【課題】 パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。
【解決手段】 式（２）で表される構成単位を有する重合体であって、式（２）で表される構成単位のうち、式（２−１）で表される構成単位の比率が５０モル％以上であるレジスト用重合体。
【化１】


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ¹ は、酸素原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】 脱保護により副反応を起こさず、短時間で完了し、且つ脱保護後の後処理が簡便なｐ−ヒドロキシスチレン系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ｐ−（１−エトキシエトキシ）スチレン由来の構成単位を含有する重合体をアルコールを９０重量％以上含有する有機溶媒中に溶解または分散し、水と塩酸を用いることにより１−エトキシエトキシ基を選択的に脱保護するｐ−ヒドロキシスチレン由来の構成単位を含有する重合体の製造方法、該製造方法により１−エトキシエトキシ基は、少量の水と塩酸の存在下で反応させることで低温かつ短時間で脱離させることができ、他の構成単位中のエステル骨格を壊すこともない。 （もっと読む）

【課題】オレフィン系樹脂組成物において、剛性と耐衝撃性のバランスがさらに優れた組成物を提供すること。
【解決手段】共役ジエンからなる共役ジエン系重合体又はその水添物、共役ジエンとビニル芳香族炭化水素からなるランダム共重合体又はその水添物、共役ジエンとビニル芳香族炭化水素からなるブロック共重合体又はその水添物から選ばれる少なくとも１種の重合体に官能基含有原子団が少なくとも１個結合している変性重合体とオレフィン系樹脂、無機フィラー、及びオレフィン系エラストマーからなる樹脂組成物において、無機フィラーの全量もしくはその一部が変性重合体中に存在し、しかも変性重合体中における無機フィラーの体積分率が１〜４０％であることを特徴とするオレフィン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】柔軟性に優れ、溶液粘度が低く、粘度の経時安定性に優れ、アルコール系溶剤への溶解性に優れたポリビニルアセタール系樹脂を提供すること。
【解決手段】側鎖に１，２−ジオール成分を含有するポリビニルアルコール系樹脂（Ａ）をアセタール化してなる。 （もっと読む）

【課題】効率的に、粉末状のポリカルボン酸系セメント分散剤を製造する手段を提供する。
【解決手段】単量体の濃度が高い条件下で重合反応を進行させて、溶媒含有量が少ない重合体組成物を得る。具体的には、化学式１で表される単量体と（メタ）アクリル酸（塩）とからなる混合物および溶媒の全質量に対する単量体の濃度が５０〜１００質量％の条件下で、単量体を重合する段階と、形成された重合体を冷却して、固化させる段階と、固化した重合体を粉砕する段階とを含む、粉末状ポリカルボン酸系セメント分散剤の製造方法。


（Ｒ^１：ＨまたはＣＨ_２、Ｒ^２Ｏ：Ｃ_２〜４のオキシアルキレン、Ｒ^３：ＨまたはＣ_１〜５の炭化水素基、ｋは０〜２、ｎは２〜３００） （もっと読む）

【課題】洗濯添加剤としての疎水的に変性されたポリマーの提供
【解決手段】本発明は、少なくとも以下のモノマー成分：
（Ｉ）２０ないし９９．９質量％、好ましくは５０％ないし９９質量％の式（１）
【化１】


に従う少なくとも１種のカチオン性モノマー、及び（ＩＩ）０．１ないし８０質量％の、開始剤の存在下で重合する疎水性不飽和ノニオン性モノマー；所望により、モノマー（Ｉ）及びモノマー（ＩＩ）のいずれとも異なる水溶性モノマー（ＩＩＩ）、及び所望により架橋剤（ＩＶ）から誘導される主鎖を含むポリマー化合物に関する。前記化合物は、洗濯プロセスにおける染料ブリード及び／又は染料転移の問題を克服するために特に有益である。
（もっと読む）

【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも２種の特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂であって、該樹脂中の残存するモノマーの割合が１０質量％以下である樹脂、及び活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、さらにそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐熱変形性、耐熱分解性、機械物性、低吸水性、耐候性、耐光性のバランスに優れた熱可塑性透明樹脂を提供する。該熱可塑性透明樹脂を用いてなる透明性、耐熱変形性、耐熱分解性、機械物性、低吸水性、耐候性、耐光性などのバランスに優れたプラスチック製光学物品を提供する。
【解決手段】 少なくとも１種の（メタ）アクリル酸エステルモノマーと少なくとも１種の芳香族ビニルモノマーとを含むモノマー組成物を重合して得られ、かつ、芳香族ビニルモノマー由来の構成単位（Ｂモル）に対する（メタ）アクリル酸エステルモノマー由来の構成単位（Ａモル）のモル比（Ａ／Ｂ）が１〜４である共重合体の芳香族二重結合の７０％以上を水素化して得られることを特徴とする熱可塑性透明樹脂。該熱可塑性透明樹脂を用いてなる光学物品。
（もっと読む）

【課題】 高温でも安定した分散が可能な、均一な粒子径の架橋ポリビニルアルコール系
樹脂微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 酢酸ビニルと多官能モノマーとからなる酢酸ビニル系共重合体の架橋体微
粒子を水系媒体に懸濁した架橋酢酸ビニル系共重合体樹脂微粒子分散液を調製する工程と
、前記架橋酢酸ビニル系共重合体樹脂微粒子分散液を超臨界状態又は亜臨界状態の流体中
で反応させる工程とを有する架橋ポリビニルアルコール系樹脂微粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
【解決手段】（Ａ）特定のスチレン骨格を有する繰り返し単位と特定の環構造を有する繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
接着若しくはシール要素を含むマイクロカプセルを螺着部材の螺合面や機械部品のフランジ面などに容易に塗布形成できるとともに、形成された被覆層が使用されるまでの間は十分な貯蔵安定性を示し、使用の際には被覆層中のマイクロカプセルから流出した接着若しくはシール要素により、固定や密封が確実に行える放射線硬化型マイクロカプセル含有組成物及びその被覆層の形成方法を提供する。
【解決手段】
（Ａ）分子内に少なくとも１個のラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物（ａ１）と、下記一般式（ａ２）で示される光重合性化合物の混合物１００重量部


（Ｂ）エポキシ樹脂を内包するマイクロカプセル５０〜１５０重量部
（Ｃ）可塑剤２０〜７０重量部
（Ｄ）光ラジカル重合開始剤０．５〜２０重量部
上記（Ａ）〜（Ｄ）を含む放射線硬化型マイクロカプセル含有組成物とした。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー分野における感光性樹脂などの機能性樹脂のモノマーとして有用な新規なアダマンタン誘導体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ−ａ）で表わされる構造を有するアダマンタン誘導体、及び対応するアダマンタン誘導体を原料として上記アダマンタン誘導体を製造する方法である。


（Ｒ¹はＨ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ^2aは、ヘテロ原子を有する、Ｃ（炭素数）1〜30のアルキル基、又はＣ3〜30のシクロアルキル基若しくはＣ６〜30のアリール基を含む炭化水素基、Ｘ¹及びＸ²は、それぞれ独立にＯ又はＳ、ＹはＣ１〜10のアルキル基、ハロゲン原子、ＯＨ、ＳＨ又は２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏ若しくは＝Ｓ。ｋは０〜14の整数、ｍ及びｎは０〜２の整数。） （もっと読む）

【課題】半導体集積回路素子、集積回路製造用マスク等の製造に用いるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さい、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 紫外線領域から近赤外線領域に至るまでの幅広い波長領域で高い透明性を有し、かつ基板への高い密着性及び成膜性、耐熱性、耐溶剤性、誘電特性、機械的安定性、さらには高いエッチング耐性を有したレジスト材料や感光性材料に有用な新規な含フッ素重合性単量体、含フッ素高分子化合物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）
【化１】


で表される含フッ素重合性単量体（式中、Ｒ^１は、水素、炭素数１〜４のフッ素を含有しても良い炭化水素基、フッ素、塩素、シアノ基であり、Ｒ^２は水素、フッ素、ヒドロキシ基、メチル基、又は炭素数１〜１０の分岐、環状構造を有しても良い炭化水素基、またはアルコキシ基であって、一部又は全部にフッ素を含有しても良い。Ｒ^３は、水素又は保護基であって、エーテル構造、エステル構造、フッ素を含んでも良い。）およびこれを用いて得られる高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】 表面のタック性が小さく、ラミネート性等が良好で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐熱性などを発現し、表面硬度と脆性とを両立する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 無水マレイン酸と、水素結合を形成可能な官能基を側鎖に少なくとも有するビニル単量体と、から少なくとも形成された共重合体の無水物基に対して０．１〜１．２当量の１級アミン化合物を反応させて得られる共重合体と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を少なくとも含む感光性組成物、これを用いた感光性フィルム、永久パターン及びその形成方法である。前記水素結合を形成可能な官能基が、ウレタン基、ウレア基、アミド基、スルホンアミド基、イミド基、チオウレタン基、チオウレア基等である態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 遷移金属錯体を触媒としてビニル系化合物を重合させる方法において、高品質のビニル系重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】 重合反応により得られたビニル系重合体混合物に所定の有機酸を添加して、所定の時間撹拌した後、該混合物に混合物のｐＨが６〜８となるように塩基性物質を添加する。 （もっと読む）

本発明は、固相ペプチド合成に有用な、固相結合塩化２−クロロトリチル（２−ＣＴＣ樹脂）の製造用のリサイクル方法に関する。特定的には、クレームされているのは、式Ｉ（式中、Ｐｓは、ポリマー状支持体であり、ｎは、下の意味：１≧ｎ＞０を有する）の固相結合塩化２−クロロトリチル（２−ＣＴＣ樹脂）の製造方法であって、塩素化剤と有機溶媒の存在下における式II（式中、Ｒは、ＯＨまたは／およびＯＣ_1-4アルキルまたは／およびＮＲ’Ｒ”であり、ここでＲ’およびＲ”は、互いに独立に、Ｃ_1-4アルキルを表すか、あるいはＲ’およびＲ”は、それらが結合している窒素と一緒に、５〜８員環のヘテロ環基を表す）の固相結合２−クロロトリチルの反応を含む、製造方法である。
（もっと読む）

【課題】多層の追記型光ディスクの半透明反射層と色素記録層の間で使用され、信号の書き込み時にレーザー光により、信号の読み取りエラーを発生させることのない紫外線硬化型樹脂層。
【解決手段】ラジカル重合性化合物を含有する紫外線硬化型組成物であって、（１）同一分子内にラジカル重合性の不飽和二重結合と多環式構造を有する化合物Ａ、及び（２）同一分子内にラジカル重合性の不飽和二重結合と式I


で表される３価の部分構造を有する化合物Ｂを含有し、ラジカル重合性化合物全体に対する前記化合物Ａ及び前記化合物Ｂの含有比率が、各々１０質量％以上であり、且つ前記化合物Ａと前記化合物Ｂの合計含有比率が４０質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも１種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）