説明

Fターム[4M112CA34]の内容

圧力センサ (26,807) | 素子の構造 (8,535) | ビーム(梁)型、重錘型素子 (4,892) | 保護、絶縁層 (113)

Fターム[4M112CA34]に分類される特許

101 - 113 / 113


【課題】錘部本来の動きを検出できるとともに、錘部の衝突による破壊を防止できる変位センサデバイス、その製造方法及び変位センサを提供すること。
【解決手段】変位センサデバイスにおいて、可動部材のピエゾ抵抗部は可撓性を有し、錘部を揺動可能に支持し、固定部材の錘部と対向する部位にウィスカーが形成され、固定部材が耐熱性を有する変位センサデバイスである。ウイスカーはAl、Cr及びMnなどを含む酸化物である。固定部材は、1400℃以上に融点を有する。
ウイスカー形成後に、ウイスカー層に水を吸水させてから切削油を供給し、機械加工を行い、固定部材を成形して変位センサデバイスを製造する。
変位センサデバイスを真空化した筐体中に備えた変位センサである。 (もっと読む)


【課題】ピエゾ抵抗素子とコンタクトホール内の配線との電気的接続箇所における剥離や分離等のコンタクト不良を防止する。
【解決手段】ピエゾ抵抗型3軸加速度センサは、錘部と、この錘部の周辺に配置された台座部51と、この台座部51上に固定された周辺固定部42と、錘部を周辺固定部42に可撓的に連結する梁部44とを備えている。梁部44と周辺固定部42との境界線P11を跨ぐ位置に、一方のピエゾ抵抗素子45−1が設けられ、梁部44と錘部との境界線を跨ぐ位置に、他方のピエゾ抵抗素子が設けられている。各ピエゾ抵抗素子45−1の両端部には、接合部46−1,46−2がそれぞれ形成され、この接合部46−1,46−2と、この上層に複数個直列に配列されたコンタクトホール47a内の配線48とが、電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】簡単な製造方法で耐衝撃性等を向上させる。
【解決手段】加速度センサは、錘固定部13を可撓的に支持する周辺固定部12と、錘固定部13に固定された錘部23と、この錘部23をパッケージ底部61等のセンサ搭載部から所定の間隔をおいて配置するために周辺固定部12を前記センサ搭載部に固定する台座部21と、前記センサ搭載部に対向する位置に配設され、錘部23の変位を制限するストッパ部15とを備えている。そして、ストッパ部15上等に直接、硬化性の弾性接着剤(例えば、液体から弾性体に硬化するシリコン系ゴム50等)をディスペンサ等を用いて一定量塗布している。これにより、ストッパ部15に加わる衝撃力等を弾性接着剤により吸収及び抑制でき、ストッパ部15を補強して耐衝撃性等の機械的強度を向上できる。 (もっと読む)


【課題】 半導体センサチップの特性不良の発生を抑制することができる半導体センサを提供すること。
【解決手段】 半導体センサ100は、パッケージ部材10、ICチップ30、半導体センサチップ50、蓋70などを備える。ICチップ30は、パッケージ部材10内の底面におけるチップ搭載部に、接着フィルム20を介して搭載される。そして、ICチップ30の上に、接着フィルム40を介して半導体センサチップ50が搭載される。また、ワイヤ60a、ワイヤ60bによってパッケージ部材10とICチップ30、ICチップ30と半導体センサチップ50とが電気的に接続される。そして、蓋70は、半導体センサチップ50の梁構造体51を囲う仕切部材90を備え、パッケージ部材10の接続部材80と溶接によって接続される。 (もっと読む)


【課題】 半導体センサチップの特性不良の発生を防止することができる半導体センサ及び半導体センサの製造方法を提供すること。
【解決手段】
半導体センサ100は、パッケージ部材10、ICチップ30、半導体センサチップ50、蓋70などを備える。ICチップ30は、パッケージ部材10内の底面におけるチップ搭載部に、シリコン系樹脂等などからなる接着剤20を介して搭載される。そして、ICチップ30の上に、接着フィルム40を介して半導体センサチップ50が搭載される。また、ワイヤ60a、ワイヤ60bによってパッケージ部材10とICチップ30、ICチップ30と半導体センサチップ50とが電気的に接続される。そして、パッケージ部材10、ICチップ30、半導体センサチップ50、ワイヤ60a、60bにおける表面、及び蓋70におけるパッケージ部材10内と対向する面に絶縁膜90が形成される。 (もっと読む)


【課題】信頼性と精度の高い加速度センサを提供する。
【解決手段】2枚のシリコン基板10,20を絶縁層30で貼り合わせたSOIウエハをエッチングし、第1のシリコン基板10に開口部11を設けることによって、周辺固定部12、錘固定部13、梁部14、ストッパ部15の各領域を形成する。一方、第2のシリコン基板20には、台座部21とこの台座部よりも若干薄い錘部23を形成する。そして、周辺固定部12と台座部21、及び錘固定部13と錘部23の接続箇所以外の絶縁層30をエッチングで除去する。錘部23とストッパ部15が重なるような寸法に形成することにより、この錘部23の加速度による変位は、ストッパ部15と台座部21が固定された容器の底面で制限される。これにより、過大な加速度による破壊を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】信頼性が高く、過大な加速度で破損することのない加速度センサを提供する。
【解決手段】2枚のシリコン基板10,20を絶縁層30で貼り合わせたSOIウエハを用い、第1のシリコン基板10に開口部11が設けられ、周辺固定部12、錘固定部13、梁部14、ストッパ部15の各領域が一体形成されている。一方、第2のシリコン基板20には、台座部21とこの台座部よりも若干薄い錘部23が形成され、この錘部23とストッパ部15が重なるような寸法になっている。これにより、錘部23の加速度による変位は、ストッパ部15と台座部21が固定された容器の底面で制限され、過大な加速度による破壊が防止される。 (もっと読む)


【課題】 可動電極と固定電極との間の容量変化に基づいて加速度検出を行うセンサチップと回路チップとを積層してなる容量式加速度センサ装置において、両チップの積層方向にて可動電極が変位して固定電極に乗り上げるのを防止する。
【解決手段】 可動電極24とこれに対向する固定電極31を有するセンサチップ100は、両電極24、31と回路チップ200とを対向させた状態で回路チップ200に積層され、両チップ100、200は互いの対向面にてバンプ電極300を介して電気的に接続されており、両チップ100、200の積層方向における可動電極24の厚さをa、可動電極24と回路チップ200とのギャップの距離をb、可動電極24と第1シリコン基板11の一面13とのギャップの距離をcとしたとき、距離bおよび距離cは厚さaよりも小さくなっている。 (もっと読む)


【課題】より小型化された加速度センサチップパッケージ及びその製造方法。
【解決手段】加速度センサチップパッケージ10は、フレーム部13、開口部16内に延在している梁部14aと、梁部により可動に支持されている可動部14bを含む可動構造体15、この可動構造体15の変位を検出する検出素子19を有する加速度センサチップ11と、閉環状のリング部20と、リング部の上面20aに接合され、可動構造体を開口部の上面側から封止する薄板状部材30と、フレーム部の外側領域13aから露出する複数の電極パッド18と、複数の配線部17aを有する再配線層17と、外側領域上に設けられている外部端子70と、外部端子を露出させて設けられていて、リング部、薄板状部材、電極パッド及び再配線層を封止する封止部50と、加速度センサチップの下面に接して、開口部を下面側から封止する基板12とを具えている。 (もっと読む)


【課題】フレーム部の一表面に直交する方向への重り部の変位量を制限するストッパ片の破損が起こりにくく耐衝撃性に優れた半導体加速度センサを提供する。
【解決手段】センサチップ1は、矩形枠状のフレーム部11の開口窓内に配置される重り部12がフレーム部11の一表面側において撓み部13を介してフレーム部11に揺動自在に支持されている。重り部12は、コア部12aと、コア部12aと一体に形成されコア部12aとフレーム部11との間の空間に配置される付随部12bとを有する。フレーム部11は、上記一表面に直交する方向において付随部12bと離間し上記一表面側への付随部12bの変位量を制限する薄肉のストッパ片15が各コーナー部11aそれぞれから一体に突設され、ストッパ片15における付随部12bとの対向面側においてストッパ片15を補強する補強部16が一体に突設されてなる。 (もっと読む)


【課題】3次元的に可動な可動部を備える加速度センサやジャイロなどの慣性センサについても耐衝撃性を向上させることを可能とし、同時に小型・低背化を実現出来る構成を有する慣性センサを提供する。
【解決手段】固定部と、前記固定部より所定の大きさ分の高さの低い錘部と、前記錘部と前記固定部とを繋ぐ梁部を有するセンサ部と、前記錘部を覆い、前記錘部と所定の大きさの空隙を有して、前記固定部に固着された板状の第1のストッパ部と、前記第1のストッパ部と反対側面に、所定の高さのバンプを介して前記固定部と接続された平面板状の第2のストッパ部を有する。 (もっと読む)


【課題】相異する極性が印可されるウエーハ基板と可動部同士が不可避に接触する際に電気的なショート事故を予防し、収率を高められ、製造原価が低いMEMS構造体を提供する。
【解決手段】下部シリコン層間に酸化膜が介在されたウェーハ基板、上記ウェーハ基板に一体に連結される固定部及び上記固定部に対して遊動可能に浮遊する可動部から成るMEMS構造体において、上記上部シリコン層(111)に1次ドライエッチングで形成され2次ドライエッチングにより底面の酸化膜が除去されたエッチングホールから供給されるエッチングガスにより、上記可動部(100b)を浮遊させるよう一定の深さで上記下部シリコン層(113)にドライエッチングされる浮遊空間(R)と、上記浮遊空間(R)を挟んで上記下部シリコン層(113)と対応するよう上記可動部(100b)の下部面に残留するショート防止用酸化膜(112a)とを含んで成る。 (もっと読む)


【解決手段】 一対のカバープレートの間に感知機構を可撓的に懸架するための装置及び方法であり、本装置は、結晶シリコン基板に形成された感知機構と、結晶シリコン基板に形成された一対のカバープレートと、感知機構とカバープレートの内の第1のカバープレートとの間に固定された関係にある第1の複数の相補形の境界面と、感知機構とカバープレートの内の第2のカバープレートとの間に可撓的に懸架される第2の複数の相補形の境界面であって、可撓的に懸架される境界面の内の1つ又はそれ以上は、相補形の雄型と雌型の境界面である、第2の複数の相補形の境界面と、を含んでいる。 (もっと読む)


101 - 113 / 113