部の末端に酸分解性基および酸基を含むシェル部を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】高度に制御された構造を有するハイパーブランチポリマーを、安定した収量を確保しつつ、簡易に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下におけるモノマーのリビングラジカル重合を経てハイパーブランチコアポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって合成された重合物が存在する反応系から金属触媒を除去し、金属触媒が除去された反応系から微量金属成分を除去してから、微量金属成分が除去された反応系における重合物と前記モノマーとを分離するようにした。 （もっと読む）

【課題】 本発明においては、星形重合体を製造する方法に関し、改善された方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合をおこなってから、その重合終点付近で重合性の炭素―炭素二重結合を２つ以上有する化合物（イ）を添加する重合体の製造プロセスにおいて、遷移金属錯体である反応触媒（ロ）を開始剤に対して合計０．５モル当量以上、好ましくは１モル当量以上用いることを特徴とする星形ビニル系重合体の製造方法である。さらに、触媒の追加による方法も示される。 （もっと読む）

【課題】ポリマーの製造過程でポリマー中に含まれ得る酸触媒を低減した、シェル部に酸分解性基を有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーの簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、（A）シェル部に酸分解性基を有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーを提供する工程；
(B）有機溶媒中で該ハイパーブランチポリマーを酸触媒に接触させ、酸分解性基の一部を酸基に変換し、酸触媒を含有する、シェル部に酸基と酸分解性基とを有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーを得る工程；
(C)得られたハイパーブランチポリマーを有機溶媒に接触させ、酸触媒を含まないコアシェル型ハイパーブランチポリマーを得る工程;
を含む、酸触媒を含まないコアシェル型ハイパーブランチポリマーの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】シェル部に酸分解性基と酸基とを含有する、金属量を低減させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーの簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】（A）金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりコア部を製造し、得られたコア部に酸分解性基を導入することによりシェル部を形成し、ハイパーブランチポリマーを得る工程；
（B）該シェル部に酸分解性基を有するハイパーブランチポリマーを、純水を用いて洗浄し、金属含有量が100ppb以下の該ハイパーブランチポリマーを得る工程；及び
（C）次いで、酸触媒により酸分解性基の一部を分解して酸基を形成する工程；
を含む、シェル部に酸基と酸分解性基とを有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーの製造方法。 （もっと読む）

本発明は、分散性炭素粒子および分散性炭素粒子の調製方法を与える。ある態様において、本発明の方法は、炭素粒子からモノマーを重合することを含み、該炭素粒子は、１つまたは２つ以上の移動可能な原子または基を含む１つまたは２つ以上の結合した基を含む。モノマーの少なくとも一部分は、イオン性官能基に転化可能な少なくとも１つの反応性またはイオン化可能な官能基を含む。イオン性官能基は、水または水溶液中にカーボンブラック粒子の分散度等の所望の媒体中の炭素粒子の分散度を高める。本発明の方法は、反応性またはイオン化可能な官能基の少なくとも一部分をイオン性官能基に転化することも含む。イオン性基は、第四級アンモニウム基、カルボン酸基、ホスホニウム基、スルホニウム基、ヨードニウム基またはそれらの塩であってもよい。 （もっと読む）

【課題】官能基がコントロールされたラジカル重合を可能にする、官能基化ジエンゴムを利用して増加した速度でゴム変性ポリマーの製造においてゴム粒子サイズ、分布及び形態のコントロールを達成する溶液の提供。
【解決手段】官能基化ゴムを利用してゴムの存在下ビニル芳香族モノマーを重合することからなるビニル芳香族モノマーからゴム変性ポリマーを製造する塊状重合／溶液重合方法であって、ゴムが、グラフトされたゴム粒子が形成されそして重合したビニル芳香族モノマーからなるマトリックス内に分散するようにａ）５０センチポイズ（ｃｐｓ）より低い溶液粘度、及びｂ）コントロールされたラジカル重合を可能にする１ゴム分子あたり少なくとも１つの官能基を有する官能基化ジエンゴムからなる塊状重合／溶液重合方法。 （もっと読む）

【課題】着色粒子の表面に高分子鎖をグラフト化する従来の電気泳動粒子は、グラフト化した高分子鎖の厚みにバラツキがあり、電気泳動粒子の分散性や帯電性が不安定となる。
【解決手段】本発明によれば、着色粒子表面に分散性と帯電性を付与する高分子鎖を２種類の異なるリビングラジカル重合開始基からそれぞれリビングラジカル重合によって精密に形成することから、従来の電気泳動粒子より分散性と帯電性に優れた電気泳動粒子、及びその製造方法を提供することができる。 （もっと読む）