【課題】 高い透明性と高い反射防止性能を有する被膜付基材を提供することを目的とする。
【解決手段】 中空粒子を８５〜１００重量％含有する被膜を有する被膜付基材。マトリックス樹脂を含有しない中空シリカ・シリコーン粒子あるいは有機重合体被覆中空シリカ・シリコーン粒子は凝集のない均一な被膜を基材上に形成し、高い透明性と高い反射防止性能を有する被膜付基材を提供することを見出した。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、生産性が良い中空シリコーン系微粒子と加水分解可能な珪素化合物および硬化触媒を含有することにより、低温での硬化で、反射率が低く透明性と膜強度の高い被膜付基材を提供する。
【解決手段】 中空シリコーン系微粒子（Ａ）、加水分解可能な珪素化合物（Ｂ）および、シラノール基の縮合を促進する硬化触媒（Ｃ）を含有し、室温または室温から基材が損なわれない温度（熱可塑性樹脂では変形温度、熱硬化性樹脂では分解温度以下）で反応硬化させて得られることを特徴とする、被膜が単独または他の被膜とともに基材表面上に形成された中空シリコーン系被膜付基材。 （もっと読む）

【課題】 被膜形成用マトリックスにフッ素系樹脂を用いながら、反射率が低くかつ膜強度の高い被膜付基材を提供することを目的とする。
【解決手段】
ＳｉＯ_４／２単位、ＲＳｉＯ_３／２単位、Ｒ_２ＳｉＯ_２／２単位、Ｒ_３ＳｉＯ_１／２単位からなる群より選ばれる１単位以上からなり、ＲＳｉＯ_３／２単位の割合が５０モル％以上であるシリコーン系化合物を含有する、フッ素含有中空シリコーン粒子。該粒子は、有機高分子粒子および／または有機溶剤からなる粒子を、特定のシリコーン系化合物で被覆し、必要な場合には更にフッ素含有重合体で被覆した粒子を合成し、粒子中の有機高分子粒子および／または有機溶剤を除去して得ることができる。この粒子とフッ素系樹脂とからなる被膜を有する被膜付基材は低反射率と高い膜強度とを両立させた。 （もっと読む）

【課題】高温処理を行なう必要なく、低誘電率で且つ高い機械的強度を有する被膜を形成することができる低誘電率被膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】低誘電率粒子とマトリクス形成材料とを含有する低誘電率被膜形成用樹脂組成物に関する。低誘電率粒子が、テトラアルコキシシラン、アミノ基を有するアルコキシシラン、４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤、２つ以上の水酸基を有する多価アルコール、及び水を含有する混合液中で、テトラアルコキシシランとアミノ基を有するアルコキシシランをアルカリ存在下で共加水分解反応させることにより、メソ孔を表面に有する球状のシリカナノ粒子を生成させた後、酸溶液中で４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤を抽出することによって調製されたメソポーラスシリカ微粒子であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高い空隙率を持ち低い屈折率を示し、生産性も良く、壊れ難く、しかも粒子径分布の狭い１μｍ以下の粒子径を有する中空シリコーン系微粒子凝集体とマトリックス樹脂とからなる被膜によって、屈折率が低く膜強度の高い透明な被膜を有する基材を提供することを目的とする。
【解決手段】 中空シリコーン系粒子が凝集した、体積平均粒子径が０．０４〜１μｍの範囲にある中空シリコーン系粒子凝集体を使用する。該凝集体と有機溶剤およびマトリックス樹脂を含んでなる透明被膜形成用塗布液により屈折率が低く膜強度の高い透明な被膜を作成することができる。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性に優れ、しかも液晶パネルの長期信頼性も十分に確保できる配向膜を提供する。また、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供するとともに、この配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供する。
【解決手段】液晶分子の配向を制御する配向膜である。少なくとも有機ケイ素材料で形成され、この有機ケイ素材料は、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するポリシルセスキオキサンからなる。このポリシルセスキオキサンは、その分子内に液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有し、かつ、シラノール基中の水素が置換基により置換されて不活性化されている。 （もっと読む）

【課題】ポリウレタンフォームに配合しても経時で発生するアルデヒド類の量が極めて少ないポリウレタンフォーム用整泡剤、及びこの整泡剤を用いたポリウレタンフォームの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともオルガノハイドロジェンポリシロキサンとアリル基含有ポリオキシアルキレン化合物とのヒドロシリル化反応により合成されるポリエーテル変性シリコーン化合物を含有してなるポリウレタンフォーム用整泡剤であって、
該ポリエーテル変性シリコーン化合物が、0.23規定の塩酸中、50℃で0.5時間加熱エージングした時のアルデヒドの発生量が該ポリエーテル変性シリコーン化合物に対して質量基準で100ppm以下のものである上記整泡剤、並びにポリオール、イソシアネート化合物、発泡剤、触媒及び上記整泡剤を含有する混合物を発泡させることを含むポリウレタンフォームを製造する方法。 （もっと読む）

本発明は、生体適合性医療デバイスの製造に有用な高分子組成物に関する。さらに詳細には、本発明は、眼科用デバイスの製造に有用な望ましい物理的特性を有する高分子組成物を形成するための重合が可能なある種の陽イオンモノマーに関する。こうした特性には、重合医療デバイスを水で抽出する能力が挙げられる。これは、技術上一般的であるように、有機溶媒の使用を避ける。ポリマー組成物は、重合性陽イオン親水基により末端封止される重合ケイ素含有モノマーを含む。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして、ポリシロキサンに基づく良好な特性とレジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、現像欠陥を著しく低減し得る感放射線性樹脂組成物、及び当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記の一般式（Ｉ）、及びＳｉＲ^４_３Ｈで表されるシラン化合物を、水の存在下、重縮合することにより得られるポリシロキサン、並びに当該ポリシロキサン、及び感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物。
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【課題】
ＡｒＦ露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】
（Ａ）オキセタニル基を含有するシルセスキオキサン単位、（Ｂ）炭化水素基を含有するシルセスキオキサン単位を含むことを特徴とするシリコーン共重合体を提供する。 （もっと読む）

本発明は、シリコーン樹脂のコーティング組成物において固形体を濃縮する改良された方法を提供した。上記組成物は、所定された基材に適用する場合、最終塗膜の厚さを増加するのに必要な高い固形体レベルを含む。 （もっと読む）

【課題】被覆時、加熱等して硬化時にクラックがはいらず、真空紫外光領域〜近赤外光領域で光透過率が優れたシリカ系ガラスとなるハイドロジェンポリシロキサン等を提供する。
【解決手段】環状ジハイドロジェンポリシロキサン、特定のシロキサン単位式等を有するハイドロジェンポリシロキサン、加水分解縮合によるそれらの製造方法、これらポリシロキサンを型内で硬化させることによる１７０ｎｍ以上の真空紫外光領域〜紫外光領域で光透過率９０〜１００％であり可視光領域〜１７００ｎｍ以下の近赤外光領域で光透過率９８〜１００％であるシリカ系ガラス成形体の製造方法、該シリカ系ガラス成形体、該シリカ系ガラスからなる光学素子、これらポリシロキサンを光学部材に被覆し硬化させることによる該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子の製造方法、該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子。 （もっと読む）

一段法で疎水性シリカ粒子を製造するための方法を提供する。前記方法によって製造される、任意で染料および／または磁化性成分を含む疎水性シリカミクロ粒子およびナノ粒子も提供する。本発明は、潜在指紋の検出、視覚化および／または分析における前記シリカナノ粒子の使用も含む。
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低誘電率重合体は、一般式I：(Ｒ¹-Ｒ²)_n-Ｓｉ-(Ｘ¹)_4-n（ここで、Ｘ¹はそれぞれ独立して水素及び無機脱離基から選択され、Ｒ²は任意の基であって１〜６個の炭素原子を有するアルキレン又はアリーレンを備え、Ｒ¹はポリシクロアルキル基であり、ｎは整数１〜３である）で表される化合物から誘導された単量体単位を備える。重合体は優れた電気的及び機械的特性を有する。 （もっと読む）

【課題】 電気化学素子への応用に好適な、熱安定性、機械的安定性、耐溶媒性が良好で、低湿度においてもプロトン伝導性の優れた経済的に安価なハイブリッドシリカポリマーとその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）：
(HO_３S-CH_２-CH_２-CH_２-SiO_3/2)_ｎ（HS-CH_２-CH_２-CH_２-SiO_3/2)_ｍ（SiO_２)_1-n-m ‥（１）
（式中、ｎ＝０．３０〜０．６３、ｍ＝０．０３〜０．４０、ｎ＋ｍ＝０．３３〜０．７０である。）
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有メソポーラスシリカポリマーであるメソポーラスなシリカポリマー。このポリマーをプロトン伝導性材料として、燃料電池、キャパシター、電解セルなどの電気化学素子に応用する。 （もっと読む）

式I(式中のR₁は加水分解可能な基、R₂は分極率を減少させる有機基、R_３は架橋性の炭化水素基である)を有するモノマーを重合してシロキサン材料を形成することによって得られる組成物を備える薄膜。また、本発明は該薄膜を製造する方法に関する。該薄膜は、集積回路装置内の低誘電率誘電体に用いることができる。新規誘電体は半導体基板トポグラフィー上で良好な局部的及び全体的平坦性を生ずる優れた平坦化性能を有し、誘電体及び酸化物ライナー蒸着後の化学機械的平坦化の必要性を減少又は除去する。
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