【課題】多面体オリゴマーシルセスキオキサン（polyhedral oligomeric silsesquinoxane）(POSS)ケージ分子においてケイ素-酸素骨格（framework）の選択的操作を可能とする方法を提供する。
【解決手段】シリコーン、またはプロトン性溶媒(例えばROH、H₂Oなど)と反応してヒドロキシド[OH]^-；アルコキシド[RO]^-などを生じ得るいずれかの化合物のいずれかを標的とし得る塩基の作用を利用する多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)を製造する3つの方法。これら３つの方法によって、重合、グラフトまたはその他の望ましい化学反応に好適なPOSS種へと最終的に変換される、さらなる化学操作を受け得る新たなPOSS種が得られる。 （もっと読む）

ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、式（Ｉ）のポリシラン単位、及び式（ＩＩ）のポリシラザン単位を含有し、式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立してＨ、Ｓｉ、及びＮ原子から選択され、Ｒ^３はＨ、Ｓｉ、又はＣ原子から選択され、ａ≧１であり、ｂ≧１であり、（ａ＋ｂ）≧２である。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、溶媒を含む組成物に製剤することができる。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、ＰＭＤ及びＳＴＩ用途において１００ｎｍ以下の幅及び少なくとも６のアスペクト比を有する溝を充填するために用いることができる。ポリシラン−ポリシラザン共重合体は、１分子当たり２個以上のケイ素原子を有するペルクロロポリシランの第１級アミンでのアミノ化により調製することができる。

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【課題】有機ケイ素基を表面に備える金属又は金属酸化物の微粒子を含有するポリシロキサン組成物、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】平均組成式(Ａ)で表されるポリシロキサン、及び、一般式(Ｂ)で表される有機ケイ素基が化学結合により表面に固定化された金属又は金属酸化物の微粒子からなるポリシロキサン組成物、並びに、金属又は金属酸化物の微粒子、及び、反応性官能基を有する一価有機基、及びケイ素原子結合加水分解性基若しくはシラノール基を有する有機ケイ素化合物を、水の存在下、２００℃以上の温度の条件下で反応させ、前記ポリシロキサン及び前記金属又は金属酸化物の微粒子を同時に形成することを特徴とする前記ポリシロキサン組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光透過率、耐光性及び耐熱性、光屈折率、機械的強度などの特性において優れており、成形する場合、殆ど収縮のないＬＥＤ封止用シロキサン樹脂を製造することのできるＬＥＤ封止用シロキサン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、有機アルコキシシランと有機シランジオールとの非加水縮合反応、または、有機アルコキシシラン及び金属アルコキシドの混合物と、有機シランジオールとの非加水縮合反応によって製造される有機オリゴシロキサンハイブリッドを含有するＬＥＤ封止用樹脂組成物を提供する。前記の有機オリゴシランハイブリッドは、縮合度の高い無機網目構造を有し、少なくとも１つ以上の有機基または有機官能基を包含する。また、本発明は、前記のＬＥＤ封止用樹脂組成物を使用してＬＥＤのカプセル化物質とすることができる。 （もっと読む）

【課題】高い架橋密度によりフィルムが脆化することなく、良好な初期引っ掻き耐性を有
するだけでなく引っ掻き耐性が高く維持されるトップコートを提供することを、本発明の
課題とする。
【解決手段】（ａ）少なくとも１個の反応性官能基を含む１種以上のポリシロキサン；多
数の粒子；及び、任意に、ポリシロキサン（ａ）のいずれかの反応性官能基と反応する少
なくとも１個の官能基を含む１種以上の硬化剤を含有する組成物を提供することによって
、上記課題が解決された。更に、前述の塗料組成物多−成分複合材料を基材及び塗装され
た基材に塗布する工程、が提供される。この塗料組成物を調製する工程も提供される。本
発明の塗料組成物多−成分複合材料は、屋外暴露後、引っかき抵抗性の保持が可能である
高度の引っかき抵抗性の着色−プラス−透明塗料を提供する。 （もっと読む）

【課題】有機薄膜上での塗布時の濡れ性、ＵＶ−ｉ線での感光特性及び有機薄膜に対する接着性に優れ、低温硬化が可能である感光性ポリオルガノシロキサン組成物、これを用いたポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン及びその形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）特定構造のシラノール化合物と特定構造のアルコキシシラン化合物とを、触媒の存在下で水添加を行うことなく重合させて得られるポリシロキサン１００質量部、（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部、（ｃ）非イオン性界面活性剤０．０１〜１０質量部、並びに（ｄ）アルコール性水酸基を有する化合物及びケトン化合物から選択される少なくとも１種の有機溶媒１０〜１５０質量部、を含む感光性ポリオルガノシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】経時で硬化遅延が起こりにくいという特徴を有する、アルコール脱離型シリコーン樹脂に基づく湿気硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルコール脱離型シリコーン樹脂、ジオクチル錫化合物と珪酸化合物を混合した触媒、シラザンを含有することを特徴とする湿気硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】支持基体に対して、耐擦傷性、耐クラック性、防汚性やマジックインキの拭き取り性を付与可能なシリコーン樹脂を含むコーティング剤組成物を提供する。
【解決手段】
（Ｒ¹Ｒ²Ｒ³ＳｉＯ_1/2）_a（Ｒ⁴Ｒ⁵ＳｉＯ_2/2）_b（Ｒ⁶ＳｉＯ_3/2）_c（ＳｉＯ_4/2）_d（Ｏ_1/2Ｘ）_e（１） ［Ｘは水素原子又はアルキル基、Ｒ¹〜Ｒ⁶は一価脂肪族炭化水素基又は一価芳香族炭化水素基、上記置換基は、フッ素原子、ポリ（ヘキサフルオロプロピレンオキサイド）構造含有基等である。ただし、Ｒのいずれかは、ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ⁷）ＣＯＯＣＨ₂− （２） （式中、Ｒ⁷は水素原子又はメチル基である。）で表される基を１個以上含み、ａ、ｂ、ｄ、ｅは０又は正数、ｃは正数でａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１である。］で表されるシリコーン樹脂を含む無溶剤且つ室温にて液状である光及び熱硬化性コーティング剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 プロセス適応性に優れるシリカ系絶縁膜の形成、すなわちシリカ系絶縁膜の機械強度を向上させるシリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】 （ａ）成分下記一般式（１）
【化１】


（ｂ）成分下記一般式（２）
【化２】


（ｃ）成分：前記（ａ）成分を溶解可能な溶媒及び
（ｄ）成分：オニウム塩
を含有してなるシリカ系被膜形成用組成物であって（ａ）成分の配合割合が（ｂ）成分１モルに対し０．０１モル〜０．６モルであるシリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜形成用組成物を基体上に塗布し、塗布された被膜を加熱して硬化膜を形成することを特徴とするシリカ系被膜の製造方法及びシリカ系被膜を有する電子部品。 （もっと読む）

本発明は、他の性質を低減させずに、架橋密度および弾性率が減少したコンタクトレンズおよび／または生物医学用具が得られる、２つの重合性ビニル部分の代わりに１つの重合性ビニル部分を持つ親水性ジカチオンシロキサンプレポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】耐久性の優れた撥水、撥油性樹脂基体を提供することを目的とする。
【解決手段】表面に加水分解可能な樹脂層を有する樹脂基板表面にシロキサン結合を有する膜を設けた樹脂基体としたもので、この構成によると、加水分解可能な樹脂層とシロキサン結合を有する膜が強固に結合し、また、加水分解可能な樹脂層と樹脂基板は熱膨張の差が小さいため密着力に優れるため、耐久性の優れたシロキサン結合を有する膜が設けられた基体を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、応答速度の速い液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶素子の提供である。
【解決手段】 シロキサンポリマーと、フッ素原子で置換されたネマチック液晶と、二色性色素とを含む液晶組成物、及び該液晶組成物を含む液晶素子。 （もっと読む）

【解決手段】 合成樹脂製透明基材の最外層に設けられたＦ原子及びＳｉ原子を含む３次元架橋された反射防止膜であり、
（Ｉ）架橋構造は、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合及びＳｉ−Ｃ₂Ｈ₄−（ＣＦ₂）_n−Ｃ₂Ｈ₄−Ｓｉ結合（ｎは４又は６）で構成されており、
（ＩＩ）反射防止膜中のＦ原子とＳｉ原子の比率がＦ／Ｓｉ＝８．０〜１０．０（モル比）、
（ＩＩＩ）Ｓｉに結合する全１価有機置換基中、−Ｃ₂Ｈ₄−（ＣＦ₂）_aＦ（ａは４，６，８，１０又は１２）で示されるパーフルオロアルキル基を９０〜１００モル％含有する
耐アルカリ性に優れる反射防止膜。
【効果】 本発明の反射防止膜及びこれが表面に形成された物品は、耐アルカリ性、耐擦傷性及び防汚性に優れたものである。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：下記一般式（８）；
ＳｉＸ_４ …（８）
（式中、Ｘは加水分解性基を示す。）
で表される化合物、一般式（８）で表される化合物の多量体、及び／又は一般式（８）で表される化合物の部分縮合物を必須成分として加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、
（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び
（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなり、上記化合物が、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシシランを含むものである。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｓｉ原子に結合しているＨ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＣ原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．９０〜０．２０である樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）成分：非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】 シリコンウェハー、ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ或いはレンズなどの基体上に、透明であって、しかも、低反射率で且つ低誘電率であるとともに、械的強度や基板に対する密着性に優れた薄膜を形成するための膜形成用組成物及び膜の形成方法に関する。
【解決手段】 粒子表面に存在するシラノール基が、疎水性基を有する表面改質剤で処理されたシリカ粒子と、ポリシラン化合物とを含有することを特徴とする膜形成用組成物とする。また、この膜形成用組成物を、基体上に塗布した後に、熱処理及び／又は光処理することを特徴とする膜形成方法とする。 （もっと読む）