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Fターム[4J033CA46]の内容

Fターム[4J033CA46]に分類される特許

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【課題】可燃性有機ポリマー用臭素化火炎抑制(FR)添加剤の開発
【解決手段】クレゾールノボラック樹脂の2,3−ジブロモプロピルエーテルを臭素化火炎抑制(FR)添加剤として含む可燃性有機ポリマー。 (もっと読む)


【課題】耐熱性と誘電特性を向上させるとともに耐湿信頼性にも優れたシアネート樹脂を含有する熱硬化性組成物、その硬化物、該組成物を用いた電子基板用樹脂組成物、これをマトリックス樹脂として用いた電子回路基板、および新規シアネート樹脂を提供する。
【解決手段】複数のシアナト基含有芳香族骨格(Cy)が、2価の結節基を介して結合した構造を基本骨格とするシアネート樹脂構造を有し、かつ、該シアナト基含芳香核にナフチルメチル基又はアントニルメチル基を有し、かつ、前記シアナト基含有芳香族骨格(Cy)の総数を100とした場合に、前記ナフチルメチル基又はアントラニルメチル基の総数が10〜200となる割合であるシアネート樹脂。 (もっと読む)


【課題】アリルエーテル化フェノール類の二量体を主成分とするノボラック型フェノール樹脂を高収率で得ることができる製造方法、及び該製造方法により得られるアリルエーテル化ノボラック型フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】一般式(I)で表されるアリルーテル化フェノール類を、酸触媒の存在下、アルデヒド類と反応させることによりアリルエーテル化ノボラック型フェノール樹脂の製造方法。


(式中、Rがアルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲンを示すか、またはRおよびフェノールのベンゼン環と一緒になっての縮合環を形成してもよく、R、Rは、独立して、アルキル基、アルケニル基、アリール基、または水素元素を示す。ただし、RはRおよびフェノールのベンゼン環と一緒になっての縮合環を形成してもよい。) (もっと読む)


【課題】良好な耐燃性、耐半田性および連続成形性を有するとともに、低コストで製造できる、半導体封止用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)


で表される構造を含むフェノール樹脂と、エポキシ樹脂と、無機充填剤と、を含む、ことを特徴とする半導体封止用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】優れた難燃性を発現し、より低い誘電正接を実現する硬化性樹脂組成物及びその硬化物、並びにこれらの性能を与える新規フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】フェノール樹脂(A)及びエポキシ樹脂(B)を必須成分とする硬化性樹脂組成物であって、前記フェノール樹脂(A)が、その分子構造中に下記記構造式(1)
【化1】


(式中、Rはそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜4の炭化水素基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表し、aは1〜5の整数を示す。)
で表されるフェニルメチルオキシ基を芳香核上の置換基として有するものである。 (もっと読む)


【課題】金属イオン含有量の低いレゾルシノール誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】レゾルシノール誘導体を、有機溶剤、又は有機溶剤を含む混合溶液中に溶解させて溶解液を得る工程と、得られた溶解液と、有機酸の水溶液とを、少なくとも一回接触させることにより、溶解液の金属イオン含有量を減少させる工程とを備えたレゾルシノール誘導体の製造方法。 (もっと読む)


単層および多層のポジ型画像形成性要素は、ポリ(ビニルフェノール)または特定の酸基を有するフェノール系ポリマーである一次ポリマーバインダーを含むインク受容性外層を含む。このタイプのポリマーバインダーの使用によって、画像形成された要素を低pH(11以下)のアルカリ性現像液中で現像することが可能である。 (もっと読む)


【課題】低屈折率のプラスチック系材料を構成することができるラダーポリマー誘導体およびその製造方法、並びに低屈折率材料の提供。
【解決手段】ラダーポリマー誘導体は、下記一般式(1)で表されることを特徴とする。
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【課題】低ラインエッジラフネス(LER)なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される構造単位を、分子内に2つ以上含む感光性化合物、感光性化合物を有機溶剤に溶解させてなる感光性組成物及び感光性組成物を用いる。
(もっと読む)


【課題】低ラインエッジラフネス(LER)なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される構造単位を、分子内に2つ以上含む感光性化合物、該感光性化合物を有機溶剤に溶解させてなる感光性組成物及び該感光性組成物を用いたレジストパターンの形成方法。


(R1は水素原子またはアルキル基である。R2、R3、R4、R5およびR6のうち少なくとも1つはニトロ基である。R7は置換されていてもよいフェニレン基またはナフチレン基である。) (もっと読む)


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