【課題】インク吐出性および光硬化性に優れるとともに、基板への密着性、耐エッチング性、耐めっき性およびアルカリ剥離性を兼ね備えた硬化膜を形成することができるインクジェット用インクの提供。
【解決手段】式（１）で表される化合物（Ａ）および光重合開始剤（Ｅ）を含むインクジェット用インク。


（式（１）中、Ｒ¹は水素又は炭素数１〜６のアルキルであり、Ｒ²は単結合又は炭素数１〜１００の２価の基であり、Ｒ³は式（２）で表される基。） （もっと読む）

【課題】接着性、微細パターン形成、離型性に優れた感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】基材１１、該基材上に設けられた金属層１４及び該金属層上に設けられたＳｉＯ_２層１５が積層されてなるエッチング層１２、並びに該エッチング層上に設けられ、カチオン硬化性樹脂組成物とラジカル硬化性樹脂組成物とを含むレジスト層１３を具備する感光性樹脂積層体。該カチオン硬化性樹脂組成物は、エポキシ化合物、オキセタン化合物及びビニルエーテル化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種類のカチオン硬化性モノマーと光酸発生剤を含み、該ラジカル硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリレート誘導体であるラジカル硬化性モノマーと光ラジカル発生剤と所定のウレタン（メタ）アクリレート化合物を含み、該ウレタン（メタ）アクリレート化合物の含有量は、該カチオン及び該ラジカル硬化性樹脂組成物の固形分合計１００重量部に対し０．１〜５重量部である。 （もっと読む）

【課題】好適なアルカリ性溶媒で迅速且つ効率的に除去することが可能な、プリントマスクに使用される固形インク組成物、該組成物から形成されるプリントマスク、及び該組成物を使用するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのアルカリ加水分解性基を含む少なくとも１つの化合物と、少なくとも１つのエチレンオキシド基を含む少なくとも１つの化合物とを含む組成物に由来するプリントマスクであって、アルカリ性溶液を用いて約３０秒以内に除去可能である、プリントマスク。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、安定した吐出が可能で、その硬化膜がレジスト用でレジスト液に対する耐性および剥離液（アルカリ性水溶液）に対する剥離性を有する、インクジェット用インクを提供すること。
【解決手段】（ａ）で表わされる単官能（メタ）アクリレート（Ａ）と、（ｂ）で表わされる化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含むインクジェット用インク。
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【課題】
工程数が少ないプリント配線基板加工方法に適した新規なプリント基板用エッチングレジスト組成物を提供することで、またレジスト剥離液の再使用が容易になり、剥離液の廃棄量の削減や、コスト低減に寄与することを目的とする。
【解決手段】
水溶性重合体、塩基を含むエッチングレジスト組成物であって、該水溶性重合体が酸基及びラクタム基を含有する重合体であることを特徴とするエッチングレジスト組成物を提供する。さらに、上記の特定エッチングレジスト組成物用に適した特定の水溶性重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】金属板との密着性、耐エッチング液性、およびアルカリ剥離性に優れた硬化物を与え、かつインクジェットで安定して吐出が可能なインクジェット用インキ組成物を提供する。
【解決手段】活性エネルギー線により重合可能な重合性モノマーを含むエッチングレジスト用インクジェットインキ組成物。前記重合性モノマーは全モノマー中に、一般式（Ｉ）で表される重合性エステル化合物１〜３０質量％と、分子内に２個以上のエチレン性二重結合基を有し、リン酸エステル基を有さない多官能性モノマーであって、前記エチレン性二重結合基量が４×１０^−３〜８×１０^−３ｍｏｌ／ｇである多官能性モノマーを１０〜７５質量％と、分子内に１個のエチレン性二重結合基を有し、リン酸エステル基とカルボキシル基を有さない単官能性モノマーを１０〜７５質量％を含む。前記インキ組成物２５℃における粘度は、３〜５０ｍＰａ・ｓである。
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（ａ）（ｉ）沸点が約５０℃〜約１００℃、（ｉｉ）相対極性が約０．４未満、及び（ｉｉｉ）ポリ（ジメチルシロキサン）の膨潤比が約１．２５未満である溶媒と、（ｂ）１つ以上の溶解した有機硫黄化合物とを含むインク溶液であって、各有機硫黄化合物が１０個以上の炭素原子を有する、インク溶液。この１つ以上の溶解した前記有機硫黄化合物は、少なくとも約３ｍＭの合計濃度で存在し、かつそのインク溶液は、その有機硫黄化合物の固体粒子又はその有機硫黄化合物から誘導された固体粒子を本質的に含まない。 （もっと読む）

【課題】 凸版反転オフセット法により塗布層を形成する際に、基材上で塗布むらやインキのはじきが発生せず、パターン形成に優れる印刷インキ組成物、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品を提供する。
【解決手段】 印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基板上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、該印刷インキ組成物が、（Ａ）有機溶剤に可溶な樹脂及び（Ｂ）有機溶剤を含有してなり、該有機溶剤にイソプロパノ−ル、プロパノールまたはエタノールまたはこれらの混合物がすくなくとも全有機溶剤の６０重量％以上含有する印刷インキ組成物。 （もっと読む）

本発明は、素材上での広がり性が小さくて微細パターンを形成でき、エッチング液に対する耐化学性が強化され、印刷回路基板の銅箔エッチングだけではなく、ステンレス鋼基材の深いエッチングにも使われうる、エッチングレジスト用のインク組成物、これを利用したエッチングレジストパターンの形成方法及び微細溝の形成方法に係り、該組成物は、水及び水溶性高分子または高分子エマルジョンを含む。
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【課題】 レジスト割れに起因した断線不良を抑えることができる印刷インキ用組成物を提供する。
【解決手段】 印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、該印刷インキ組成物が（Ａ）有機溶剤に可溶な樹脂及び（Ｂ）有機溶剤を含有してなり、塗布層形成基材上に印刷インキ組成物の塗布層を形成したのち、溶剤を除去した後の印刷インキ組成物の塗布層のビッカース硬度が２５．０ＭＰａ以下である印刷インキ組成物。 （もっと読む）