【課題】 簡便で自己整合な方法で形成されたボーダレスコンタクトを有する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に第１絶縁層を形成する工程と、第１絶縁層の上に素子を形成する工程と、第１絶縁層の上に、素子を覆う第２絶縁層を形成することで、素子の上に第２絶縁層の突出部を形成する工程と、第２絶縁層の上に上面が平坦なレジスト層を形成する工程と、第２絶縁層の突出部が露出するまでレジスト層を削除する工程と、レジスト層をマスクとして素子の上面が露出するまで第２絶縁層をエッチングする工程と、を含み、第２絶縁層及び素子上に配線層を形成する工程を更に備える。 （もっと読む）

【課題】 ＴＭＲ値が高く、ＲＡが低いＭＴＪデバイスを得ること。
【解決手段】 磁気抵抗素子の製造方法は、金属層を第１の厚さに形成する金属層形成ステップと、金属層を不活性ガスのプラズマに晒し、前記第１の厚さよりも小さい第２の厚さにエッチングするプラズマトリートメントを実行するプラズマ処理ステップと、前記プラズマトリートメントを施した金属層を酸化し、トンネルバリアを構成する金属酸化物を形成する酸化ステップと、を有するトンネルバリア形成ステップを有する。 （もっと読む）

【課題】難エッチング材を含む部材であっても、簡便に、かつ、良好な形状にパターニングすることができるドライエッチングによるパターニング方法及びインクジェットヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】被エッチング部材のドライエッチングを施す面に感光性樹脂のマスク２４ａを形成した後、撥水処理２８を施す。撥水処理後、感光性樹脂のマスクをポストベークする。次いで、感光性樹脂のマスクを介してドライエッチングを施すことにより被エッチング部材をパターニングする。被エッチング部材としては、磁性体材料、強誘電体材料、及び貴金属の少なくとも一種を含む膜を有するものを好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】空洞を有する被エッチング部材上にテーパー形状の側面を有するマスクを容易に形成して良好にパターニングを行うことができるドライエッチングによるパターニング方法及びそれに用いるモールド並びにインクジェットヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】空洞１３を有する被エッチング部材１０のドライエッチングを施す面に光硬化性樹脂２４を付与し、被エッチング部材上に形成すべきテーパー形状の側面を有するマスク２４ａに対応したパターンを有するモールド５０を光硬化性樹脂に押し付ける。光硬化性樹脂に光を照射して硬化させた後、モールドを引き離すことにより、被エッチング部材上にモールドのパターンが反映されたテーパー形状の側面を有するマスクを形成する。マスクを介してドライエッチングを施すことにより被エッチング部材をパターニングした後、マスクを除去する。 （もっと読む）

【課題】ＳＴＴ- ＭＲＡＭ用のＭＴＪ素子の製造プロセスにおいて、２つの方向のサイズを精度よくコントロールしつつ、ポストパターンを転写できるようにする。
【解決手段】 ＭＴＪ素子上に、ハードマスクスペーサ層およびハードマスク層を形成し、ハードマスク層上に第１サイズの幅の第１平行ラインパターン（第１フォトレジスト膜）を形成する。これをマスクとしてハードマスク層に転写し、平行ハードマスクラインを形成する（第１エッチング）。平行ハードマスクラインおよびハードマスクスペーサ層上に、平行ハードマスクラインと交差し、かつ第２サイズの幅を有する第２平行ラインパターン（第２フォトレジスト膜）を形成し、これをハードマスク層に転写する（第２エッチング）。これによりサイズコントロールのなされたポスト領域が形成される。このポスト領域をマスクスペーサ層から下の各層に転写して複数のＭＴＪ素子を形成する（第３エッチング）。 （もっと読む）

【課題】磁壁移動を利用した情報記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】磁壁移動を利用した情報記録媒体において、磁化方向を有する磁区を含んで第１方向に形成された磁性層と、磁性層の下面に形成された軟磁性層と、を備える磁壁移動を利用した情報記録媒体である。これにより、磁性層の屈曲領域での磁壁を容易に移動させうる。 （もっと読む）