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Fターム[4J031CG39]の内容

Fターム[4J031CG39]に分類される特許

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【課題】柔らかい側鎖にイオノゲン基を有するためイオノマのH+-伝導性がよいイオノマ及びイオノマ膜を提供する。
【解決手段】非-フッ化又は部分的フッ化の、非-芳香族、部分的-芳香族又は完全芳香族の骨格及びイオノゲン基又はその非-イオン性前躯体を有する非-フッ化又は部分的フッ化側鎖を備える、イオノマ膜、及び前記イオノマ膜。 (もっと読む)


【課題】 釜内の減圧を効率良く行い、短時間でポリマ溶液内から有機溶剤を除去する方法を提供する。
【解決手段】 反応釜中のポリマ溶液を真空設備によって減圧状態にして有機溶剤を除去する方法において、加熱部を備えた反応釜1、蒸発させた有機溶剤を凝縮させるコンデンサ4、有機溶剤を回収するレシーバタンク5、レシーバタンク内の液を抜出すポンプ6、釜内を減圧する真空設備8、及び常圧のタンク7を備え、レシーバタンクに溜まった有機溶剤をレシーバタンク内の液を抜出すポンプ(送液ポンプ)により減圧状態の系内から系外の常圧タンクに移送するポリマ溶液からの有機溶剤除去方法。 (もっと読む)


径方向液体流路脱気装置を使用した、シリコーンヒドロゲルレンズ配合物の脱気方法が開示される。 (もっと読む)


分子層堆積法を用いて有機ポリマー又は有機−無機複合ポリマーの超薄層を基板上に堆積する。この方法は、第1の官能基を有する気相反応物を用いる。この気相反応物は表面に単官能性でのみ反応して、ポリマー鎖に一つの単位を追加する。更に、追加の気相反応物は第1の官能基とは異なる第2の官能基を有するか、又はブロックされ、マスクされ若しくは保護された官能基、又はこのような官能基の前駆体を有する。
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【課題】本発明は尿素−過酸化物複合体のような実質的に非水の有機過酸化水素複合体から放出された過酸化水素蒸気を使用する、医療器具および同様の装置の過酸化水素蒸気滅菌装置および方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明においては、場合によりプラズマを蒸気と共に使用することができる。さらに、実質的に非水の過酸化水素複合体の製造法もまた提供される。これらの複合体は過酸化水素蒸気滅菌器の過酸化物蒸気源として、また自己滅菌包装材料の成分として有用である。 (もっと読む)


【課題】有機モノマーを反応ガス中に材料ガスとして含ませてプラズマによる重合を行う事により、特性が優れた薄膜のハードマスクを形成する。
【解決手段】容量結合式のプラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法において、ビニル基、アセチレン基で置換されていない沸点約20℃〜約350℃の炭化水素系液体モノマー(CαHβXγ、α,β:5以上の自然数,γ:0を含む整数、X:O、N、またはF) を気化させる工程、該気化したガスを基板が置かれたCVD反応室に導入する工程、及び該ガスをプラズマ重合させることにより該基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する工程、を包含する。 (もっと読む)


【課題】 高分子量のポリホスホナート、ポリスルホン、ポリアリーレート、ポリアミド、ポリアリーレンエーテルまたはポリエーテルケトンを、ヒドロキシ−、カルボキシ−、酸無水物−、リン酸−、ホスホン酸−、ホスホナート−、ホスフィノ−、ホスフィナート−、カルボニル−、スルホニル−、スルホナート−、シロキサン−またはアミノ基を持つモノマー化合物それ自体をまたは少なくとも1種類のジフェノール、ジアルコール、ジアミンまたはジカルボナート成分と一緒に溶融縮合することによってバッチ式に製造する方法の提供。
【解決手段】 a) バッチ式に運転される第一反応器(1)においてエステル化およびエステル交換触媒の存在下にエステル化またはエステル交換並びに予備縮合を実施し;b)次いで場合によっては、バッチ式に運転される中間反応器(6)において場合によっては1種類以上の他のモノマー、他の触媒および添加剤の添加下に重縮合を所定の重縮合度または粘度が達成されりまで行いそしてc) 最後に、バッチ式に運転される最終反応器(12)において所望の重縮合度または粘度が達成されるまで縮合を続け、そしてd) 場合によっては、二つより多い官能基を持つ分岐分子をエステル化またはエステル交換の前または間に;場合によっては中間反応器において実施される重縮合の前または間に;または最終反応器で実施される重縮合の前または間に添加し、
その際に反応器中での滞留時間を5分〜15時間の間に順守し、反応器(1)および(6)での温度を180〜300℃にそして反応器(12)での温度を240〜400℃に調整しそして縮合の際に生じる蒸気を吸い取りながら反応器(1)および中間反応器(6)中の圧力を連続的にまたは段階的に2000から100mbarにそして反応器(12)においては100〜0.01mbarにまで下げる。
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