例えば半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができ、かつ、比誘電率が小さく、機械的強度や密着性に優れ、均一な膜質を有する膜を形成することができるポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜を提供する。
本発明のポリマーの製造方法は、（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランが、以下のポリマー（Ｉ）である。
（Ｉ）（ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種とを、有機溶媒中でアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下にて反応させて得られるポリマー（Ｉ）：
Ｒ^１_ｋＣＸ_４−ｋ ・・・・・（１）
Ｒ^２_ｋＳｉＹ_４−ｋ ・・・・・（２）
Ｒ^３_ｍＹ_３−ｍＳｉＣＲ^４_ｎＸ_３−ｎ ・・・・・（３）
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は同一または異なり、それぞれ１価の有機基または水素原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、ｋは０〜３の整数を示し、ｍおよびｎは同一または異なり、０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

粉体表面を、オルガノポリシロキサンと金属酸化物とが分子レベルで複合化している金属酸化物・オルガノポリシロキサンハイブリッドで被覆してなる表面被覆粉体である。金属酸化物・オルガノポリシロキサンハイブリッドゾルで粉体を被覆して、粉体表面に上記のハイブリッドの薄膜を形成させる。上記の金属酸化物・オルガノポリシロキサンハイブリッドの金属酸化物は、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び二酸化ケイ素から選ばれた一種又は二種以上の金属酸化物が好ましい。上記の金属酸化物・オルガノポリシロキサンハイブリッドは、金属酸化物とオルガノポリシロキサンとの割合を調整することによって撥水性をコントロールできるので、この割合を調整して粉体の撥水性を容易にコントロールできる。また、表面被覆粉体を配合した化粧料は、自然な外観及び塗布時の感触が優れている。 （もっと読む）

Ｎ−カルバゾリルアルキル基を有するカルバゾリル官能基含有ポリシロキサン樹脂、カルバゾリル官能基含有ポリシロキサン樹脂を含むシリコーン組成物、前記シリコーン組成物を硬化させることによって調製される硬化したカルバゾリル官能基含有ポリシロキサン、及びカルバゾリル官能基含有ポリシロキサンを含有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜中に規則的で均一なナノ気孔を形成させ得る新規星型高分子物質の提供。
【解決手段】アルコキシシラン末端基を有し、中心部にエーテル基を有する式（Ｉ）で表される星型高分子を気孔誘導体として用いると、規則的で均一に分布されたナノ気孔を有する低誘電性シリケート高分子薄膜が得られる。前記星型高分子は、環状モノマーを多価アルコールと開環重合させた後、得られた高分子をアルコキシシラン化合物と反応させることによって製造される。 （もっと読む）