【課題】 アノード基板の隔壁間に蛍光膜を形成する工程が改善された蛍光膜構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 隔壁によって区分される内部空間を有する基板を備える段階と、前記隔壁及び前記内部空間上に犠牲層を形成し、前記基板上面を平坦化する段階と、前記犠牲層上に蛍光体を形成する段階と、前記犠牲層を除去し、前記蛍光体を前記内部空間に位置させる段階と、を含むことを特徴とする蛍光膜構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 蛍光体層の帯電を防止でき、蛍光体層の発光強度を増大させるとともに、コントラストを向上させる。
【解決手段】 光透過性のフェースプレート２の内面に形成された蛍光体層８と、フェースプレート２の内面に蛍光体層８を各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂに区画して形成されたブラックマトリクス膜６と、蛍光体層８に対向して配置され、且つ蛍光体層８に電子線１３を出射する電子線源１２と、フェースプレート２の画像表示側から見たブラックマトリクス膜６の面積占有率を６０％乃至９５％の範囲に設定することにより、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂとブラックマトリクス膜６との接触面積を増大させることで、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂの電子線１３の照射に起因する帯電が抑制される。また、好ましくは、ブラックマトリクス膜６の表面に金属層７を積層させることにより、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂと金属層７との接触面積をより増大させることで、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂの電子線１３の照射に起因する帯電がさらに抑制される。 （もっと読む）

本発明は、基板と、該基板上に形成されたカソード電極と、該カソード電極に接続された電界エミッタとを備えるカソード部と、前記電界エミッタを取り囲む形態で、前記電界エミッタ周囲の上部に形成された電界放出−抑制ゲート部と、少なくとも１つの貫通孔を有する金属メッシュと、該金属メッシュの少なくとも一領域上に形成された誘電体膜とを備える電界放出−誘導ゲート部とを含む電界放出素子、及びこれを用いた電界放出表示装置を提供する。これにより、従来技術に係る電界放出素子の問題点であるゲートリーク電流、アノード電圧によって生じる電子放出、電子ビームのダイバージェンスなどを大きく改善できるという効果がある。

（もっと読む）

新規なヘテロダイヤモンドイド含有フィールドエミッションデバイス（ＦＥＤ）が開示される。本発明の一態様においては、ヘテロダイヤモンドイドのヘテロ原子はフィールドエミッションデバイスの陰極すなわち電子放出性部品の一部として電子供与性の種（たとえば、窒素）を構成する。
（もっと読む）

電界放射デバイスの形成方法、及び得られた、ファイバーセグメントによって形成されたエミッタを有するデバイス。相当小さな半径を有するチップは、チップを反応液にある期間さらすことによってファイバーセグメント上に形成される。チップは、低い仕事関数を有する伝導性材料でコーティングされてエミッタを形成する。
（もっと読む）

電子エミッタを備える装置を形成する装置及び方法。本方法は、束ねられたファイバーセグメントのシートの第１の面を反応液にさらし、前記ファイバーセグメントの第１の端部を前記反応液と反応させて、該第１の端部から物質を除去するステップを含む。コーティング物質は、前記物質が除去された前記第１の面上に堆積される。本方法はまた、束ねられたファイバーセグメントの前記シートの第２の面を反応液にさらし、前記ファイバーセグメントの第２の端部を前記反応液と反応させて、該第２の端部から物質を除去して前記コーティング物質を露出させるステップを含む。
（もっと読む）

ナノ構造炭素材料を容易にかつ様々な基材上に形成し得る製造方法を提供する。前記製造方法として、導電層が形成された基材上にリソグラフィによりナノ構造炭素材料をパターニングするパターニング工程を有する電子放出源の製造方法であって、前記パターニング工程は前記導電層上にナノ構造炭素材料を形成するナノ構造炭素材料形成工程を含み、このナノ構造炭素材料形成工程が、大気圧または大気圧近傍の圧力下で高周波電圧を対向する電極間に印加して放電プラズマを発生させる大気圧プラズマ法により行われることを特徴とする電子放出源の製造方法である。 （もっと読む）

蛍光体を含む発光体層（２）と、少なくとも２つの電極（６，７）を含む発光素子（１）であって、前記発光素子（１）は異なる誘電率を有する少なくとも２種の電気的絶縁体層（２，９）を含み、前記電気的絶縁体層（２，９）の１つは前記発光体層（２）であり、前記２つの電極（６，７）のうちいずれかの電極は、前記絶縁体層のいずれかと接して形成されている。これにより、沿面放電を利用して発光でき、製造コストが安く、発光効率が良好であり、大画面ディスプレイを作製した際の消費電力が小さい発光素子を提供できる。
（もっと読む）

本発明に係る電子放出性織布は、極めて簡単に製造することが可能であり、大面積に容易形成することができると共に、表示装置をはじめ各種用途に利用可能である電子放出源の提供することを目的としている。 本発明の電子放出性織布は、導電性層１を絶縁層２で被覆した第１の線状体３と、導電性材料からなる第２の線状体４とを交差させてなることを特徴としている。 及び、本発明の電子放出性織布は、第１の線状体の浮部及び／又は沈部における、第２の線状体の第１の線状体との交差部表面に、カーボン系材料が設けられていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】感光性導電ペーストを焼成して得られる配線を用いた配線基板形成において、配線の高さおよび断面形状を制御し、配線の欠陥を抑制するとともに、画像形成装置の発光効率・信頼性向上を実現しつつ、配線基板の素子作成工程及びこれを用いた画像形成装置の真空信頼性を得る。
【解決手段】感光性導電ペーストを焼成して得られる配線の下に、この配線となじみのいい下地層を配置して配線基板を形成する。 （もっと読む）

【課題】炭素材料の優れた電気伝導度、熱伝導度、耐食性を有し、かつ、仕事関数が小さい大面積の表示装置用電子放出材料およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】電子放出領域として、表面から所定の領域に炭素以外のイオンを打ち込んだグラファイトシート１０１が基板１０２上に接着層１０３で固定され、前記グラファイトシートと絶縁層１０５と介して導電性ゲート層１０６が設けられ、グラファイトシート１０１に対向して蛍光体層１０９を配置した。この構成により、炭素材料の優れた特性を有し、仕事関数が小さい電子放出材料が得られ、高効率の電界放出素子、大面積表示装置が実現できる。 （もっと読む）

【課題】 平面型画像形成装置の内部の耐大気圧支持部材としてのスペーサの表面の凹凸に均質な高抵抗膜を形成する。
【解決手段】 表面に凹凸が形成されたスペーサ１０２０を形成する。凹凸を有するスペーサ１０２０を形成した後、固定治具１０３０に固定する。そして、スパッタリング法を用いて、スペーサ１０２０に導電性膜を矢印Ｓ方向から成膜する。矢印Ｓ方向は、スペーサ基準面１０２１の法線方向Ｎから、スペーサ１０２０の長手方向に所望の角度偏向した方向である。固定冶具１０３０には駆動機構が備え付けられおり、固定治具１０３０を移動しながらスペーサ１０２０に成膜を実施することにより、スペーサ全体に均一に膜を形成できる。 （もっと読む）

【課題】マトリクス電子源を画像表示装置に用いて駆動してもにじみの少ない画像を得ることが可能なマトリクス電子源の駆動方法を提供する。
【解決手段】マトリクス電子源を駆動する駆動回路は、各行選択電極Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４の各電位および各列選択電極Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３，Ｙ４の各電位を図１（ａ）〜（ｈ）のように制御する。表面電極に関して選択時の電位をＶ_XH、非選択時の電位をＶ_XLとし、下部電極に関して非選択時の電位をＶ_YH、選択時の電位をＶ_YLとするとき、Ｖ_XH＞Ｖ_XL，Ｖ_YH＞Ｖ_YLとなるように、各電位Ｖ_XH，Ｖ_XL，Ｖ_YH，Ｖ_YLを設定してある。駆動回路は、各列選択電極Ｙ１〜Ｙ４の電位を線順次に選択時の電位Ｖ_YLに一定時間だけ制御し、各行選択電極Ｘ１〜Ｘ４の電位を点灯したいサブピクセルに対応して選択時の電位Ｖ_XHに制御する。 （もっと読む）

【課題】各々の画素の輝度を補正するための個々の電子源の電子放出特性を評価を行なうにあたり、表示画面に不要な表示を行なわないようにすることにより、高い頻度での特性評価を可能にする。
【解決手段】電子線強度を制御する制御電極３と、陽極５の間に検出電極４を設け、陽極電圧が検出電極電圧Ｖｄより低くなるように設定を行なって電子放出特性評価を行なう。また、得られた評価結果を記憶し、それをもとに輝度信号を補正する機構を設ける。さらに、表示すべき画素の輝度をリアルタイムに調べ、すべての画素の輝度が零となるような場合にも電子放出特性評価を行なう。 （もっと読む）

【課題】 カーボンナノチューブ、フラーレン、ナノパーティクル、ナノカプセル及びカーボンナノホーンの中の少なくとも一つを有するカーボン材料を用いて、廉価にして、低電圧駆動で高効率な電子放出を可能にすること。
【解決手段】 絶縁基板１０１、カソード導体１０２及びカーボンナノチューブを含むペースト状カーボン層を積層形成した後、乾燥、焼成する。次に、カーボン層に刃で筋入れを行うことにより、筋の壁部３０２からカーボンナノチューブが露出したエミッタ３０１を形成する。その後、リブ状ゲート電極４０４を形成することにより電子放出源が完成する。 （もっと読む）