【課題】 撥水、撥油、耐薬品性、すべり性、難付着性、耐摩耗性などの含フッ素有機基が有する特性を固体表面に効率的に付与することのできる新規なケイ素化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で示される、含フッ素有機基とアルコキシシリル基とを同時に持つシルセスキオキサン誘導体を提供する
【化１】


化合物（１）において、Ａはアルコキシシリルを有する基であり、Ｒ¹は炭素数１〜４０のアルキル、アリール、またはアリールアルキルから独立して選択される基であって、いずれも、任意の少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられている基である。 （もっと読む）

【課題】 ドライエッチング選択比と低誘電率とを両立したエッチングストッパー層を形成するための組成物、およびそれを用いた半導体装置の製造法の提供。
【解決手段】 ケイ素含有ポリマーを含んでなるエッチングストッパー層形成用組成物であって、組成物に含有されるケイ素含有ポリマーがジシリルベンゼン構造を含んでいるエッチングストッパー層形成用組成物、およびそれを用いてエッチングストッパー層を形成させる半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【課題】半導体素子等の絶縁膜材料として、ＰＣＴ後の誘電特性、ＰＣＴ後のＣＭＰ耐性、ＰＣＴ後の基板との密着性に優れた膜が形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】組成物は、（Ａ）下記式（１）、（２）中の少なくとも１種の化合物を水酸化テトラアルキルアンモニウムと水で加水分解、縮合した慣性半径が５〜５０ｎｍの物 Ｒ_ａＳｉ（ＯＲ^１）_４−ａ ・・・・・（１） （式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ^１は１価の有機基、ａは０〜２の整数を示す。） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（Ｏ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・（２） 〔式中、Ｒ^３〜Ｒ^６は同一または異なり、それぞれ１価の有機基、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^７は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｎ−で表される基（ここで、ｎは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕ならびに（Ｂ）有機溶媒を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐エッチング特性、短波長光に対する反射防止能（短波長光の吸収能）、低温硬化性を改善した中間層形成用組成物を提供する。
【解決手段】中間層形成用組成物を、
下記一般式（1）


（式中、Ｒ₁、Ｒ₂の少なくとも一方が架橋性基であり、ｍおよびｎはそれぞれ０〜２０の整数であり、ｌは繰り返し単位数を表す整数である。）で表される繰り返し単位を有するシリルフェニレン系ポリマー（Ａ）と、溶剤（Ｃ）と、を含有させて構成する。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（Ｉ）：ＰＲ（Ｏ_{（ｕ＋ｔ）／２}）［Ｏ_ｕ／２（Ｒ^２Ｏ）_ｖ−ｕＲ^１_３−ｖＳｉＣＲ^３_２−Ａ］_ｓ（Ｏ_１／２Ｒ^４）_ｔ（Ｉ）［式中、ＰＲは、金属原子およびケイ素原子から選択される原子および酸素原子を含む粒子基を表し、Ａは、Ｒ^５Ｏ−、Ｒ^５_２Ｎ−、（Ｒ^５Ｏ）_２ＯＰ−、Ｒ^５_２ＮＣ（Ｏ）ＮＲ^５−、Ｒ^６ＯＣ（Ｏ）ＮＲ^５−、ＯＣＮ−、Ｒ^５_２Ｃ＝ＣＲ^５−Ｃ（Ｏ）Ｏ−から選択される基を表し、Ｒ^１、Ｒ^３は、水素を表すか、１〜１８の炭素原子を有し、ハロゲン置換されていてもよい炭化水素基を表し、Ｒ^２は、１〜６の炭素原子を有するアルキル基または合計して２〜１０の炭素原子を有するω−オキサアルキル−アルキル基を表し、Ｒ^４は、水素を表すか、１〜１８の炭素原子を有し、置換されていてもよい一価の炭化水素基を表し、Ｒ^５は、水素を表すか、１〜１８の炭素原子を有し、ハロゲン−、ＯＲ^２−、ＮＲ^２_２−もしくはエポキシ官能性であってもよい炭化水素基を表し、Ｒ^６は、１〜１８の炭素原子を有し、ハロゲン−、ＯＲ^２−、ＮＲ^２_２−もしくはエポキシ官能性であってもよい炭化水素基を表し、ｓは、＞０の値を表し、ｔは、０以上の値を表し、ｕは、１、２または３の値を表し、かつｖは、１、２または３の値を表す］のオルガノシリル官能化された粒子（ＰＳ）である。 （もっと読む）

ポリアミン架橋されたポリシロキサン、例えばポリアルキレンポリアミンで架橋された官能基化されたポリシロキサンを、本明細書において記載する。ポリアミン架橋されたポリシロキサンは、海洋環境における生物学的汚れを防ぐために、防汚組成物中で使用してもよい。

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【課題】 溶剤に対する溶解性に優れていて容易に薄膜を形成することができ、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料として有用な新規なケイ素含有重合体およびその製造方法を提供すること、また、発光特性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子が得られる有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物および有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること。
【解決手段】 ケイ素含有重合体は、特定の繰り返し単位よりなり、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料として用いられることを特徴とし、また、有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物は、上記ケイ素含有重合体よりなる重合体成分と三重項発光性金属錯体化合物よりなる錯体成分とを含有してなることを特徴とし、更に、有機エレクトロルミネッセンス素子は、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物により形成された発光層を有することを特徴とする。 （もっと読む）

陰極と陽極との間に有機層を少なくとも１層有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機層の少なくとも１層に下記一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも一つ含む重合体を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。一般式（１）〔式中、Ａｒ１は置換基を有していてもよいアリーレン基又はヘテロアリーレン基を表し、ｎ１は２以上の整数を表し、Ｌ１は２価の連結基を表す。〕
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【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた絶縁膜を提供できる膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）の化合物及び／又はその加水分解縮合物を含み、塩
基性である膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、及び、その製造方法。
Ｘ¹_(3-m)Ｒ¹_mＳｉＲ²ＳｉＲ³_nＸ²_(3-n) （Ｉ）
式中、Ｒ¹およびＲ³は水素原子または１価の置換基であり、Ｒ²はアルキレン基、アリーレン基またはこれらの組み合わせを表し、Ｘ¹およびＸ²は加水分解性基を表す。ｍおよびｎは０〜２の整数である。 （もっと読む）

【課題】 アウトガス成分が少なく、透明性に優れ、その硬化物が高度の耐熱性を持ち、耐塩基性、耐クラック性に優れ、電気・電子材料等に有用なケイ素含有硬化性組成物の提供。
【解決手段】 （Ａ）成分として、下記の（α）成分及び（β）成分のそれぞれから選ばれる１種以上を、ヒドロシリル化反応して得られる１分子中に２個以上のＳｉ−Ｈ基を含有するプレポリマー（Ａ）と、（Ｂ）成分として、Ｓi −Ｈ基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に２個以上含有する環状シロキサン化合物（Ｂ）と、（Ｃ）成分として、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）を含有することを特徴とするケイ素含有硬化性組成物。 （α）成分： 下記の式（１）で示される、１分子中に２個以上のＳｉ−Ｈ基を含有する環状シロキサン化合物。


（β）成分： Ｓi −Ｈ基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に２個以上含有する化合物。 （もっと読む）

【課題】 誘電率が低く、機械的強度が高い絶縁材料を提供できる化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁膜などの絶縁材料を提供する。
【解決手段】 アダマンタン構造に連結基を介してケイ素を含有する基が置換した特定の化合物を加水分解及び／または縮合して得られるケイ素酸素架橋化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁材料。 （もっと読む）

【課題】 短波長の光に対しても良好な感度を備えかつ長期の照射でも受光感度劣化が少ない光検出半導体装置を提供する。
【解決手段】 光検出半導体装置は、受光面を有する受光素子を含む集積回路素子と、集積回路素子を封止する封止部とを備えた光検出半導体装置であって、封止部が有機変性型のシリコーン樹脂で形成されている。 （もっと読む）

【課題】 分子鎖末端に脂肪族不飽和一価炭化水素基を有し、（メタ）アクリロキシ基、およびケイ素原子結合加水分解性基を有する新規なオルガノポリシロキサン、およびこれを熱伝導性充填剤の表面処理剤あるいは主剤とし、熱伝導性充填剤を多量に含有しても、取扱作業性が良好で、適度なチキソトロピーを示すシリコーン組成物を提供する。
【解決手段】 一般式：


｛式中、Ｒ¹は脂肪族不飽和一価炭化水素基、Ｒ²は同種もしくは異種の脂肪族不飽和結合を有さない一価炭化水素基、Ｒ³は酸素原子または二価炭化水素基、Ｒ⁴は（メタ）アクリロキシ基含有一価炭化水素基、Ｒ⁵はアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、またはアシル基、ｎは５〜１,０００の整数、ａは１または２。｝で表されるオルガノポリシロキサン、およびこれを熱伝導性充填剤の表面処理剤あるいは主剤とするシリコーン組成物。 （もっと読む）

本発明は、シリコーン組成物であって、（Ａ）ケイ素に結合したアルケニル基を１分子当り平均して少なくとも２個有するオルガノポリシロキサン樹脂；（Ｂ）前記シリコーン組成物を硬化させるのに十分な量のオルガノ水素シラン；（Ｃ）（ｉ）ケイ素に結合したアルケニル基を1分子当り平均して少なくとも２個有し、粘度が25℃で0.001〜2 Pa・sであるオルガノシロキサン〔ここで、（Ｃ）（ｉ）の粘度は成分（Ａ）の粘度の20%以下である〕と、（ｉｉ）ケイ素に結合した水素原子を１分子当り平均して少なくとも２個有し、粘度が25℃で0.001〜2 Pa・sであり、（Ｃ）（ｉ）のアルケニル基1モルに対して（Ｃ）（ｉｉ）中のケイ素に結合した水素原子を0.5〜3モル供給するのに十分な量のオルガノ水素シロキサンと、を含む有効量の反応性希釈剤；および（Ｄ）触媒量のヒドロシリル化触媒を含むシリコーン組成物、ならびにこのシリコーン組成物を硬化させることによって調製される硬化したシリコーン樹脂に関する。 （もっと読む）

式（Ｉ）：（Ｒ^１Ｒ^３_２ＳｉＯ_１／２）ｗ（Ｒ^３_２ＳｉＯ_１／２）_ｘ（Ｒ^１ＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ（式中、Ｒ^１は、Ｃ_１〜Ｃ_１０ヒドロカルビル又はＣ_１〜Ｃ_１０ハロゲン置換されたヒドロカルビル（ともに脂肪族不飽和を含まない）であり、Ｒ^３は、Ｒ^１又はケイ素と結合した少なくとも１つの水素原子を有するオルガノシリルアルキル基であり、ｗは０〜０．８であり、ｘは０〜０．６であり、ｙは０〜０．９９であり、ｚは０〜０．３５であり、ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１であり、ｙ＋ｚ／（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０．２〜０．９９であり、ｗ＋ｘ（ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ）は０．０１〜０．８であり、基Ｒ^３の少なくとも５０モル％はオルガノシリルアルキルである）を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン樹脂、上記樹脂を含有するシリコーン組成物及び当該シリコーン組成物を硬化させることにより調製される硬化シリコーン樹脂。
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本発明は有機シロキサン樹脂及びこれを用いた絶縁膜に関するものであって、１種以上のハイドロシラン化合物を含むシラン化合物の縮重合体である有機シロキサン樹脂を有機溶媒に溶解した溶液を基体に塗布し形成した絶縁膜を乾燥及び硬化し製造した絶縁膜は機械的物性及び低誘電性が優秀であるため、高集積化半導体素子として適合に使用ことができるという効果がある。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒と、有機酸及び／又は無機酸とを含有してなる放射線硬化性組成物であり、非プロトン性溶媒がエーテルアセテート系溶媒又はエーテル系溶媒を含むものである。 （もっと読む）

【課題】 蒸留に比べて手間とコストがかからないカラムクロマトグラフィにより原料を精製することが可能となり、そのため有機シリカ複合材料の製造に要する手間とコストを低減することができ、しかも従来は製造が困難であった比較的高分子量の有機基を含む有機シリカ複合材料であっても効率良く製造することが可能となる、有機シリカ複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】 溶媒中で有機シラン化合物を加水分解及び重縮合反応せしめて有機シリカ複合材料を得る方法であって、前記有機シラン化合物が、下記一般式（１）：
【化１】


［式中、Ｒ¹はケイ素原子に結合した炭素原子を１以上有する有機基、Ｒ^２〜Ｒ^６はそれぞれ水素原子、低級アルキル基等、Ｘ^１は水素原子、水酸基、低級アルコキシ基、低級アルキル基等、ｍは１以上の整数、ｎは１〜３の整数をそれぞれ示す。］
で表されるアリルシラン化合物であることを特徴とする、有機シリカ複合材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、１ｎｍ以上のｄ値に相当する回折角度に１本以上のピークを有するＸ線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Ｔサイト骨格成分の存在割合（Ｔモル％）と、Ｄサイト骨格成分の存在割合（Ｄモル％）と、Ｓサイト骨格成分の存在割合（Ｓモル％）とが、Ｔ≠０の場合は下記数式（Ｆ１）、Ｔ＝０の場合は下記数式（Ｆ２）：
｛（Ｄ＋Ｓ）／（Ｔ＋Ｄ＋Ｓ）｝≧０．１ （Ｆ１）
｛Ｓ／（Ｄ＋Ｓ）｝≦０．９］ （Ｆ２）
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。 （もっと読む）

【課題】かご型構造のシルセスキオキサン骨格を主鎖に有する重合体を提供すること。シルセスキオキサン骨格を主鎖に導入することにより、任意に分子量等を制御でき、その特性を活かすことができる。
【解決手段】式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体。この式において、Ｒ^０は水素、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアリールアルキルであり、Ｙは式（ａ）または式（ｂ）で示される基である。これらの式のそれぞれにおいて、Ｘの少なくとも１つは水素、塩素または反応性の有機基であり、式（ｂ）におけるＺは−Ｏ−、−ＣＨ_２−または単結合である。


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