【課題】耐光性に優れ、近紫外線から可視光線までの領域の光の吸収が可能であり、且つ高い量子収率を有する有機シリカ系材料および有機シリカ系多孔体を提供する。
【解決手段】下記式（２）で表される有機シラン前駆体の重合体と、界面活性剤とを含有することを特徴とする有機シリカ系材料、および前記有機ケイ素化合物の重合体からなる有機シリカ系多孔体。
（もっと読む）

【課題】高屈折率などの優れた特性を有し、ゾルゲル反応により厚膜を形成しても、クラックを生成しない新規なフルオレン骨格を有するケイ素化合物を提供する。
【解決手段】下記式で表される化合物。


｛式中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^１はアルキレン基を示し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｙは基−（ＸＲ^３）_ｐ−ＳｉＲ^４Ｒ^５Ｒ^６［式中、Ｘは硫黄原子又はイミノ基を示し、Ｒ^３はアルキレン基を示し、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、又は炭化水素基を示し、ｐは整数を示す。ただし、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６のうち少なくとも１つは、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、又は基−ＯＲ^７である。］を示し、ｍ、ｎ１、ｎ２は整数である。｝ （もっと読む）

【課題】本発明に係わるゴム組成物をタイヤのプライコーティングゴムに用いることで、耐亀裂成長性を損なうことなく、転がり抵抗を著しく改良したタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物との共重合体の分子内に、プロトン性アミノ基又は、脱離可能な官能基で保護されたアミノ基を有する変性共役ジエン系共重合体を含むゴム成分と、（Ｂ）補強用充填材とを含有したゴム組成物を、プライコーティングゴムに用いてなるタイヤである。 （もっと読む）

【課題】完全縮合型ＰＯＳＳの骨格の再配列により、不完全縮合ＰＯＳＳ誘導体を得る新規な製造方法、それによって得られた新規な不完全縮合ＰＯＳＳ誘導体を提供する。
【解決手段】一般式（１）


で示される完全縮合オクタフェニルオクタシルセスキオキサンと、一般式（２）


で示される完全縮合ポリヘドラルオリゴシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）を、水-アルコール溶媒中、アルカリの共存下、共加水分解反応させ、必要により、次いで保護基で保護することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】メソ細孔を有し且つ正孔輸送性に優れた有機シリカ多孔体を提供すること。
【解決手段】下記式（１）（＊は他の分子構造との結合部位を表す）で表される分子構造を含有することを特徴とする有機シリカメソ多孔体。
（もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、下記一般式（１）で表される構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。


（Ｘは、置換されていてもよいメチレン基、又は置換されていてもよい炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】低弾性、強度、透明性を有し、耐熱性、耐光性に優れた、樹脂組成物を提供。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表され、エポキシ当量が１５０〜２０００ｇ／ｅｑ．であるエポキシシリコーン樹脂、（Ｂ）酸無水物及び（Ｃ）硬化促進剤を必須成分として含む硬化性樹脂組成物。


（式中、R₁は炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、R₂は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、内部にエーテル性酸素原子を含んでいても良い。Ｅ₁はイソシアヌル環骨格を含む基を介して結合するエポキシ基を有するエポキシ基含有基であり、Ｚは内部にヘテロ原子を有していてもよい２価の有機基を表し、ｍ及びｎは独立に０〜１００の数を表す） （もっと読む）

【課題】半導体装置に用いる低誘電率のシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


（ただし、式中、Ｒ¹は炭素数１〜６のアルキル基、アリール基またはフルオロアルキル基、Ｒ²はアルキレン基またはアリーレン基を示し、Ｘはハロゲンまたはアルコキシ基であり、ｎは０〜２の整数を示す）で表せられるシラン化合物を加水分解縮重合させてなるポリシロキサン樹脂を含有するシリカ系被膜２形成用塗布液を基板１上に塗布し、５０〜２５０℃で乾燥した後、窒素雰囲気下２００〜６００℃で加熱硬化する。 （もっと読む）

【課題】シラノール基の含有量が少なく、高い架橋率を有するシリカ系材料を得ることができるシリカ系材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルキルオニウムイオン発生剤の存在下でアルコキシシラン化合物を重合せしめることを特徴とするシリカ系材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】加工耐性が高いケイ素含有絶縁膜ならびにその形成方法、および当該膜を形成することができるケイ素含有膜形成用組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるシラン化合物と、下記一般式（２）ないし（４）のうちから選ばれた少なくとも1種のシラン化合物と、を含む化学気相成長法に用いられるケイ素含有膜形成用組成物である。


・・・・・（１）（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、同一または異なり、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基を示し、Ｒ^５は炭素数１〜４のアルキル基、アセチル基、フェニル基を示し、ｎは１〜３の整数を示し、ｍは１〜２の整数を示す。）Ｒ^６_ａＳｉ（ＯＲ^７）_４−ａ・・・・（２）Ｒ^８_ｂ（Ｒ^９Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^１２）_ｄ−Ｏ_ｅ−Ｓｉ（ＯＲ^１０）_３−ｃＲ^１１_ｃ・・・（３）−｛Ｒ^１３_ｆ（Ｒ^１４Ｏ）_２−ｆＳｉ−（Ｒ^１５）_ｇ｝_ｈ−・・・（４） （もっと読む）

【解決手段】分子内に２つ以上のＳｉ−Ｈ基を持つケイ素化合物を原料とし、該水素原子を脱水素することで得られた、主鎖中にＳｉ−Ｓｉ結合を有する高分子化合物。
【効果】本発明によれば、フォトレジスト材料、プレセラミックス材料、あるいは導電性材料用の素材などとして有用なＳｉ−Ｓｉ結合を主鎖中に有する高分子化合物を工業的有利に効率よく製造することができる。 （もっと読む）

ケイ素ポリマー材料であり、ケイ素原子の少なくとも１部分に直接的に付着された発色団基を有するケイ素ポリマー骨格をもち、そのポリマーはさらにカルボシラン結合を見せる。フィルム形成性組成物および得られるコーティングの特性は、特定の露光波長およびデバイス製造および設計の品質にふさわしいように合わせることができる。２つの異なる発色団を用いることによって、屈折率および吸収係数を効率的に調整することができる。カルボシラン結合の割合を変動させることによって、そして反射防止コーティング組成物の所望のＳｉ−含量を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】３．７以下の誘電率を有するシリカ系の材料及び膜、並びにそれを作製及び使用するための組成物及び方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系材料を調製するための組成物であって、少なくとも１つのシリカ源と、溶剤と、少なくとも１つのポロゲンと、任意選択で触媒と、任意選択で流動添加剤とを含み、該溶剤が、９０℃〜１７０℃の温度で沸騰し、化学式、ＨＯ−ＣＨＲ⁸−ＣＨＲ⁹−ＣＨ₂−ＣＨＲ¹⁰Ｒ¹¹（式中、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、独立して１〜４個の炭素原子のアルキル基又は水素原子であることができる）；Ｒ¹²−ＣＯ−Ｒ¹³（式中、Ｒ¹²は３〜６個の炭素原子を有する炭化水素基であり；Ｒ¹³は１〜３個の炭素原子を有する炭化水素基である）；及びそれらの混合物によって表される化合物から成る群より選択された組成物によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 発光特性に優れたエレクトロルミネッセンス材料として使用できる新規な化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるケイ素−ビフェニレン交互重合体および該ケイ素−ビフェニレン交互重合体よりなるエレクトロルミネッセンス材料。
【化１】


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、アリール基及びヘテロアリール基から成る群より選ばれる基であり、
Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ビニル基、アリル基、ハロゲン原子、アリール基及びヘテロアリール基から成る群より選ばれる基である。） （もっと読む）

【課題】耐熱性，化学的不活性等の様々な優れた特性を有することに加えて、ハンドリング性，接着性，成形性，加工性に優れたシリコーンゴム、並びに、該シリコーンゴムの原料であるポリ（シルアリーレンシロキサン）誘導体及びその共重合体を提供する。
【解決手段】下記の化学式（Ｉ）で表されるような構造を有するポリ（シルアリーレンシロキサン）誘導体は、従来のシリコーンゴムと同様の優れた特性を有することに加えて、アルコール性水酸基の導入により改質され、ハンドリング性，接着性等が優れている。ただし、化学式（Ｉ）中のＡｒは芳香族炭化水素基であり、アルコール性水酸基を有する置換基を備えている。また、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ は脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基である。さらに、ｎは正の整数である。
【化１】
（もっと読む）

【課題】高硬度で、耐クラック性、耐熱性に優れた硬化物を与える硬化性シリコーン材料、光学素子等の光学デバイス用封止材料、その他の半導体素子等の電子デバイス用封止材料、電気絶縁性コーティング材料の原料として有用なケイ素原子に結合した水素原子を有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】(a)ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個有する有機ケイ素化合物と、(b)ヒドロシリル化反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に２個有する多環式炭化水素化合物と、の付加反応生成物であって、かつ、ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個有する多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物、および、上記(a)成分と上記(b)成分とをヒドロシリル化反応触媒の存在下で付加反応させることを含む上記多環式炭化水素基含有有機ケイ素化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩチップのバッファコート材料や再配線層として好適な、キュア前後での膜減りが少なく、２．７以下という低誘電率で、製膜に適した粘度で、通常の光重合開始剤を用いても空気中で硬化可能な感光性シリコーン化合物を含む樹脂組成物、並びにそれを用いた樹脂絶縁膜を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有する感光性シリコーン化合物１００質量部、及び光重合開始剤０．１〜２０質量部を含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】吸湿性が低く、低比誘電率であり、かつ機械的強度に優れた絶縁膜形成用組成物ならびにシリカ系膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分；下記一般式（１）で表される化合物１００〜１０モル％及び（Ｂ）成分；下記一般式（２）で表される化合物０〜９０モル％を加水分解縮合して得られたポリマーと、有機溶媒と、を含有する。Ｒ^１_ａＸ_３−ａＳｉ−（Ｒ^３）_ｃ−ＳｉＸ’_３−ｂＲ^２_ｂ ・・・・・（１） （式中、Ｒ^１、Ｒ^２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、Ｘ、Ｘ’はハロゲン原子を表し、Ｒ^３は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ｍは１〜６の整数）を表し、ａ、ｂは０〜３の整数を示し、ｃは０または１を示す。）Ｒ^４_ｄＳｉＸ”_４−ｄ ・・・・・（２） （式中、Ｒ^４は前記Ｒ^１、Ｒ^２と同じ基を表し、Ｘ”はハロゲン原子またはアルコキシル基を表し、ｄは０〜３の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】高屈折率で可視光透過率が高く、熱負荷後のクラック耐性に優れた硬化膜を形成しうるシロキサン系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルミニウム、スズ、チタンおよびジルコニウムからの少なくとも１種の金属化合物粒子の存在下、アルコキシシラン化合物を、溶媒中、酸触媒により加水分解し、縮合反応させた反応生成物と、一般式（１）または（３）の熱架橋性化合物を含有する。
（もっと読む）

【課題】高集積化、多層化に好適な低比誘電率絶縁膜のに用いるシリカ系膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】シリカ系膜は、（Ａ）成分；Ｓｉ（ＯＲ^１）_４および一般式Ｒ^２_ａ（Ｒ^３Ｏ）_３−ａＳｉ−（Ｒ^６）_ｃ−Ｓｉ（ＯＲ^４）_３−ｂＲ^５_ｂで表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、原料比で全シラン化合物の５０モル％以上含む混合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物、ならびに有機溶媒と、を含む絶縁膜形成用組成物を紫外線または電子線により硬化して得られる。（式中、Ｒ^２〜Ｒ^５は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ａおよびｂは同一または異なり、０〜１の数を示し、Ｒ^６は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である。）を表し、ｃは０または１を示す。） （もっと読む）