【課題】微細化に対して有利な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体記憶装置は、複数のメモリセルが配置されるメモリセルアレイ１１と、前記複数のメモリセルのデータをラッチし、前記メモリセルアレイのデータの入力または出力（Ｉ／Ｏ）ごとに分割して配置される複数のアドレス領域（ＩＯ＜０＞領域〜ＩＯ＜７＞領域）と、前記複数のアドレス領域に対応して配置され、それぞれが前記複数のアドレス領域と電気的に直列に接続される内部バス配線２０と、前記内部バス配線のデータ転送を制御する制御回路１５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】向上された動作速度を有する不揮発性メモリ装置及び不揮発性メモリ装置を制御するコントローラの動作方法を提供する。
【解決手段】本発明の不揮発性メモリ装置は、データのプログラム、読出し又は消去を遂行する第１プレーン、データのプログラム、読出し又は消去を遂行する第２プレーン、及び第１プレーン又は第２プレーンから共通バスを通じて伝送されるデータを外部へ出力し、外部から受信されるデータを、共通バスを通じて第１プレーン又は第２プレーンへ伝送するデータ入出力回路を含む。第１プレーンでプログラム、読出し又は消去が遂行される時、データ入出力回路は共通バスを通じて第２プレーンとデータを交換する。 （もっと読む）

【課題】メモリセルの動作を従来よりも高速化できる半導体装置を提供する。
【解決手段】フローティングゲートFGとコントロールゲートCG、第１導電型ソース13s及び第１導電型ドレイン13dを有する第１導電型ＭＯＳトランジスタ13と、前記フローティングゲートFGと前記コントロールゲートCG、第２導電型ソース１４ｓ及び第２導電型ドレイン14dを有する第２導電型ＭＯＳトランジスタ14と、前記第１導電型ドレイン13d及び前記第２導電型ドレイン14dに接続される第１のソース／ドレイン11bと、第２のソース／ドレイン11aと、ゲートを有する選択トランジスタ１１と、前記第１導電型ソースに接続される第１電源線VpLと、前記第２導電型ソースに接続される第２電源線VnLと、前記選択トランジスタ11の第２のソース／ドレイン11aに接続されるビット線BLと、前記選択トランジスタ11のゲートに接続されるワード線WLと、を有する。 （もっと読む）

【課題】低消費電流で正確なデータ読出を行なうことが可能な不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】このフラッシュメモリでは、４つのメモリマットＭＡＴ０〜ＭＡＴ３の各々にセンスアンプＳＡ０〜ＳＡｍを設け、通常の読出動作モードでは、全メモリマットＭＡＴ０〜ＭＡＴ３のセンスアンプＳＡ０〜ＳＡｍに参照電圧ＶＲを供給し、低速読出モードでは、選択されたメモリマットＭＡＴのセンスアンプＳＡ０〜ＳＡｍのみに参照電圧ＶＲを供給する。したがって、低消費電力で正確なデータ読出を行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】読出速度が速い半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】フラッシュメモリ３は、選択ビット線ＢＬをプリチャージするプリチャージ回路４５と、定電流源５０と、電流検知型のセンスアンプ２３と、選択ビット線ＢＬがメモリアレイＭＡ２に属する場合は、選択ビット線ＢＬおよび定電流源５０をそれぞれセンスアンプ２３の入力ノードＬＢＴ，ＬＢＢに接続し、選択ビット線ＢＬがメモリアレイＭＡ３に属する場合は、選択ビット線ＢＬおよび定電流源５０を入力ノードＬＢＢ，ＬＢＴに接続する切換回路ＳＷＴ２，ＳＷＢ２，ＳＷとを含む。したがって、ビット線ＢＬのプリチャージとデータ読出を並列に実行できる。 （もっと読む）

【課題】インタリーブ動作を実行可能に構成され且つＬＭアドレススキャン動作を実行する半導体記憶装置における消費電力の削減、及び動作の高速化を図る。
【解決手段】複数のカラムのうちの少なくとも１つは、複数ビットのデータの書き込み動作の進行状況を示すＬＭフラグデータを記憶するためのＬＭカラムである。カラム制御回路の各々は、対応するメモリコアにＬＭカラムが存在するか否かを確認するためのＬＭアドレススキャン動作をする。そのＬＭアドレススキャン動作の結果をレジスタに格納し、その後の各種動作においては、前記データラッチ回路に保持されたデータが第１のデータである場合、そのメモリコアにおいて前記ＬＭカラムからＬＭフラグデータを読み出す動作を実行する一方、前記レジスタに保持されたデータが第２のデータである場合、そのメモリコアにおいて前記ＬＭカラムからＬＭフラグデータを読み出す動作を実行しない。 （もっと読む）

【課題】読出動作の精度を向上させた不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】メモリストリングは、半導体基板の上方に設けられ、複数のメモリセルを含む。制御回路は、複数のメモリセルのうち、選択メモリセルに保持されたデータを読み出す読出動作を実行する。メモリストリングは、半導体層、電荷蓄積層、及び導電層を有する。半導体層は、半導体基板に対して垂直方向に延びメモリセルのボディとして機能する。電荷蓄積層は、半導体層の側面に設けられ、電荷を蓄積可能とされる。導電層は、半導体層と共に電荷蓄積層を挟むよう設けられメモリセルのゲートとして機能する。制御回路は、読出動作の実行前に、選択メモリセル及び非選択メモリセルを導通状態としてメモリストリングの一端から他端へと電流を流すリフレッシュ動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】不揮発性半導体記憶装置においてリーク電流を抑制し読み出し動作を正確に実行する。
【解決手段】この不揮発性半導体記憶装置は、１導電型の半導体層と、第１方向に並ぶように前記第１半導体層上に形成される複数の第２導電型のウエルを有する。この複数のウエルの各々に、メモリブロックが配列される。複数のメモリブロックは、それぞれ複数のメモリセル及び選択トランジスタを直列接続してなる複数のＮＡＮＤセルユニットを配列してなる。複数のワード線が、１つのメモリブロック中の複数のＮＡＮＤセルユニットに共通に接続される。複数のビット線は、第１方向に延びて複数のメモリブロックに存在するＮＡＮＤセルユニットの一端に接続される。ソース線は、ＮＡＮＤセルユニットの他端に接続される。ウエルドライバは、第１電圧、又は第１電圧よりも大きい第２電圧を選択的に複数の前記ウエルの各々に与える制御を行う。 （もっと読む）

【課題】不揮発性メモリアレイのための高速感知スキームを提供する。
【解決手段】メモリアレイは、ビット線をVSSなどの第1電圧レベルまで予備充電するための予備充電回路を備えた、相補形ビット線構成で配置された不揮発性メモリセルと、相補形ビット線対の基準ビット線に基準電荷を印加するための基準回路と、相補形ビット線対の間の電圧差を感知するためのビット線感知増幅器とを備えている。データビット線の電圧は、起動されたワード線に接続されたプログラム済みの不揮発性メモリセルがワード線電圧をデータビット線に結合すると変化する。 （もっと読む）

【課題】不揮発性メモリ装置に対して、読出し／プログラム時間を短縮できる、向上された読出しスキームを提供する。
【解決手段】本発明の一特徴に係る不揮発性メモリ装置のソフト判定読出し方法は、ソフト判定読出し命令を受信し、選択されたワードラインへ読出し電圧を印加し、前記選択されたワードラインの選択されたメモリセルに各々連結されたビットラインをプリチャージし、前記ビットラインのプリチャージされた電圧及び前記選択されたワードラインに供給された読出し電圧は変化されない状態で、前記選択されたメモリセルの状態を連続的に感知することを含む。 （もっと読む）

【課題】新たなリードパラメータで不揮発性メモリ装置をリードするリードリトライを行う方法、該方法を行う装置を提供する。
【解決手段】リードリトライ動作及び／またはその部属的なリードリトライ動作は、リードリトライ動作が保証（ｗａｒｒａｎｔｅｄ）されるか否かを判断する前に初期化されるか、完了することができる。例えば、ＮＡＮＤフラッシュメモリ装置のページは、新たなリード電圧レベルをページのワードラインに印加して、リードリトライ動作でリードされうる。例えば、リードリトライ動作は、エラー訂正動作でターゲットページのデータの以前リードページのエラーを訂正不能と判断される前に、ターゲットページで行われる。 （もっと読む）

【課題】読み出しデータの精度を高めることが可能な半導体メモリを提供する。
【解決手段】メモリセルから第１ビット線ＢＬ_０〜ＢＬ_ｍ及び第２ビット線ＢＬＶ_０〜ＢＬＶ_ｍを介して読み出された読出信号同士の差分に基づき読出データの値を判定するにあたり、上記第１及び第２ビット線に共に電流が流れている場合にはメモリセルがデータ消去状態にあると判断し、上記判定したデータの値に拘わらず固定のデータ値を読出データとして出力する。 （もっと読む）

【課題】インタリーブ動作を実行可能に構成された半導体記憶装置における更なる動作の高速化を図る。
【解決手段】複数のアドレス変換回路１５１ａ〜１５１ｄが、メモリコア１１ａ〜１１ｄの各々にそれぞれ設けられ、外部から供給される論理アドレスデータを物理アドレスデータに変換する。アドレス変換回路は、インタリーブ動作において第１のメモリコアが第２のメモリコアより先にアクセスされる場合には、論理アドレスデータを変換せず物理アドレスとして出力する一方、第２のメモリコアが第１のメモリコアより先にアクセスされる場合には、論理アドレスデータに所定値を加算したアドレスデータに対応する物理アドレスデータとして出力する。 （もっと読む）

【課題】動作信頼性を向上出来る半導体記憶装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の半導体記憶装置１は、メモリセルアレイ１０と、ビット線ＢＬと、ソース線ＳＬと、センス回路１３とを備える。メモリセルアレイ１０は、半導体基板４０上に積層されたメモリセルＭＴが直列接続されたメモリストリング１６を有する。ビット線ＢＬは、いずれかのメモリストリング１６に接続され、データを転送可能である。ソース線ＳＬは、いずれかのメモリストリング１６に接続され、データの読み出し時において、ビット線ＢＬから読み出し電流が流れ込む。センス回路１３は、ビット線ＢＬに接続され、読み出しデータをセンスする。センス回路１３の動作タイミングは、ソース線ＳＬに流れる電流に基づいて決定される。 （もっと読む）

【課題】周辺回路の面積を縮小する。
【解決手段】
複数のメモリブロックの各々には、基板に対し垂直な方向に延びるように複数のメモリストリングが配列される。各メモリストリングは、複数のメモリトランジスタ及びダミートランジスタを直列接続してなる。ドレイン側選択ゲート線及びソース側選択ゲート線は、メモリブロックが選択されるときには転送トランジスタが導通することにより電圧を制御回路から供給される一方、メモリブロックが非選択とされるときは転送トランジスタが非導通状態となることによりフローティング状態とされる。ダミーワード線は、メモリブロックが選択されるときには第１の転送トランジスタが導通することにより制御回路から電圧を供給される一方、メモリブロックが非選択とされるときは第１の転送トランジスタとは別の第２の転送トランジスタにより電圧を供給される。 （もっと読む）

【課題】選択メモリセルに与える影響を緩和し、正確にデータを書き込むことのできる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】一の実施の形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、メモリセルアレイと、選択メモリセルに書き込みパルス電圧を印加するとともに非選択メモリセルに中間電圧を印加する書き込み動作、書き込みベリファイ動作及び書き込みパルス電圧を第１のステップアップ値だけ上昇させるステップアップ動作を繰り返す制御を実行する制御部とを備える。制御部は、書き込みパルス電圧の印加回数が第１の回数より少ない第１期間では中間電圧を一定の値に保ち、書き込みパルス電圧の印加回数が第１の回数以上である第２期間では中間電圧を第２のステップアップ値だけ上昇させるようにステップアップ動作を制御し、且つ、第２のステップアップ値に基づき第１のステップアップ値を決定する。 （もっと読む）

【課題】信頼性を向上することが出来る半導体記憶装置を提供すること。
【解決手段】第１メモリセルＭＣと、第１ワード線ＷＬと、第１ビット線ＢＬに流れる第１電流を検知する第１センスアンプ１２と、を具備し前記第１センスアンプ１２は、第１供給部と、検出器と、前記検出器からの出力をカウントするカウンタと、を含み、前記カウンタは、第２供給部（２２、３１、３３）と、第２蓄積部と、検知部とを具備する。 （もっと読む）