【課題】光学材料として用いた場合に透明性を有し、屈折率を調整でき、且つ耐熱性及び複屈折率が良好である共重合体を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表わされる繰り返し単位と、下記式（２）で表わされる繰り返し単位とからなる共重合体であって、前記式（１）で表わされる繰り返し単位と前記式（２）で表わされる繰り返し単位の合計が５以上１００００以下である共重合体。
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【課題】 繊維製品などの基材に対して、それら基材が本来有する吸水性を大幅に損なう事なく、洗濯耐久性を維持しながら、優れた撥油性と防汚性と汚れ脱離性を付与する。
【解決手段】本発明の含フッ素共重合体は、
（ａ）フルオロアルキル基またはフルオロアルケニル基を有する単量体、および
（ｂ）アルキレンオキサイド基を有する単量体、および
（ｃ）アセトアセチル基を有する単量体、および
（ｄ）酸アニオン基を有する単量体
から誘導された繰返単位を必須成分とし、
単量体（ａ）と単量体（ｂ）と単量体（ｃ）と単量体（ｄ）の量がそれぞれ３０〜８０重量部と１０〜６９重量部と０．５〜１０重量部と０．１〜１０重量部である。
本発明の含フッ素共重合体は、汚れ脱離性を有する含フッ素繊維加工剤の活性成分として機能する。 （もっと読む）

【課題】レジスト保護膜用重合体およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられ、ハイドロフルオロカーボン系溶媒およびハイドロフルオロエーテル系溶媒から選ばれる少なくとも１種のハイドロフルオロ系溶媒（Ｓ）によって除去されて用いられるレジスト保護膜用重合体であって、フッ素含有量が４０〜７５質量％である特定の単量体（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位（Ｆ^Ｕ）を含む含フッ素重合体（Ｆ）からなるレジスト保護膜用重合体、および該レジスト保護膜用重合体を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 新規なペルフルオロアルキレンオキシ基が置換されたフェニルエチルシラン化合物を提供する。
【解決手段】化学式１で表示される本発明のペルフルオロアルキレンオキシ基が置換されたフェニルエチルシラン化合物において、上記ペルフルオロアルキレンオキシ基は、熱架橋によって膜（film）を形成する時に必ず必要な作用基であるから、構造式内にペルフルオロアルキレンオキシ基が１つ以上置換されている。すなわち、上記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のうち少なくとも１つ以上がフッ素原子である。
（化学式１）
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【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト用材料およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられる酸の作用によりアルカリ溶解性が増大するレジスト用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含み、デカリンに対する後退角が３０°以上であるレジスト用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、前記レジスト用材料を含むレジスト形成組成物を基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜用のアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含みデカリンに対する後退角が４０°以上であるレジスト保護膜用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、感光性レジストを基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜上に前記レジスト保護膜用材料を含むレジスト保護膜形成組成物を塗布してレジスト膜上にレジスト保護膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】分岐状フッ素置換基を有する新規なスチレン誘導体、それから得られる高いガラス転移温度を持ち、優れた耐熱性を有するとともに、高い撥水・撥油性及び低屈折率を有する重合体及びそれらの製造方法。
【解決手段】下記一般式（１）で表される含フッ素スチレン誘導体化合物、その重合体、及びそれらのフィルム又はレンズ等の光学部材、その他の用途。
Φ（Ｒ^１〜Ｒ^５）−Ｏ−Ｒ^６ ・・・・ （１）
（置換基Ｒ^１〜Ｒ^５のうち少なくとも一つは重合官能性のビニル基あるいは２−プロペニル基、残りは水素あるいはフッ素、塩素、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基のいずれかであり、各々が同一でも異なっていてもよく、Ｒ^６はＣ_３Ｆ_５あるいはＣ_４Ｆ_７、Ｃ_６Ｆ_１１、Ｃ_８Ｆ_１５、Ｃ_９Ｆ_１７のペルフルオロアルケニル基あるいはこれらが混合した置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】精製された含フッ素重合体の製造方法、該含フッ素重合体をペリクル膜に用いたペリクルおよび該ペリクルを用いた露光処理方法を提供する。
【解決手段】構造の一部として下式（Ａ）で表される構造を有するモノマー単位を含む含フッ素重合体（Ａ）を極性を有する官能基を持たない貧溶媒で洗浄する精製された含フッ素重合体の製造方法（ただし、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４およびＸ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜３のポリフルオロアルキル基であり、少なくとも３個がフッ素原子である。）。たとえば、ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ＝ＣＦ_２の環化重合により形成された下式（Ｉ１）で表されるモノマー単位を含む精製された含フッ素重合体の製造方法。該含フッ素重合体の膜からなるペリクル、該ペリクルを用いた露光処理方法。
【化１】
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【課題】高い軟化温度を有するスルホン酸ポリマー、該スルホン酸ポリマーを有効成分とする固体高分子電解質を提供する。
【解決手段】下式（Ａ）で表されるモノマー単位を含む重合体。ただし、Ｒ^Ｆはフッ素原子、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基、炭素数２〜６の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキル基、または−Ｑ^ＦＳＯ_２Ｆを示し、Ｑ^Ｆは炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基または炭素数２〜６の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子を含むペルフルオロアルキレン基を示す。
【化１】
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【課題】含フッ素共重合体の層と非フッ素樹脂の層との接着性に優れる積層体からなる流体搬送ライン用物品の提供。
【解決手段】テトラフルオロエチレン及び／又はクロロトリフルオロエチレンに基づく繰り返し単位（ａ）およびカルボニル基を含有する含フッ素共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／エチレン／（パーフルオロエチル）エチレン／無水イタコン酸共重合体。）の層（Ａ）と非フッ素樹脂の層（Ｂ）とが直接積層されてなる積層体からなり、流体接触面が前記含フッ素共重合体の層（Ａ）の表面からなる流体搬送ライン用物品。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からＰｅｎｇ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ式を用いて算出した臨界定数の換算温度が０．９５以上、換算圧力が０．８０以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式（１）：
Ｒ_f¹・Ｉ_x （１）
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物、および一般式（２）：
ＣＨ₂＝ＣＨ（ＣＦ₂）_nＩ （２）
で示される化合物を共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からＰｅｎｇ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ式を用いて算出した臨界定数の換算温度が０．９５以上、換算圧力が０．８０以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式（１）：
Ｒ_f¹・Ｉ_x （１）
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物と、一般式（２）：
【化１】


で示される化合物および／または、一般式（３）：
ＣＦ₂＝ＣＦ（ＣＸ¹Ｘ²）_p（ＣＸ³Ｘ⁴）_qＩ （３）
で示される化合物とを共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法。 （もっと読む）