【課題】簡単な構造であるにもかかわらず、過酷な環境下での液密性および気密性を十分に保持し得る時計、およびかかる時計を効率よく低コストで製造可能な時計の製造方法を提供すること。
【解決手段】腕時計１は、密閉構造を有する外装部２と、外装部２の内部に収納され、図示しない時計用針を有するムーブメント３とを備えている。このうち、外装部２は、ガラス板２１とベゼル２２と胴部２３と裏蓋２５とを有しており、各部品の接続部は、オルガノシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜で構成された接合膜１１、１２、１３で接続されている。これにより、密閉構造の気密性が向上するとともに、接続部のパッキンが不要になるため、腕時計１の設計自由度が高くなる。また、ガラス板２１の下面にも上記プラズマ重合膜で構成された被膜１４が設けられている。被膜１４は吸湿性を有しているので、ガラス板２１の防曇効果が得られる。 （もっと読む）

具体的にはプロピレンではない、炭素含有ガスのプラズマ重合によって高度架橋ポリプロピレン材料を製造する方法が開示され、高度架橋ポリプロピレン材料は、低い比誘電率、高い熱安定性、及び強化された機械的特性を示す。前記方法及び材料は、マイクロチップ製造における層間誘電体堆積の用途に適しているが、これに限定されない。 （もっと読む）

【解決手段】Ｃ_p−Ｏ−Ｃ_q（但し、ｐ、ｑは炭素数を表わし、２≦ｐ≦６、２≦ｑ≦６であり、各炭素鎖には酸素原子と共役する不飽和結合を含まない）結合を含有する炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状の酸素含有炭化水素鎖で結合された２個以上のケイ素原子を含有し、かつ該２個以上のケイ素原子はいずれも１個以上の水素原子又は炭素数１〜４のアルコキシ基を有するプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜形成用有機シラン化合物。
【効果】従来、疎水性を向上させようとした場合には成膜速度に犠牲を払ってきたが、本発明のプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜形成用有機シラン化合物によれば、膜の疎水性と誘電率特性を確保した上で、成膜速度の低下を抑制することができる。
また、本発明のプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜の成膜方法を多層配線絶縁膜の成長方法として利用することにより、配線信号遅延の少ない半導体集積回路を安定して製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、二酸化炭素を有用な有機製品に変換するプラズマ法を提供する。
【解決手段】本方法において、二酸化炭素及びカウンターパート分子は反応チャンバ内で混合されて、プラズマ励起を用いて化学反応を引き起こす。入力パワーの強度及びカウンターパートの分子構造に応じて、最終的な製品は、ポリマー、オリゴマーまたは低分子量の小分子になり得る。二酸化炭素の変換効率及び結果物の製品の化学構造は、カウンターパート分子の選択に強く依存する。このプラズマ技術を通して、二酸化炭素は、プラスチックや燃料等の有用な物質に変換される。本方法は、地球温暖化だけではなく、新規物質及びエネルギーを生成するためにも用いられる。 （もっと読む）

【課題】 フッ素化層を基板上に付着するための方法を提供する。
【解決手段】 この方法は、フッ素化化合物とキャリヤーガスを含むガス状混合物の０．８〜１．２ｂａｒの圧力で大気低温プラズマの放電または後放電のための領域中に注入することを含む。本発明は、フッ素化化合物が１ｂａｒの圧力で２５℃を越える沸点を持つことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各種の高分子フィルムに対して、優れた性能を有する機能性皮膜を形成することが可能な新規な高分子複合フィルムの製造方法、及び優れた機能性皮膜を有する高分子複合フィルムを提供する。
【解決手段】気体状の有機金属化合物の存在下に、相互に対向状に配置した一対の電極にパルス状の交番電圧を印加して発生させたプラズマを、高分子フィルムに接触させて該高分子フィルム上に皮膜を形成することを特徴とする、高分子複合フィルムの製造方法、
プラズマ処理によって形成された皮膜を有する高分子複合フィルム、及び
該高分子複合フィルムからなる包装材料。 （もっと読む）

【課題】 基板上に共役ポリマーを含む被覆を作るための方法を提供する。
【解決手段】 この方法は基板を準備し、共役ポリマー被覆形成物質を大気圧プラズマ放電中にまたはそれからもたらされる反応性ガス流中に導入し、被覆形成物質の導入と同時に、追加の物質を前記プラズマ放電中またはそれからもたらされる反応性ガス流中に導入し、基板を前記プラズマ放電またはそれからもたらされる反応性ガス流に露出し、それにより前記被覆を得ることを含む。 （もっと読む）

本発明は、一方では、コーティングがプラズマ重合プロセスによって提供される開放気泡構造を有する製品の表面にその構造全体にわたってコーティングを提供する方法に関する。上記発泡体は、特定の方法に関して、上記プラズマ重合プロセス用に調製されるべきである。重合は、定性的および均質に、開放気泡および半開放気泡構造中で行われる。他方では、本発明は、ポリマー構造全体にわたって、開放気泡ポリマーの表面の疎水性物質、疎油性物質、難燃性および／またはバリヤコーティングとしての前述の方法の使用方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 半導体集積回路装置における多層配線に用いられる低誘電率の絶縁膜として有用な膜を提供する。
【解決手段】 特定の置換基を有するジアマンタンまたはアダマンタン化合物もしくは該化合物を含む組成物を化学気相蒸着することにより形成された膜。 （もっと読む）

【課題】有機モノマーを反応ガス中に材料ガスとして含ませてプラズマによる重合を行う事により、特性が優れた薄膜のハードマスクを形成する。
【解決手段】容量結合式のプラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法において、ビニル基、アセチレン基で置換されていない沸点約２０℃〜約３５０℃の炭化水素系液体モノマー(C_αH_βX_γ、α，β：５以上の自然数，γ：0を含む整数、X：O、N、またはF) を気化させる工程、該気化したガスを基板が置かれたCVD反応室に導入する工程、及び該ガスをプラズマ重合させることにより該基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する工程、を包含する。 （もっと読む）

【解決課題】 低誘電率と高機械強度を両立する絶縁膜を得ること
【解決手段】 エチル基、ビニル基、エチニル基、プロピル基、アリル基、ブチル基またはフェニル基よりなる群から選ばれる置換基を有する環状シロキサンを含むＣＶＤ用絶縁膜原料組成物及び、該ＣＶＤ用絶縁膜原料組成物を気化または昇華して生成させたガスを、基材を静置した反応容器に導入した後、該ガスをプラズマ化して該基材上に絶縁膜を形成する絶縁膜の形成方法。 （もっと読む）