【課題】キャビテーションが発生する環境下において、表面に形成する被膜の密着性を確保しつつ、このキャビテーションエロージョンを低減することができる耐キャビテーションエロージョン用部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液体が接触する基材の表面に非晶質炭素被膜を形成した耐キャビテーションエロージョン用部材１であって、該部材１は、該基材２の表面に、複数の柱状構造体４ａ…からなる第一非晶質炭素被膜４と、該第一非晶質炭素被膜の表面に、配向性なく堆積された複数の粒状構造体５ａ…からなる第二非晶質炭素被膜５と、を少なくとも備えてなる。 （もっと読む）

【課題】各種の描画対象体に対して十分に小さい図画を容易に描画し得る描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象体（物体：基材１０）の一面に描画用ガスを吹き付けると共に描画すべき図画Ｇａ（星の絵）を構成する各画素に対応する一面上の各所定位置（形成位置Ｐｂ１０，Ｐｃ１０・・）に描画用ビームを照射して描画用ビームの照射領域に描画用ガス中の描画材料を堆積させることにより、描画対象体の一面とは電気抵抗値が相違する点（マーク４ａ）を所定位置に形成して図画Ｇａを描画する。 （もっと読む）

【課題】画像形成工程中の感光体表面のクリーニング工程における問題発生の防止および画像濃度ムラ等の低減が可能な感光体を生産性良く供給する電子写真用感光体の製造方法の提供。
【解決手段】第一の堆積膜形成装置内に円筒状基体を設置し、円筒状基体のいずれか一方の端部を堆積膜形成装置直近の壁面に接地した状態で原料ガスを高周波電力により分解し、少なくとも珪素原子を母材とし水素原子及び／またはハロゲン原子で形成される非単結晶珪素膜を円筒状基体に堆積し、非単結晶珪素膜を堆積した円筒状基体を第一の堆積膜形成装置から取り出し、第二の堆積膜形成装置内に取り出した円筒状基体を設置し、円筒状基体の両端部それぞれを堆積膜形成装置直近の壁面に接地した状態で、少なくとも炭化水素系の原料ガスを高周波電力により分解し、少なくとも炭素原子を母材とし水素原子及び／またはハロゲン原子で形成される非単結晶炭素膜を堆積する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック容器内面に膜質が良好な炭素膜のようなバリヤ膜を高速度で形成することが可能なプラスチック容器の内面へのバリヤ膜形成装置を提供する。
【解決手段】回転式真空シール機構に排気管１１を通して連通され、プラスチック容器の内面にバリヤ膜を成膜するための複数の成膜チャンバを具備し、排気管は導電材料からなり、その内部の所望位置に通気性で導電性を有するハニカム形導体３９が配置され、かつ成膜チャンバは容器が挿入された時にその容器を取り囲む大きさの空洞を有する外部電極と、容器の口部が位置する側の前記外部電極の端面に絶縁部材を介して取り付けられ、排気管が接続されと共に接地される導電性のチャンバヘッド部材と、外部電極内の容器内にチャンバヘッド部材側から挿入され、成膜ガスを吹き出すためのガス供給管と、外部電極と接地されたチャンバヘッド部材及び排気管との間に電界を付与するための電界付与手段とを備える。 （もっと読む）

化学蒸着（ＣＶＤ）によって形状記憶または超弾性薄膜を堆積する方法、ならびにステント、移植片、ステント移植片、ステントカバー、閉塞およびフィルタメンブレン、および薬物送達デバイスを含めた、それによって作製される医療デバイス。この方法は、ニッケルチタン形状記憶または超弾性合金の被膜の製造時にＣＶＤ反応を使用して基板表面上に薄膜が堆積されることを含む。そのようなニッケルチタンベースの形状記憶または超弾性合金は、二元ニッケルチタン合金であってよく、または三元、四元、もしくはそれよりも高いレベルの合金を形成するために追加の化合物を含んでいてもよい。
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【課題】ＦＩＢ−ＣＶＤを用い、簡便に任意形状の３次元的な微小立体構造操作具を作製する微小立体構造物操作具の作製方法及びそれによって作製される微小立体構造操作具を提供する。
【解決手段】微小立体構造操作具の作製方法において、３次元ＣＡＤを利用して設計した微小立体構造操作具を三次元モデルから算出した描画データに基づいて、原料ガスへの集束イオンビームの照射によるＦＩＢ−ＣＶＤ法を用い、集束イオンビームの照射位置、ビームの強度、照射時間、照射間隔を制御することで任意形状のＤＬＣブレードナイフ１２，１３及びニードル１４を有する微小立体構造物操作具としてのナノカッターを作製する。 （もっと読む）

【課題】高温下でも化学的に安定なケイ素化合物セラミックスからなる水素選択性の高い水素分離膜を、低温で製造する方法を提供する。
【解決手段】成膜チェンバー内に液体有機ケイ素化合物を気化させた材料ガスおよび反応ガスを導入し、該チェンバー内に設けられた電極間に電位的に正負非対称の交番電圧を印加してプラズマを発生させ、該チェンバー内に設置された基材上にケイ素化合物セラミックスからなる水素分離膜を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、安定して成膜できる３次元中空容器の薄膜成膜装置を提供する。
【解決手段】円筒型金属製容器内の中心軸上に中空容器を固定する手段と、原料ガスを注入する金属製原料ガス導入管が中心軸上に配置され、前記金属製容器内を真空状態にする排気する手段と、方形導波管を介してマイクロ波エネルギー注入手段を具備し、円筒型金属製容器の内面と金属製原料ガス導入管で形成される半同軸共振器モードで封じ込められたマイクロ波エネルギーによって得られるプラズマを用いてＣＶＤ法により薄膜を成膜する装置において、半同軸共振器モードの中心導体である前記金属製原料ガス導入管先端部と円筒型金属製容器の天面部との間に、マイクロ波の伝搬モードである導波管モードから半同軸共振器モードに変換するために円筒型空洞器における最適な導波管モードが存在する空間部を設けたことを特徴とする３次元中空容器の薄膜成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】 めっき法のように廃液の処理が必要なく、環境に対する負荷が小さい表面処理物、表面処理方法及び表面処理装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る表面処理物は、スパッタリング法によってボルトやナット等の被処理体３の表面に耐食性物質又は犠牲物質からなる薄膜が被覆されたことを特徴とする。また、本発明に係る表面処理物は、スパッタリング法によって被処理体の表面に薄膜が被覆され、前記被処理体と前記薄膜を反応させて該被処理体の表面に反応層が形成されたことを特徴とする。前記スパッタリング法は、内部の断面形状が多角形を有する真空容器１ｂを、前記断面に対して略垂直方向を回転軸として回転させることにより、該真空容器内の被処理体３を攪拌あるいは回転させながらスパッタリングを行うものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着膜の付着を生じにくく、長期間にわたって安定に均一なガス供給を行うことが可能なプラズマ処理用のガス供給管を提供することにある。
【解決手段】プラズマ処理室内に保持された容器の内部に挿入され、該容器内にプラズマ処理用ガスを供給するためのガス供給管において、軸方向にガス流路が延びており且つ壁面にガス放出孔が全体にわたって分散している内管と、該内管を覆うように且つ該内管の外面との間に適当な空間が形成されるように設けられた金属製外管とからなり、前記金属製外管の壁面には、電磁波遮断性を有する大きさのガス吹き出し孔が全体にわたって分布していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】混合ガスの配分比率を変化させながら行うＣＶＤ法による酸化珪素薄膜の成膜において、成膜中に有機シリコーンガスと酸化力を有するガスの流量が所定の流量に達するまでの時間を短くなるようにすることにより、成膜チャンバー内に供給する混合ガスの配分比率が所定設定値に迅速に到達するようにし、所定配分比率の混合ガスの下での成膜が短時間で行えるようにした、酸化珪素薄膜の成膜装置及び成膜方法の提供を目的とする。
【解決手段】有機シリコーン化合物ガス及び／または酸化力を有するガスを定流量で供給するための複数個のマスフローコントローラーのそれぞれから送られてくるガスの流量を個別に設定すると共に、切り替えバルブによりこれらのマスフローコントローラーの何れかから送られてくる定流量の有機シリコーン化合物ガス及び／または酸化力を有するガスを成膜チャンバー内に選択して供給するようにして酸化珪素薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】 チャンバ内の電界強度分布の偏りにより膜質の均質性が悪くなるのを防止するとともに、成膜対象物の熱変形を無くし、かつ、成膜対象物全体のバリヤ性能の向上を図る。
【解決手段】 マイクロ波処理装置３０のチャンバ３２の側面３３には、マイクロ波導入口３４が複数形成されている。一台のマイクロ波発振器１０から出力されたマイクロ波（ＭＷ）が、Ｔ字分岐管２１で分岐され、同軸ケーブル２２ａ，２２ｂ及び導波管２３ａ，２３ｂによりそれぞれ別個に伝達されて、複数のマイクロ波導入口３４からチャンバ３２内部へ供給される。これにより、チャンバ３２の内部へは、マイクロ波導入口３４が形成された複数箇所から、マイクロ波が供給される。 （もっと読む）

【課題】 寸法安定性に優れた基材フィルムを使用し、高いガスバリア性を安定して維持し、かつ、良好な透明性、および、防湿性、耐衝撃性、耐熱水性、密接着性等を備えたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物からなる蒸着層とガスバリア性複合ポリマ−層とからなる複合ガスバリア層を積層したバリア性フィルムにおいて、上記の基材フィルムとして、該基材フィルムに荷重０．０５〜０．１５Ｎ／ｍｍを負荷し、かつ、昇温速度５℃／ｍｉｎで２５〜２００℃まで昇温すときに、縦方向および横方向の寸法変化率が、それぞれ−５．０〜−２．０％、−１．０〜＋１．０％の範囲内にある二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムを使用することを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】 プラズマＣＶＤ法による着色のない、密着性、ガスバリア性に優れた構成のコーティング薄膜の形成を課題として、外観、ガスバリア性そして耐久性に優れた包装材料を提供することを目的とする。
【解決手段】 合成樹脂製基材の少なくとも片面にプラズマＣＶＤ法によるガスバリア性の薄膜が形成された包装材料において、薄膜が基材面上に形成された炭素薄膜と、この炭素薄膜上に形成されたケイ素酸化物薄膜からなる積層状とする。 （もっと読む）

本発明は、容器（１２）を処理するための機械（１０）であって、容器のための少なくとも１つの処理ステーション（１１）を有し、各処理ステーションは、カバー（３２）を有し、このカバーは、この容器を外部から捉えるための把持手段（２６）が備えられ、この容器の内部とこのカバーの中に配置されている真空ポンプチャンバ（３１）との間に漏れが生じない接続手段（２８）が備えられている、ニップル（２２）が設けられているタイプで、漏れが生じない接続手段は、このカバーの中に取り付けられているカートリッジ（１０４）を有しているタイプである、機械において、このカートリッジが、接続部（１０６）と称され、ポンプチャンバの内側を延び、径方向の複数のポート（１０８）が設けられている、軸方向部分を有し、また、このポンプチャンバは、これら径方向のポートを介してカートリッジの内部と連通していることを特徴とする機械に関する。
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