【課題】 長期にわたって高温高湿環境下に暴露された場合にも、信号特性の劣化の少ない光ディスクを与える紫外線硬化型組成物を提供する。
【解決手段】 本発明においては、没食子酸等のフェノール性水酸基を有する化合物と、同一分子内に２個のフェノール性水酸基を有し、その水酸基に隣接してアルキル基を有する特定の化合物とを含有する紫外線硬化型組成物により、高温高湿環境下における反射膜の腐食や変色を抑制でき、反射率変化が少ない光ディスクを形成することができるため、高温高湿環境下においても特性劣化の少ない光ディスクを実現できる。 （もっと読む）

【課題】光ファイバテープのマトリックス材料に使用するのに好適な放射線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも２種の非シリコーンウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと、１種またはそれ以上の多官能希釈剤と、１種またはそれ以上の光開始剤とを有し、非シリコーンウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの数平均分子量がそれぞれ約２００以上かつ約６０００未満であり、かつウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの多分散指数（ＰＤＩ）が２：１〜３０：１である、このマトリックス材料は、テープ型光ファイバ集合体が形成されるように複数の光ファイバを被覆して硬化されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】メタアクリレート樹脂を基礎とする二成分熱硬化性樹脂の自由なラジカル重合のためのゲル化時間の安定した阻害剤であって、一方で、熱硬化性樹脂の貯蔵中におけるゲル化時間の安定性が、他方で、低温下においても反応性、頑健性および品質が確保される阻害剤を提供する。
【解決手段】二成分熱硬化性樹脂であって、硬化可能な構成材（ａ）として、少なくとも一種類のラジカル硬化可能なエチレン性不飽和化合物と、反応度およびゲル化時間の調節のための剤（ｂ）と、少なくとも１種類のコモノマー（ｃ）とを含む樹脂成分（Ａ）と、反応しないようにこれとは別個に配置された、樹脂成分（Ａ）の樹脂のための硬化剤を含有する硬化成分（Ｂ）とを備える該熱硬化性樹脂。樹脂成分（Ａ）が反応度およびゲル化時間の調節のための剤（ｂ）として下記の一般式（Ｉ）のブレンツカテキン（カテコール）誘導体を含む。
【化１】
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【課題】高い接着強度を有し、耐湿性が良好な硬化性組成物、特に、低臭気性を有すると共に、保存安定性に優れた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子の末端、又は側鎖に２個以上の（メタ）アクリロイル化されたオリゴマー、及びモノマーで希釈した前記オリゴマーからなる群から選ばれる１種以上で、分子量が５００から５００００である多官能（メタ）アクリレートオリゴマー、（Ｂ）リン酸基またはリン酸基アミンハーフ塩を有する（メタ）アクリレート、（Ｃ）エポキシシランカップリング剤、（Ｄ）酸化防止剤、（Ｅ）光開始剤を含有する硬化性組成物であり、更に（Ｆ）１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートを含有する前記硬化性組成物であり、更に（Ｇ）分子中に水酸基を有する（メタ）アクリレートを含有する前記硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】光硬化注型成形法に好適な樹脂組成物で、振動疲労耐久性に優れた樹脂組成物および硬化体を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に１つ以上の反応性基を有し、且つ分子量が２０，０００〜１００，０００のオリゴマー１種以上を含有する樹脂であり、しかも光ラジカル重合性樹脂、光ラジカル付加重合性樹脂、及び光カチオン重合性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１つの樹脂と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）酸化防止剤又は（Ｄ）光安定剤のいずれか又は両方とを含有する樹脂組成物、好ましくは、樹脂組成物の硬化体を用いて動的粘弾性測定を実施した際に、周波数が１〜１００，０００Ｈｚの範囲において、貯蔵弾性率Ｅ’が１ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下であることを特徴とする前記の樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ用ガラスに対して高い接着強さを有し、耐湿性が良好な硬化性組成物、特に、低弾性を有し光硬化と共に、ＵＶ吸収性を兼ね備え、且つ表面硬化性が高い硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子の末端、又は側鎖に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有し、ポリブタジエン、ポリイソプレン、及びブタジエン若しくはポリイソプレンの水素添加物からなる群から選ばれる１種以上で、分子量が５００から５００００である（メタ）アクリレート、（Ｂ）アリル構造を有する（メタ）アクリレート及び／又は、テトラヒドロフルフリル基を有する（メタ）アクリレート、（Ｃ）酸化防止剤、（Ｄ）可視光を吸収してラジカルを発生する光硬化触媒、（Ｅ）紫外線吸収剤、（Ｆ）エポキシ系シランカップリング剤を含有することを特徴とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクとして、ディスクの反りの発生を極力抑え、耐久性、耐光性に優れた光ディスク及び該光ディスクの光透過層として有用な紫外線硬化型組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行い、前記光透過層が、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）と二塩基酸無水物（ａ２）から得られるハーフエステル化合物（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂を含有する紫外線硬化型組成物の硬化物からなり、前記光透過層の膜厚が５０〜１５０μｍである。 （もっと読む）

【課題】 光学特性、熱特性、機械特性に優れた樹脂成形体であり、とりわけ、高精細なフレキシブルディスプレイ用のプラスチック基板として有用である樹脂成形体を提供すること。
【解決手段】光重合性組成物［Ｉ］を光硬化して得られる厚さ５０〜３００μｍの樹脂成形体であって、次の３つの条件を満たすことを特徴とする樹脂成形体。
１．ガラス転移温度が２００℃以上であること。
２．３０℃における曲げ弾性率が、３．０〜４．５ＧＰａであること。
３．ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−１：１９９９に準拠して、直径１０ｍｍの円筒形を用いたマンドレル法の耐屈曲試験（折り曲げ時間２秒、サンプルサイズ１００ｍｍ×５０ｍｍ）を行った時に割れないこと。 （もっと読む）

【課題】
ワニスの保存安定性に優れ、誘電率、誘電正接が低く、高耐熱性である樹脂組成物および該組成物を用いた硬化性フィルム、フィルムの提供。
【解決手段】
2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体の末端をスチレン化した化合物と二重結合を有するスチレン系熱可塑性エラストマーに、特定の重合禁止剤もしくは酸化防止剤を組み合わせた硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 ラジカル重合性樹脂組成物を長期保存した場合でも適正なゲルタイムを保持し、高温での長期間保存時におけるゲル化を防止し、硬化性能を維持することができる長期保存方法を提供する。
【解決手段】 ラジカル重合性樹脂と硬化剤とを含むラジカル重合性樹脂組成物を長期間保存するにあたり、コバルト化合物、Ｎ，Ｎ'−ジメチルアセトアセトアミド及びトルハイドロキノンを添加剤として用いる方法であって、前記トルハイドロキノンの使用量が前記ラジカル重合性樹脂１００重量部に対し０．００１〜０．０１重量部であることを特徴とするラジカル重合性樹脂組成物の長期保存方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 高感度であるとともに、解像度に優れ、かつ感度の経時安定性が極めて高く、高精細なパターンを形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、光重合開始系化合物、及び重合禁止剤を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物として、ジ置換アミノ−ベンゼンを部分構造として有する化合物を含むことを特徴とする感光性組成物である。該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】特定の角度域の入射光を散乱する光制御膜及び該膜に好適な光重合性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）〜（Ｃ）の化合物を含有することを特徴とする組成物、及び、該組成物に紫外線を照射、硬化させてなる光制御膜である。（Ａ）：分子内に重合性炭素−炭素結合を有する化合物（Ｂ）：分子内に重合性炭素−炭素結合を有する化合物であって、該化合物の単独重合体の屈折率は化合物（Ａ）の単独重合体の屈折率とは異なる化合物（Ｃ）：分子内に下記（I）で表される構造を有する化合物。


（Ｒ_１は分枝状炭化水素基、Ｒ_２は水素原子、炭化水素基等、Ｘは炭化水素基又は硫黄原子を表す。） （もっと読む）

【課題】 屈折率が高く、接着性に優れ黄変の少ない接着剤用液状硬化性樹脂組成物、特に、メタクリルスチレン樹脂（ＭＳ樹脂）との密着性に優れた、プロジェクションテレビのフレネルレンズ用接着剤を提供する。
【解決手段】 次の成分（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）及び(Ｄ）：（Ａ）下記式（１）で示される構造を有するウレタン（メタ）アクリレート［Ｒ^１−Ｏ−ＣＯＮＨ−Ｒ^２−ＮＨＣＯ−Ｏ］_ｎＲ^３ （１）［式中、Ｒ^１は、（メタ）アクリロイル基又は炭素数１〜４のアルキル基である。Ｒ^２は、環状構造を有する２価の有機基、Ｒ^３は、炭素数３５〜３８０の２〜６価の有機基である。ｎは、２〜６の整数である。Ｒ^１の４０〜８５モル％が（メタ）アクリロイル基である。］ （Ｂ）ラジカル重合性化合物 （Ｃ）下記式（２）で示される部分構造を有するフェノール性化合物


（式中、Ｒ^４は炭素数１〜８の炭化水素基を示す）を含有する接着剤用液状硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 材料の貯蔵安定性が非常に良好であり、かつ、１１０〜１３０℃で加熱硬化させる際においても型内流動性が充分に確保でき、さらに、完全硬化に至るまでの時間を大幅に短縮できハイサイクル成形に対応できる熱硬化性樹脂組成物及びそれらを硬化して得られる成形品を提供することを課題とする。
【解決手段】 不飽和ポリエステル樹脂またはビニルエステル樹脂、ラジカル反応性モノマー、１０時間半減期温度が６０〜８０℃の高温活性パーオキサイド、１０時間半減期温度が４０〜５０℃の低温活性パーオキサイド及び特定割合のハイドロキノンを含有し、ハイドロキノンが、あらかじめラジカル反応性モノマーと低級アルコールとの混合溶液に溶解されている熱硬化性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】 解像性が良好な光路差調整層用光硬化性樹脂組成物及びそのような光路差調整層を有するカラーフィルタの提供。
【解決手段】 親水性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）及び添加剤（Ｄ）を含有してなり、該添加剤（Ｄ）が、分子軌道法により計算されるＬＵＭＯ値（エレクトロンボルト）が、−３〜−１であり、かつ共役している二重結合の個数が、３〜８であり、分子中に酸素原子もしくは窒素原子を２〜８個有する化合物（Ｄ１）、又は露光により該化合物（Ｄ１）を生成する化合物（Ｄ２）であることを特徴とする光路差調整層用光硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 ラジカル重合反応による硬化が阻害されることなく、ラジカル重合反応中の副反応により生成し放散されるホルムアルデヒドの量が低減されるラジカル重合性組成物を提供する。また、組成物のラジカル重合反応による硬化が阻害されることなく、組成物をラジカル重合させる時に放散されるホルムアルデヒドの量が低減されたラジカル重合硬化物の製造方法を提供する。
【解決手段】 ラジカル重合性化合物、ラジカル重合開始剤およびカテキンを含有するラジカル重合性組成物。上記組成物をラジカル重合させることを特徴とする、組成物をラジカル重合させる時に放散されるホルムアルデヒドの量が低減されたラジカル重合硬化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】微細形状転写性および耐環境特性に優れた光硬化型樹脂組成物、およびこれを用いてなる回折型集光フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】ヒドロキシル基含有メチレングリコール系化合物と、カプロラクトン変性（メタ）アクリレート化合物と、１分子中にイソシアネート基を２個有するジイソシアネート化合物と、を含有し、前記イソシアネート基と、前記ヒドロキシル基含有メチレングリコール系化合物及び前記カプロラクトン変性（メタ）アクリレート化合物中の水酸基との等量比（ＮＣＯ/ＯＨ）が、０．８〜１．２になるように配合してなる（Ａ）ウレタンオリゴマー、（Ｂ）２官能モノマー、（Ｃ）光開始剤および（Ｄ）フェノール系酸化防止剤を含む光硬化型樹脂組成物、およびこれを用いてなる回折型集光フィルムを提供する。 （もっと読む）

少なくとも二つの不飽和側鎖基を含む光重合性化合物； 少なくとも一種のエチレン性不飽和光重合性ポリアルキレンオキシド親水性モノマー； 少なくとも一種の非イオン性界面活性剤； 及び少なくとも一種の光開始剤を含む組成物が提供される。この組成物は、好ましくは、少なくとも一種のアミン変性アクリルオリゴマー及び染料も含む。他の慣用のフォトレジスト成分、例えば感光化剤、粘着性促進剤、レベリング剤、及び溶剤も前記組成物に加えることができる。この組成物は、基材上にリソグラフィー回路をパターン形成するなど、基材上にパターンを形成するのに有用である。 （もっと読む）

【課題】 良好な機械特性、耐油性、耐候性等を示す硬化物を与え、かつ、耐熱老化性試験において、硬度の保持、非着色性に優れる硬化物を与えうる硬化性組成物の提供。
【解決手段】 （Ａ）一般式（１）
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ^ａ）＝ＣＨ_２ （１）
（式中、Ｒ^ａは水素原子、又は、炭素数１〜２０の有機基を表す。）
で表される基を１分子あたり少なくとも１個、分子末端に有するビニル系重合体（Ｉ）
（Ｂ）重合開始剤（ＩＩ）
（Ｃ）フェノール系酸化防止剤
（Ｄ）イオウ系酸化防止剤
を含有してなる硬化性組成物。 （もっと読む）

液晶に対して極めて汚染性が低く、強い接着強度を有する液品シール剤を提案すること。
（ａ）一般式（１）で表される放射線硬化樹脂、（ｂ）光重合開始剤、及び（ｃ）平均粒径３μｍ以下の無機充填材を必須成分として含有することを特徴とする液晶シール剤を開示する。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１乃至１０の一価の直鎖、分岐または環状のアルキル基、又は炭素数１乃至１０のアルコキシ基を表し、ｍは１乃至４の整数を示し、ｍは同じであっても異なっていても良い。Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表す。繰り返し単位数ｎは０乃至２０の正数の範囲である。）
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