【課題】 ゾルゲル法により得られるアルコキシシラン縮合物であるにも拘らず、柔軟性が高く強度に優れたアルコキシシラン硬化物からなる自立膜を形成することが可能なアルコキシシラン縮合物、並びにその製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）〜（４）：
【化１】


［式（１）〜（４）中、Ｘ^１は１価の加水分解性基、Ｒ^１は２価の有機基を示す。］
でそれぞれ表されるＴ^０、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３サイト骨格成分からなる有機架橋型アルコキシシラン縮合物であって、^２９Ｓｉ−ＮＭＲにおける、前記Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３サイト骨格成分にそれぞれ相当するシグナルの積分値（Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２、Ｔ^３）が下記数式：
Ｔ^０／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．６
Ｔ^１／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≧０．４
Ｔ^２／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．２
Ｔ^３／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．０３
で表される条件を満たしていることを特徴とする有機架橋型アルコキシシラン縮合物。 （もっと読む）

式I(式中のR₁は加水分解可能な基、R₂は分極率を減少させる有機基、R_３は架橋性の炭化水素基である)を有するモノマーを重合してシロキサン材料を形成することによって得られる組成物を備える薄膜。また、本発明は該薄膜を製造する方法に関する。該薄膜は、集積回路装置内の低誘電率誘電体に用いることができる。新規誘電体は半導体基板トポグラフィー上で良好な局部的及び全体的平坦性を生ずる優れた平坦化性能を有し、誘電体及び酸化物ライナー蒸着後の化学機械的平坦化の必要性を減少又は除去する。
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次の構造的特徴：１つより多くの繰り返し単位；少なくとも４つのＳｉ−アリーレン結合；少なくとも１つの（メタ）アクリレート部分、Ｓｉ−Ｈ部分、もしくは両方；０個のＳｉ−Ｏ結合；および、好ましくは少なくとも４つのケイ素原子を有し、各繰り返し単位で２つのケイ素原子が１つのアリーレン基によって分離されているカルボシラン含有ポリマー（オリゴマーを含む）。 （もっと読む）

本発明のポリマーの製造方法は、１種以上の（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランのうち少なくとも１種が、以下のポリカルボシラン（Ｉ）である。
（Ｉ）下記一般式（１）で表される化合物をアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下に反応させて得られる、重量平均分子量５００以上のポリカルボシラン（Ｉ）：
Ｒ^１_ｍＹ_３−ｍＳｉＣＲ^２_ｎＸ_３−ｎ ・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は同一または異なり、それぞれ１価の有機基または水素原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、ｋは０〜３の整数を示し、ｍおよびｎは同一または異なり、０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

本発明は、（ｉ）形状を含有する種型の表面が硬化されたシリコーン樹脂基材に面するように、種型と該シリコーン樹脂熱硬化性基材とを重ねること；（ｉｉ）該種型の軟化点よりは低いが該シリコーン樹脂のＴｇよりもわずかに高い温度での加圧下で（ｉ）の生成物に圧力をかけること；（ｉｉｉ）（ｉｉ）の生成物を冷却して、かつ該型への圧力を維持すること；および（ｉｖ）該基材を剥離して、それゆえ該形状が該シリコーン樹脂基材上に刻まれること；を含む、硬化されたシリコーン樹脂熱硬化性基材をエンボス加工して種型から該基材上にパターンを刻む方法に関する。硬化されたシリコーン樹脂熱硬化性基材は、非常に滑らかな表面を提供することによって熱エンボス加工リソグラフィーに有機熱可塑性プラスティック以上の利点を提供し、マイクロメーターおよびナノメーターの領域内で複製の高忠実性を促進し、離型のための剥離剤が必要ない。

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