【課題】酸素雰囲気下の活性エネルギー線照射でも窒素雰囲気下の活性エネルギー線照射の場合と同等の硬度を有する硬化塗膜を得ることができ、さらに硬化塗膜が耐擦傷性に優れる、活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有し、該ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つが、２級水酸基、ウレタン結合及びウレア結合よりなる群から選ばれる少なくとも１つと少なくとも１つの（メタ）アクリロイルオキシ基との両者を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（Ａ）及びイソソルバイドジ（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱黄変性、耐光性、密着性に優れる透明な硬化膜を形成することが可能であり、しかも硬化膜表面の表面タック（べたつき）が十分に少ない光硬化性樹脂組成物及び、該光硬化性樹脂組成物を用いた光半導体用封止材、感光性接着剤、感光性コーティング剤、ナノインプリント用光硬化性樹脂、光学用レンズ、感光性インクを提供する。
【解決手段】置換若しくは非置換の炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を有し、更にアクリロキシ基又はメタアクリロキシ基を有する環状オルガノポリシロキサンと、当該環状オルガノポリシロキサン１００質量部と、光ラジカル開始剤０．５〜１０質量部とを含有する光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】フィルム又はシート成型が容易で、従来よりも大幅に表面硬度の改良された鉛筆硬度５Ｈ以上を持つシリコーン樹脂成形体を与えることのできるシリコーン樹脂組成物、及びこれから得られたシリコーン樹脂成形体を提供する。
【解決手段】一般式[ＲＳｉＯ_3/2]_nで表されて構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンを主たる成分とするシリコーン樹脂（Ａ）と、所定の多官能不飽和化合物（Ｂ）と、前記シリコーン樹脂とラジカル共重合が可能であり、前記多官能不飽和化合物（Ｂ）以外の不飽和化合物からなる成分であって、その８０〜１００重量％が所定の脂環式不飽和化合物である不飽和化合物成分（Ｃ）と、末端に不飽和基を有し、かつ、ウレタン結合を有する化合物（Ｄ）とを配合したシリコーン樹脂組成物であり、これをラジカル共重合させて得られたシリコーン樹脂成形体である。 （もっと読む）

【課題】優れた耐候性と、長期間性能が保持されるハードコート性とを兼ね備えるとともに、意匠性がよく、透明性が高くうねりなどのない鏡面性に優れた表面保護層を形成することができるハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】本発明は、基材シート上に、少なくともプライマー層と表面保護層とがこの順に積層された耐候ハードコートフィルムであって、該表面保護層は６〜９官能のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含む電離放射線硬化型樹脂組成物を架橋硬化してなる硬化物であり、該プライマー層がポリカーボネート系ウレタンアクリル共重合体と、粒径が１〜７μｍの球状シリカとを含み、該球状シリカが樹脂分１００質量部に対して５〜２５質量部配合された耐候ハードコートフィルムである。 （もっと読む）

【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜（以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能）であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される１種又は２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と（Ｂ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
（ＲＳｉＯ_１．５）_ａ 式（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｒのうちの少なくとも２つは、重合性基を表す。ａは８〜１６の整数を表す。複数のＲは同一であっても異なっていてもよい。）
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。 （もっと読む）

【課題】ハンダリフロー工程等に耐え得るカメラモジュール用レンズとして適用可能な耐熱性複合型レンズを提供する。
【解決手段】レンズ基材に樹脂層を接合してなり、少なくとも樹脂層が、[[(Ｒ¹ＳｉＯ_3/2)_n](Ｒ²₂ＳｉＯ_2/2)]_m[[ＸＯ_2/2](Ｒ²₂ＳｉＯ_2/2)]_l（Ｒ¹及びＲ²はビニル基、アリル基、アルキル基、アリール基、（メタ）アクリロイル基又はオキシラン環を有する基であり、Ｘは炭素数５〜５０の脂肪族構造、脂環式構造、芳香族構造及び−ＯＣＯＯ−結合の１つもしくは複数含む構造であり、ｎ、ｍ及びｌはそれぞれ平均値を表し、ｎは６〜１４の数、ｍ及びｌは１以上、ｍ＋ｌは２〜２０００である）で表され、Ｍｗ＝５０００〜１００００００であり、不飽和二重結合を有するビニル基、アリル基、及び（メタ）アクリロイル基からなる群から選ばれた１種以上の反応性官能基を１分子中に２以上有するシリコーン樹脂を硬化させてなる耐熱性複合型レンズである。 （もっと読む）

【課題】高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に適用でき、しかもフッ素系ガスと酸素ガスとのエッチング速度の選択性が高い微細パターンを形成することができるヒドロシリル化反応物または該ヒドロシリル化反応物を含有する転写材料用硬化性組成物を提供する。また、ナノインプリントに用いられる射出成型樹脂スタンパーおよびフィルムスタンパーの微細なムラやパターン以外の微小な凹凸などの転写を抑えることができるヒドロシリル化反応物または該ヒドロシリル化反応物を含有する転写材料用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】本発明のヒドロシリル化反応物は、Ｓｉ−Ｈ結合含有基を有する特定の篭状シルセスキオキサン化合物（Ａ）と、硬化性官能基及び該硬化性官能基以外の炭素−炭素不飽和結合含有基を有する化合物（Ｂ）と、炭素−炭素不飽和結合含有基を有する特定の篭状シルセスキオキサン化合物（Ｃ）とを反応させて得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加熱硬化後のインプリント性、基板密着性、耐熱性および表面硬度に総合的に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】Ａ）シランカップリング剤、Ｂ）高分子ケイ素化合物、Ｃ）光重合性単量体およびＤ）光重合開始剤を含有することを特徴とする光ナノインプリント用組成物。Ａ）シランカップリング剤が重合性基を含有し、Ｂ）高分子ケイ素化合物が、シルセスキオキサンである、光ナノインプリント用組成物。Ａ）シランカップリング剤が重合性基を含有する光ナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング速度の選択性が高く、かつレジスト等に用いる微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することのできる転写材料用硬化性組成物およびその形成方法を提供する。
【解決手段】アクリロイル基を有するポリシロキサンからなり、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）_３（ここでＲは炭素数１〜４のアルキル基である）または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）_３（ここでＸはアクリロイル基を含有する基である）であって、すべてのＲに対するＸの存在割合が０．１以上である硬化性ケイ素化合物を含有する、微細パターンを形成するための転写材料用硬化性組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】籠構造を主鎖に取組んだ共重合体及びこれを含んだ硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)Ｙ−[Ｚ−(Ｏ_1/2−Ｒ²₂ＳｉＯ_1/2)_a−(Ｒ¹ＳｉＯ_3/2)_n−（Ｏ_1/2）_b]_m−Ｚ−Ｙ[Ｒ¹及びＲ²はビニル基、アルキル基、フェニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基、Ｚは下記一般式（2）


の２価の基であり、Ｙは下記（3）〜（5）のいずれかである。（3）[(Ｒ⁴Ｏ)Ｒ²₂ＳｉＯ_1/2]_a−[Ｒ¹ＳｉＯ_3/2]_n−[Ｏ_1/2]−（4）[Ｒ⁴Ｏ_1/2]_b−[Ｒ¹ＳｉＯ_3/2]_n−[Ｏ_1/2−Ｒ²₂ＳｉＯ_1/2]−（5）(Ｒ⁴Ｏ_1/2)−（6）(Ｒ²₃ＳｉＯ_1/2)−（Ｒ⁴は水素原子、メチル基又はエチル基）｝で表される構成単位を有する籠構造含有硬化性シリコーン共重合体である。 （もっと読む）

【課題】パターン転写精度、硬化膜の機械特性（弾性回復率）、および、硬化物の硬度に優れたナノインプリント用硬化性組成物、並びに、これを用いた硬化物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】シルセスキオキサン化合物と、無機微粒子と、を少なくとも含み、更に必要に応じて、エチレン性不飽和結合含有基を１個以上有する重合性不飽和単量体、および重合開始剤を含む組成物を重合することを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、絶縁膜、さらに詳しくは、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有する膜が形成可能な、しかも誘電率、ヤング率などの膜特性に優れた絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】シロキサン構造を有する化合物を含む膜に周波数５．８ＧＨｚのマイクロウエーブを照射して形成される絶縁膜。 （もっと読む）

【課題】速やかに硬化し、硬化して、基材に対する密着性や下地追随性が優れる硬化物を形成する硬化性ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】(Ａ)ケイ素原子結合水素原子を含有するアクリル系共重合体、(Ｂ)一分子中に少なくとも２個の脂肪族不飽和結合を有する化合物、(Ｃ)フッ化ビニリデンを主成分とするフルオロオレフィン共重合体、および(Ｄ)ヒドロシリル化反応用触媒を少なくとも含む硬化性ポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】 レンズ、光ディスク、光ファイバー及びフラットパネルディスプレイ基板等の光学用途や自動車の窓材等に適し、耐熱性が高く、着色が少なく、熱膨張係数が低く、透明導電膜を安定に成膜することができ、巻き取り性が良く、複屈折が小さいロールフイルムに使用可能なシリコーン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 [ＲＳｉＯ_3/2]_n （但し、Ｒは（メタ）アクリロイル基を有する有機官能基であり、ｎは8、10又は12である）で表され、構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンを主たる成分とするシリコーン樹脂と、分子中に−Ｒ³−ＣＲ⁴＝ＣＨ₂又は−ＣＲ⁴＝ＣＨ₂で表される不飽和基とを含み、シリコーン樹脂とラジカル共重合が可能なウレタン結合を有するオリゴマーと、それ以外の共重合が可能な不飽和化合物を、５〜８０：１〜５０：０〜８０の重量割合で配合したシリコーン樹脂組成物。 （もっと読む）