【課題】湿熱環境下における接着耐久性に優れる太陽電池保護シートの提供。
【解決手段】表面処理を施されたポリマー基材と、前記ポリマー基材上に設けられた厚みが０．８μｍ〜１２μｍであり、かつ、複合ポリマーを含む少なくとも一層のポリマー層を有し、前記複合ポリマーが分子中に下記式で表されるポリシロキサン構造単位と非ポリシロキサン系構造単位とを含む太陽電池保護シート（式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または１価の有機基を表し、ｎは１以上の整数を表す。Ｒ^１およびＲ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。複数のＲ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）。
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【課題】透明性、耐熱性（耐熱透明性）、感度、屈折率、表面硬度及び耐擦傷性が優れると共に、ＩＴＯ透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適に用いられ、かつ十分な解像性を有するポリシロキサン系ネガ型感放射線性組成物、その組成物から形成された保護膜及び層間絶縁膜、並びにその保護膜及び層間絶縁膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】
［Ａ］（ａ１）式（１）で示される加水分解性シラン化合物及び式（２）で示される加水分解性シラン化合物を反応させて得られる加水分解縮合物
［Ｂ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤
［Ｃ］アルコール系溶剤を含有する感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】貯蔵保管時にアルコキシシラン縮合物の分子量の増大が抑制されており、薄膜形成用組成物の粘度の上昇が生じ難く、従って、膜厚が均一であり、微細パターン形状を有する薄膜を高精度に形成することを可能とする薄膜形成用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシ基を有するアルコキシシランを水の存在下で加水分解縮合させることにより、アルコキシシラン縮合物と、水と、アルコキシ基に由来するアルコールとを含む溶液を得る工程と、溶液を加熱し、水とアルコールとを共沸させることにより、脱水し、薄膜形成用組成物を得る工程とを備え、得られた薄膜形成用組成物中に含まれているアルコキシシラン縮合物に対する残存アルコールのモル比が、アルコキシシラン縮合物の縮合速度Ｒに応じて図１の破線Ｘで囲まれている範囲内とされている、薄膜形成用組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】吸湿性が低く、低比誘電率であり、かつ機械的強度に優れた絶縁膜形成用組成物ならびにシリカ系膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分；下記一般式（１）で表される化合物１００〜１０モル％及び（Ｂ）成分；下記一般式（２）で表される化合物０〜９０モル％を加水分解縮合して得られたポリマーと、有機溶媒と、を含有する。Ｒ^１_ａＸ_３−ａＳｉ−（Ｒ^３）_ｃ−ＳｉＸ’_３−ｂＲ^２_ｂ ・・・・・（１） （式中、Ｒ^１、Ｒ^２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、Ｘ、Ｘ’はハロゲン原子を表し、Ｒ^３は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ｍは１〜６の整数）を表し、ａ、ｂは０〜３の整数を示し、ｃは０または１を示す。）Ｒ^４_ｄＳｉＸ”_４−ｄ ・・・・・（２） （式中、Ｒ^４は前記Ｒ^１、Ｒ^２と同じ基を表し、Ｘ”はハロゲン原子またはアルコキシル基を表し、ｄは０〜３の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】電子機器及び電子機器などの信頼性を低下させることのないシリコーンオリゴマーの製造法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン又はアルコキシ基を有するシランカップリング剤を固体酸触媒の存在下、アルコキシ基に対して０．１５〜０．５当量の水と反応させ、反応後、該固体酸触媒を除去することを特徴とするシリコーンオリゴマーの製造法。 （もっと読む）

【課題】微細な溝も完全に埋め込み、かつ下地段差を平坦化するのに十分な厚塗りができ、下地パターン全体の均一な平坦性を達成でき、さらに水を含まず誘電率の低い、膜特性に優れた絶縁膜を形成することのできる、シロキサン類を用いる、絶縁膜形成用塗布液および半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造に用いられる絶縁膜形成用塗布液であって、少なくとも一種類の有機置換基と結合したＳｉ原子を含むシロキサン類を含み、かつ、前記シロキサン類の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナルの積分値から求められる所定の式で示される含有比率Ｘが、所定の式を満足する、１５０℃以上３００℃以下の自己流動化温度を有することを特徴とする絶縁膜形成用塗布液、及びこれを用いる半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供することにより前記課題を解決する。 （もっと読む）

第一工程でＳｉに結合した水素原子を１分子当たり少なくとも１個、有利に少なくとも２個有するオルガノポリシロキサン（１）を一般式（Ｉ）：Ｒ^１−（Ａ−Ｃ_ｎＨ_２ｎ）_ｍ−Ａ^１−Ｈ［式中Ｒ^１はヒドロシリル化反応でＳｉ−Ｈ基が付加可能な置換又は非置換の一価炭化水素基、有利に脂肪族Ｃ−Ｃ多重結合を有する炭化水素基、ＡはＯ−、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−、ウレタン基及び尿素基の群から選択される二価極性有機基、Ａ^１はＯ−、−ＮＨ−及び−ＮＲ′−（式中Ｒ′は炭素原子１〜１８個を有する一価炭化水素基を表す）の群から選択される二価極性有機基、ｎは１〜２０の整数及びｍは正の整数である］の実質的に線状のオリゴマー又はポリマー化合物（２）と反応させ、第二工程で得られたＨ−Ａ^１基を有する中間生成物（４）を１分子当たり少なくとも２個のイソシアナート基を有する有機化合物（５）と反応させることにより製造可能な新規の親水性シロキサンコポリマーが記載され、但し親水性シロキサンコポリマー製造に使用される化合物（１）及び（２）の含水量は２０００質量ppmよりも低い。 （もっと読む）