【課題】比較的低温での硬化が可能であり、酸素存在下の光硬化によっても良好な硬化性を示し、硬化物の硬度が高く、低屈折率で優れた反射防止性能を示す硬化性樹脂組成物並びにこれを用いた積層体、および反射防止材を提供する。
【解決手段】硬化性樹脂組成物が、成分（Ａ）：無機粒子存在下において合成することにより無機粒子が重合体内に分散しているフッ素含有重合体を少なくとも１成分とする。硬化性樹脂組成物には、成分（Ｂ）：重合開始剤、及び成分（Ｃ）重合性シリカも含有させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】構造誘導体物質として環状シロキサン系モノマーを使用する、誘電率が低く且つ諸般物性に優れた低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】環状シロキサン系モノマー、有機溶媒、酸または塩基、および水を混合してコーティング液を準備する第１段階と、前段階で得たコーティング液を基板上に塗布した後、熱硬化させてメソポーラス薄膜を得る第２段階とを含む、低誘電性メソポーラス薄膜の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、検出目的のための蛍光剤を含み、シリコーン組成物に改善された硬化深度を持たせることを可能とする硬化系を有する硬化性シリコーン組成物に関する。このシリコーン組成物は光硬化性であり、また水分または加熱硬化性であってもよい。 （もっと読む）

本発明は、新規なポリマー被覆金属酸化物を提供することを目的とする。本発明のポリマー被覆金属酸化物は、ポリマーがシロキサン骨格を有する。本発明のポリマー被覆金属酸化物の製造方法は、シロキサン骨格を有するポリマーの溶液に、金属酸化物を接触させる方法である。これにより、ポリマーを金属酸化物の表面に結合させることができる。ここで、ポリマーは分岐構造を有することが好ましい。また、その分岐構造を有するポリマーがデンドリティックポリマーであることが好ましい。また、金属酸化物が、ガラス、シリカゲル、酸化チタン、チタン酸バリウム、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、酸化ニッケル、酸化鉄などであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】シリコーン系ポリマー及びポリマー組成物、前記シリコーン系ポリマー及びポリマー組成物の製造方法ならびに発光ダイオード（ＬＥＤ）との併用方法を提供する。
【解決手段】前記ポリマーは、（１）特定のＳｉ−Ｈ含有シクロシロキサンオリゴマーと（２）式ＸＩ：


で表されるビニルシロキサンオリゴマーとを、貴金属ヒドロシリル化触媒の存在下に、反応させる方法により製造される。 （もっと読む）

照射もしくは熱硬化可能なコーティング組成物が、脂環式エポキシド樹脂、カルビノール官能基シリコーン樹脂もしくは無水物官能基シリコーン樹脂、および、熱もしくは光活性化酸触媒を含有する。有機ポリオールも、任意成分として、本組成物において包含されてもよい。本組成物は、照射硬化可能なコーティングとして、接着剤として、光により画定可能なコーティングとして、もしくは熱硬化コーティングとして、有用である。該脂環式エポキシド樹脂は、丈夫さおよび接着性を、本組成物に加える一方、該カルビノール官能基シリコーン樹脂もしくは該無水物官能基シリコーン樹脂は、耐水性、天候順応性、熱安定性、および柔軟性を有する本組成物を与える。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなり、上記化合物が、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシシランを含むものである。 （もっと読む）

（ｉ）白金族金属含有触媒存在下に、１分子につき少なくとも１つのシリコン結合水素原子を含有する少なくとも１つの有機水素シリコン化合物と、少なくとも１つの脂肪族不飽和部分を持つ少なくとも１つの化合物とを混合することにより得られる反応生成物；
（ｉｉ）少なくとも１つの末端封鎖剤；ならびに任意に
（ｉｉｉ）加水分解物もしくはシクロシロキサンから選ばれる、少なくとも１つの有機シロキサン
を含む混合物を、触媒存在下に加熱して、成分（ｉ）、（ｉｉ）、および任意に（ｉｉｉ）の重合を起こさせ、分岐ポリマーを形成させることを含む方法。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｓｉ原子に結合しているＨ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＣ原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．９０〜０．２０である樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）成分：非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、１ｎｍ以上のｄ値に相当する回折角度に１本以上のピークを有するＸ線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Ｔサイト骨格成分の存在割合（Ｔモル％）と、Ｄサイト骨格成分の存在割合（Ｄモル％）と、Ｓサイト骨格成分の存在割合（Ｓモル％）とが、Ｔ≠０の場合は下記数式（Ｆ１）、Ｔ＝０の場合は下記数式（Ｆ２）：
｛（Ｄ＋Ｓ）／（Ｔ＋Ｄ＋Ｓ）｝≧０．１ （Ｆ１）
｛Ｓ／（Ｄ＋Ｓ）｝≦０．９］ （Ｆ２）
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。 （もっと読む）

式I(式中のR₁は加水分解可能な基、R₂は分極率を減少させる有機基、R_３は架橋性の炭化水素基である)を有するモノマーを重合してシロキサン材料を形成することによって得られる組成物を備える薄膜。また、本発明は該薄膜を製造する方法に関する。該薄膜は、集積回路装置内の低誘電率誘電体に用いることができる。新規誘電体は半導体基板トポグラフィー上で良好な局部的及び全体的平坦性を生ずる優れた平坦化性能を有し、誘電体及び酸化物ライナー蒸着後の化学機械的平坦化の必要性を減少又は除去する。
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可撓性支持体の塗工に際してミスト防止添加剤として適した星形枝分れシロキサン化合物は、貴金属ヒドロシリル化反応触媒存在下でのＭ'_ｇＭ_ａＭ^Ｈ_ｂ−ｇＤ_ｃＤ'_ｈＤ^Ｈ_ｄ−ｈＴ_ｅＴ'_ｉＴ^Ｈ_ｆ−ｉと（Ｍ_ｊＭ^Ｖｉ_ｋＤ_ｌＤ^Ｖｉ_ｍＴ_ｎＴ^Ｖｉ_ｏＱ_ｐ）_ｑとの反応生成物として製造される。ここで、ヒドリド含有前駆体とビニル含有前駆体との比は、これらの前駆体の化学量論的下付文字間の数学的関係で規定され、（ｂ＋ｄ＋ｆ−ｇ−ｈ−ｉ）／（（（ｋ＋ｍ＋ｏ）ｐ）ｑ）は４．５９〜０．２５の範囲にある。化合物Ｍ'_ｇＭ_ａＭ^Ｈ_ｂ−ｇＤ_ｃＤ'_ｈＤ^Ｈ_ｄ−ｈＴ_ｅＴ'_ｉＴ^Ｈ_ｆ−ｉは
Ｍ_ａＭ^Ｈ_ｂＤ_ｃＤ^Ｈ_ｄＴ_ｅＴ^Ｈ_ｆ＋αＣＨ_２＝ＣＨＲ^１→Ｍ'_ｇＭ_ａＭ^Ｈ_ｂ−ｇＤ_ｃＤ'_ｈＤ^Ｈ_ｄ−ｈＴ_ｅＴ'_ｉＴ^Ｈ_ｆ−ｉ
の反応で得ることができ、この化合物がミスト防止添加剤として有用な星形枝分れシロキサン化合物である。 （もっと読む）

【課題】 無機微粒子が高濃度で、かつ分散安定性に優れた反射防止膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる反射防止膜形成用組成物は、表面が、分岐構造を有するポリシロキサンで被覆されている無機微粒子、および多官能性（メタ）アクリル化合物を含有する。 （もっと読む）

ヒドロシリル化反応条件下でヒドリドシリコーンを（好ましくは）長鎖オレフィンと不完全に反応させて、部分置換ヒドリドシリコーンを生成させ、これをさらにヒドロシリル化反応条件下でビニル含有ＭＱ樹脂と反応させて、残存するヒドリド種を部分的に消費し、これを次に残りのヒドリド種を消費するヒドロシリル化反応条件下で長鎖ジオレフィンと反応させて、可撓性支持体の塗工に際してミスト防止剤として有用な組成物を生成する。 （もっと読む）

ヒドロシリル化反応条件下でヒドリドシリコーンを（好ましくは）長鎖オレフィンと不完全に反応させて、部分置換ヒドリドシリコーンを生成させ、これをさらにヒドロシリル化反応条件下でビニル含有ＭＱ樹脂と反応させて、残存するヒドリド種を部分的に消費し、これを次に残りのヒドリド種を消費するヒドロシリル化反応条件下で長鎖ジオレフィンと反応させて、可撓性支持体の塗工に際してミスト防止剤として有用な組成物を生成する。 （もっと読む）

ヒドロシリル化反応条件下でヒドリドシリコーンを（好ましくは）長鎖オレフィンと不完全に反応させて、部分置換ヒドリドシリコーンを生成させ、これをさらにヒドロシリル化反応条件下でビニル含有ＭＱ樹脂と反応させて、残存するヒドリド種を部分的に消費し、これを次に残りのヒドリド種を消費するヒドロシリル化反応条件下で長鎖ジオレフィンと反応させて、可撓性支持体の塗工に際してミスト防止剤として有用な組成物を生成する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも８０重量％の式Ｉ：［Ｙ_{０．０１−１．０}ＳｉＯ_{１．５−２}］_ａ［Ｚ_{０．０１−１．０}ＳｉＯ_{１．５−２}］_ｂ［Ｈ_{０．０１−１．０}ＳｉＯ_{１．５−２}］_ｃ［式中、Ｙはアリール、Ｚはアルケニル、ａは式Ｉの１５％−７０％、ｂは式Ｉの２％−５０％、ｃは式Ｉの２０％−８０％を表す］の化合物を含むオルガノシロキサンを提供する。本発明のオルガノシロキサンは、セラミックバインダー、高温カプセル化剤及び繊維マトリックス結合剤として使用し得る。本発明の組成物はまた別の材料と組合わせたときに優れた接着性を示すのでマイクロエレクトロニクス以外の用途またはマイクロエレクトロニクスの用途で接着促進剤として有用である。好ましくは本発明の組成物はマイクロエレクトロニクスの用途でエッチストップ、ハードマスク及び誘電体として使用される。 （もっと読む）

アルコキシシラン又はシロキサンとオルガノヒドロシラン又はシロキサンとの新規なシリコーン縮合反応及びそのための触媒が記載され権利請求される。 （もっと読む）

多分枝有機／無機ハイブリッドポリマー及びその製造方法。ハイブリッドポリマーは有機ブランチを有する無機コアの形態である。コアは最初に、構造：Ｘ−Ｂ−Ｓｉ（−Ｙ）_３（式中、ＸはＮＲ_１Ｒ_２であり、Ｒ_１、Ｒ_２は水素、アルキル及びアリールから選ばれ、又は、Ｒ_１、Ｒ_２は酸、アルコール、フェノール、アミン、アルデヒド又はエポキシドなどの１つ以上のタイプの化合物の縮合生成物又は付加生成物から選ばれる。Ｂはアルキレン及びアリーレンから選ばれる結合基であり、酸素、窒素、硫黄、リン、珪素及びホウ素を含んでよい。Ｙはアルコキシ、カルボキシル及びハロゲンなどの加水分解可能な残基から選ばれる。有機ブランチは、Ｘ−Ｂ基上のＮ−Ｈ水素原子を、第一級及び第二級アミンに典型的な反応によって置換させること、及び／又は、コア中のＸ−Ｂ基のＮ原子に付加することができる酸を添加することによって成長される。ハイブリッドポリマーの特定の使用も開示する。 （もっと読む）

複数の無機、金属、セミメタリック、および／又は金属酸化物粒子、および、粒子表面近傍における不均一重合反応により得られ、前記粒子の少なくとも一部を封入するスターグラフト共重合体上に環状および／又は直線状重合体構造を持つスターグラフト共重合体を含む表面処理された粒子。
前記表面処理は、ｗ、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ、四官能性、三官能性、二官能性、および単官能性のモノマー単位のモルパーセントであり、ｗ、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ、約０〜５０、０〜５０、５〜９９および０〜５であるＳｉ(ｗ、ｘ、ｙ、ｚ)を含み、ｗはテトラエチルオルトシリケートであり；ｘはγ−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、３−(トリメトキシシリル)プロピル無水コハク酸、ヘプタデカフルオロトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、２−(ジフェニルホスフィノ)エチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ｎ−(トリメトキシシリルプロピル)ＥＤＴＡ、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、および、これらのモノマーのトリエトキシ含有の対応物(counterparts)からなる群から選択され；ｙはジシクロヘキシルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジクロロシラン、ｎ−ヘキシルメチルジクロロシラン、メチルドデシルジエトキシシラン、ｎ−オクチルメチルジメトキシシラン、および、これらのモノマーのジエトキシ含有の対応物からなる群から選択され；ｚはｎ−オクタデシルジメチルメトキシシラン、トリエチルシラノール、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、および、これらのモノマーのエトキシ含有の対応物からなる群から選択される。表面処理されたＺｎＯおよび／又はＴｉＯ_２と定義される製品それ自体、およびパーソナルケア製剤における製品の使用それ自体は除外される。 （もっと読む）